Спосіб плазмохімічної обробки матеріалів
Номер патенту: 31602
Опубліковано: 10.04.2008
Формула / Реферат
Спосіб плазмохімічної обробки матеріалів, який полягає у травленні напівпровідникових пластин, що проводять в циліндричному реакторі, в якому плазму ВЧ-розряду збуджують при пониженому тиску плазмоутворюючого газу шляхом створення в реакторі високочастотного електричного поля напруженістю Е, яке зумовлює появу хімічно активних частинок плазми концентрацією N, пластини розташовують у спеціальних касетах на відстані h одна від одної, який відрізняється тим, що відстань h між пластинами визначають пропорційно зміні співвідношення E/N.
Текст
Спосіб плазмохімічної обробки матеріалів, який полягає у травленні напівпровідникових пла 3 31602 4 стінок якого закріплюють касети з пластинами 2, касетах, відстань h між якими визначають пропорвідстань h між якими пропорційна зміні співвідноційно зміні співвідношення E/N. шення E/N. В даному реакторі індуктивним або На кресленні (Фіг.) представлена схема реакємнісним способом створюють високочастотне ційної камери, в якій здійснюється даний спосіб. електричне поле напруженістю Е, яке при понижеВона складається з циліндричного реактора 1, ному тиску плазмоутворюючого газу збуджує плаякий служить для збудження ВЧ-розряду 3, до стізму ВЧ-розряду 3, що зумовлює появу хімічно акнок якого закріплені касети з пластинами 2, на тивних частинок плазми концентрацією N. яких пластини розташовані із змінним кроком h. Спосіб здійснюється наступним чином. Травлення проводять в циліндричному реакторі 1, до Комп’ютерна верстка М. Мацело Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for plasmochemical treatment of materials
Автори англійськоюKravchenko Yurii Stepanovych, Savytskyi Anton Yuriiovych
Назва патенту російськоюМетод плазмохимической обработки материалов
Автори російськоюКравченко Юрий Степанович, Савицкий Антон Юрьевич
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/302
Мітки: матеріалів, спосіб, плазмохімічної, обробки
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-31602-sposib-plazmokhimichno-obrobki-materialiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб плазмохімічної обробки матеріалів</a>
Попередній патент: Акустична антена
Наступний патент: Мікроелектронний пристрій для виміру оптичного випромінювання
Випадковий патент: Похідні піколінаміду, спосіб їх одержання, проміжні сполуки, гербіцидна композиція, спосіб боротьби з небажаною рослинністю