Пристрій для дискретного випаровування матеріалів в вакуумі
Номер патенту: 8142
Опубліковано: 26.12.1995
Автори: Іваницький Валентин Петрович, Баран Микола Юрійович, Колінько Сергій Олексійович, Фірцак Юрій Юрійович
Формула / Реферат
Устройство для дискретного испарения материалов в вакууме, содержащее испаритель, дозатор испаряемого материала и закрытый виброжелоб, расположенный между испарителем и дозатором, отличающееся тем, что, с целью расширения функциональных возможностей и повышения эффективности использования испаряемого материала при сохранении высокого качества наносимого покрытия, испаритель выполнен в виде тигля, верхняя поверхность которого в направлении виброжелоба образует угол а с горизонтальной плоскостью и разделена перегородками с толщиной стенок t s 0,4 мм на ячейки с квадратным поперечным сечением dxd-2x2-10x10 мм2 и высотой h³3d, причем верхняя часть ячеек высотой 0,5 h наклонена по отношению к своей нижней части также под углом а в противоположную от виброжелоба сторону, а угол a=arctg2d/h, при этом виброжелоб расположен выше испарителя на величину L ³ 4 мм. .
Текст
Изобретение относится к технике нанесения покрытий и пленок в вакууме и может быть использовано в полупроводниковой, лазерной и оптической технологии» премущественно для дискретного термического испарения !сложных материалов. Цель изобретения расширение функциональных возможностей и повышение эффективности использования испаряемого материала при сохранении высокого качества покрытия о Подающий желоб устройства выполнен в виде закрытой полости с приемным и подающим отверстиями и расположен на расстоянии 1,5*4 см выше испарителя. Испаритель выполнен в виде тигля, верхняя в направлении желоба кромка которого образует угол оС с горизонтальной плоскостью,, Верхняя часть тигля разделена пере— городками с тощиной стенок f £0,4 мм на ячейки с квадратным поперечным сечением d x d = * 2 * 2 - 1 O x 1 O мм1" и высотой Ь ^ З Я причем верхняя часть ячеек высотой h/2 наклонена по отношению к нижней части под углом Ы> в противоположную от желоба сторону» где & - arctg 2d/h. 1 табл.» 3 ил. (Л С 05 ••£> J 18-91 1649841 Изобретение относится к технике нанесения покрытий"и пленок в вакууме и может быть использовано в полупроводниковой, лазерной и оптической технологии, преимущественно для дискретного термического испарения сложных материалов. Целью изобретения является расширение функциональных возможностей и 10 повышение эффективности использования испаряемого материала при сохранении высокого качества наносимого покрытия. На фиг.Т представлен общий вид уст- 15 ройства; на фиг о 2 — схема, иллюстри-* рующая выбор угла среза кромок тигля; на фиг.З - выбор угла наклона ячеек тигляв Устройство содержит дозатор 1 с 20 крышкой 2, в который засыпан порошок испаряемого материала 3, и виброжелоб Д. Дозатор 1 присоединен к приводу 5, а виброжелоб 4 с помощью держателя 6 присоединен к приводу 7с 25 Виброжелоб 4 представляет собой закрытую полость с приемным 8 и подающим 9 отверстиями. На расстоянии L от выходного отверстия выброжелоба 4 установлен тигель 10, верхняя часть 30 которого в направлении подачи частиц из виброжелоба 4 образует угол об с горизонтальной плоскостью и-разбита на ячейки с квадратным поперечным сечением d x d = 2 * 2 - 1 0 x 1 0 мм 2 и высотой h. На расстоянии h/2 от верх- 35 ней кромки тигля 10 ячейки наклонены по отношению к своей нижней части под утлом С6 = arctg 2d/h в направлении подачи частиц. Дозатор 1 и виб40 рожелоб 4 защищены от нагрева и затулений экраном 11, в отверстии которо— т о помещают подающий конец виброже— лоба 4. Учитывая также наблюдавшиеся отдельно выбросы частиц виброжело45 бом 4 для предотвращения последних виброжелоб 4 выполнен в виде закрытой полости. как значения, при которых практичес- ' ки не происходит рассеивания тиглем частиц испаряемого материала (см. таблицу). Нижнее граничное значение величины £ определяется свойствами того материала, из которого изготавливаются ячейки, например возможными толщинами ф о л ы молибдена, тантала, ниобия и т.д. Верхнее граничное значение d = 10 мм определено как такое, при котором размеры испарителя не превышают разумные с точки зрения их экономичности (более 3 см по высоте) , Оптимальными являются , значения d = 3 мм. Соотношение высоты h и иирнны d ячеек h ~ 3d выбраны из условия появления экономии испаряемого материала в сравнении с прототипом (см.таблицу)о Оптимальными являются h - 8d. Расстояние от подающего отверстия желоба до тигля LSr 4 см выбрано по результатам испытаний из условия отсутствия существенного рассеяния частиц тиглем в сторону, противоположную направлению наклона верхней части тигля в Верхнее граничное значение L определяется размерами вакуумной камеры, а оптимальное значен ние L определяется размером тигля и его температурой. Угол наклона верхней части ячеек 0 6 е arctg 2d/h выбран из условия предотвращения прямых падений частиц испаряемого материала на дно тигля Ш и их обратного выброса (фиг.З). Срез верхней кромки тигля 10 выполнен под углом об к направлению подачи частиц для предотвращения разбрасывания подаваемых частиц стенками ячеек. При этом условии рассеиваемая от одних стенок ячеек частица порошка будет задерживаться противоположными стенками. Устройство работает следующим образом. В вакуумной камере монтируют ти— ' Разделение верхней части тигля 10 гель 10» систему его нагрева и экна систему узких и длинных ячеек ран 11, После загрузки дозатора 1 50 обеспечивает хорошую направленность укрепляют его в вакуумной камере потока пара и тем самым существенно вместе с его приводом 5. Прикрепляповышать эффективность использования ют к приводу 7 с помощью держателя испаряемого материала t за счет умень6 виброжелоб 4 так, чтобы его приемшения его расхода на запыление внутное отверстие 9 совпало с отверстием рикамерной оснастки вакуумной уста- 55 дозатора 1, а подающее отверстие 9 t новки. Нижняя граница размеров попесовпало с отверстием в экране 11 и речного сечения ячеек d = 2 мн и было расположено на расстоянии L. толщина стенок f£=0,4 мм выбрана от верхней кромки тигля 10. После 5 • 164984 1 * достижения в вакуумной камере необРезультаты иссследований указы|ходимого вакуума нагревают тигель вают, что данное устройство более 10 до требуемой температуры испаречем в три раза повышает эффективность ния материала, включают привод 7 и использования испаряемого материала привод 5 дозатора 1 и проводят налы- ^ при значительном расширении технололение необходимого покрытия» Скорость гических возможностей его использоподачи вещества и, соответственно, вания „ При этом сохраняется высоскорость конденсации покрытия регукое качество наносимых покрытий и лируют приводом 5 дозатора 1,, • пленок, to При испытании устройства исполь[Формула и з о б р е т е н и я зовался конический дозатор с отверУстройство для дискретного испастием, подобранным под размер порошка рения материалов в вакууме, содержаиспаряемого материала, В качестве щее испаритель, дозатор испаряемого , приводов дозатора и желоба испольматериала и закрытый виброжелоб, зовались электромагниты* Тигли израсположенный между испарителем и ' готавливались из ниобиєвой фольги дозатором, о т л и ч а ю щ е е с я различной толічиньї с применением тотем, что, с целью расширения функчечной сварки. Для испарения испольдаональных возможностей и повышения зовался прокалиброванный по размерам 20 эффективности использования испаряепорошок стекла As^Se^. Испарение мого материала при сохранении высопроводили при различных температурах кого качества наносимого покрытия, испарителя Т ц , которые измерялись с испаритель выполнен в виде тигля, помощью термопарных датчиков» Эффекверхняя поверхность которого в нативность Р использования испаряемого 25 правлении виброжелоба образует угол вещества определяли как отношение С с горизонтальной плоскостью и р а з £ массы осажденного конденсата на кругделена перегородками с толщиной стелой подложке из стекла диаметром нок f £ 0 , 4 мм на ячейки с квадратный 80 мм к массе испаренного порошка, поперечным сечением d*d*2*22 загруженного в дозатор. Качество ЗО 10 я 10 мм " и высотой h b 3 d , причем пленок изучали с помощью микроверхняя часть ячеек высотой 0,5 h скопа МИИ-4. Результаты испытаний наклонена по отношению к своей нижустройства представлены в таблице ней части также под углом &L в проти(размеры поперечного сечения тигля воположную от виброжелоба сторону» 1 3,0 л 3,0 см , расстояние от тигля 2d до подложки равно 10 см, плоскость * 35 а угол
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for discrete evaporation of materials in vacuum
Автори англійськоюBaran Mykola Yuriiovych, Ivanytskyi Valentyn Petrovych, Kolinko Serhii Oleksiiovych, Firtsak Yurii Yuriiovych
Назва патенту російськоюУстройство для дискретного испарения материалов в вакууме
Автори російськоюБаран Николай Юрьевич, Иваницкий Валентин Петрович, Колинько Сергей Алексеевич, Фирцак Юрий Юрьевич
МПК / Мітки
МПК: C23C 14/26
Мітки: пристрій, дискретного, випаровування, матеріалів, вакуумі
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-8142-pristrijj-dlya-diskretnogo-viparovuvannya-materialiv-v-vakuumi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для дискретного випаровування матеріалів в вакуумі</a>
Попередній патент: Кільце опорне конвертера коробчастого перетину
Наступний патент: Спосіб ванадування сплавів заліза у рідині
Випадковий патент: Спосіб і пристрій для передачі інформації в системі, яка використовує різні протоколи передачі