Спосіб очищення рідких діелектриків, переважно поліметилсилоксанової рідини пмс-10

Спосіб очищення рідких діелектриків, переважно поліметилсилоксанової рідини ПМС-10, адсо 3 20693 4 термін служби конденсатора і його електротехнічні зневоднювання адсорбенту, а прожарювання при характеристики у цілому. недостатньо високій температурі не ефективно За прототип прийнятий спосіб очистки рідких через наявність води в порах адсорбенту. діелектриків адсорбентом [Гулевич А.И. ПроизОзнаки: "перед змішуванням поліметилсілокводство силовых конденсаторов / А.И.Гулевич, санову рідину П МС-10 нагрівають до температури А.П.Киреев - М.: Высшая школа, 1975. -365с.], де 40-45°С, а активний окис алюмінію - до темпераяк адсорбент застосований активний окис алюмітури 140-145°С" - дозволяють забезпечити оптинію. Спосіб включає прожарювання активного окимальне співвідношення між в'язкістю рідкого діесу алюмінію при температурі 450-500°С, охололектрика, зниження якої полегшує дифузію дження його до температури навколишнього сторонніх включень у пори адсорбенту, і кінетичсередовища і змішування активного окису алюміною енергією молекул, збільшення якої послабляє нію з нагрітою до 20-30°С конденсаторною олією здатність адсорбенту утримува ти на своїй поверхчи з нагрітим до 30-40°С трихлордифенілом, відні речовини, що видаляються. стоювання отриманої суміші з наступним фільтруТому, при очищенні будь-якого рідкого діелекванням її для відділення частинок активного окису трика, дослідним шляхом визначають оптимальну алюмінію. робочу температуру для адсорбенту і рідкого діеОзнаки, які збігаються з істотними ознаками лектрика. корисної моделі, що заявляється, наступні - викоТаким чином, відмітні ознаки способу, який заристання як адсорбенту активного окису алюмінію, являється, у сук упності з істотними ознаками, допрожарювання активного окису алюмінію й охолозволяють підвищити адсорбційну здатність активдження його до температури навколишнього сереного окису алюмінію, що дозволить поліпшити довища, змішування з нагрітим рідким діелектриякість очищення поліметилсілоксанової рідини ком, відстоювання отриманої суміші з її наступним ПМС-10. фільтруванням. Спосіб здійснюють таким чином. Причина, що перешкоджає одержанню очікуЄмність з активним окисом алюмінію поміщаваного технічного результату: відомий спосіб не ють у термошкаф і прожарюють на протязі чотипередбачає дій, що можуть підвищити адсорбційну рьох годин при температурі 450-500°С. Потім заздатність активного окису алюмінію, і тому не залишають холонути в термошкафу до температури безпечує якісне очищення поліметилсілоксанової навколишнього середовища. Безпосередньо перідини ПМС-10. ред змішуванням нагрівають поліметилсілоксанову В основу корисної моделі поставлено задачу рідину ПМС-10 до температури 40-45°С, а активудосконалити спосіб очищення рідких діелектриків, ний окис алюмінію - до температури 140-145°С і переважно поліметилсілоксанової рідини ПМС-10, змішують нагріту ПМС-10 з нагрітим активним окишляхом визначення оптимальної температури сом алюмінію. Отриману суміш відстоюють протянагрівання поліметилсілоксанової рідини ПМС-10 і гом 24 годин, потім роблять фільтрування суміші адсорбенту перед їхнім змішуванням, що дозвочерез подвійний шар фільтрувального паперу. лить підвищити адсорбційну здатність активного Вибір температурних режимів і адсорбентів окису алюмінію і за рахунок цього значно поліпшидля способу очищення поліметилсілоксанової ріти якість очищення поліметилсілоксанової рідини дини ПМС-10 проводили на підставі експерименПМС-10. тальних робіт і результатів вимірів електрофізичСутність корисної моделі, що заявляється, поних характеристик ПМС-10 до і після очищення. лягає у тому, що у способі очищення рідких діелеЯк адсорбент були застосовані наступні речоктриків, переважно поліметилсілоксанової рідини вини: силікагель, фулерова земля, активний окис ПМС-10 адсорбентом, який включає використання алюмінію. як адсорбенту активного окису алюмінію, прожаНайкращі результати очищення поліметилсірювання активного окису алюмінію при темпералоксанової рідини ПМС-10 отримані при використурі 450-500°С і охолодження його до температури танні такого адсорбенту як активний окис алюмінавколишнього середовища, змішування з нагрінію, за умови, що перед змішуванням тою поліметилсілоксановою рідиною ПМС-10, відполіметилсілоксанову рідину ПМС-10 нагрівають стоювання суміші і її наступне фільтрування, згіддо температури 40-45°С, а активний окис алюмінію но корисної моделі, перед змішуванням - до температури 140-145°С. поліметилсілоксанову рідину ПМС-10 нагрівають У таблиці 1 приведені електрофізичні характедо температури 40-45°С, а активний окис алюмінію ристики ПМС-10 до і після очищення згідно з спо- до температури 140-145°С. собом, що заявляється. Розкриваючи причинно-наслідковий зв'язок між сукупністю істотних ознак корисної моделі, що Таблиця 1 заявляється, і технічним результатом, необхідно Електрофізичні відзначити наступне. характеристики поліметилсілоксанової рідини Адсорбційна здатність адсорбентів, що впливає на якість очищення, залежить від структури До очиПісля поверхні адсорбенту, вологості, робочої темпераХарактеристики щення очищентури. ня Висока температура прожарювання 450-500°С Електрична міцність, кВ/мм 9,6 174 дозволяє забезпечити оптимальний вміст вологи в Тангенс кута втрат 0,0006 0,0004 активному окисі алюмінію, тому що прожарювання Питомий об'є мний електричний 12 1,2×10 2,5×1012 при більш високій температурі, може привести до опір, Ом/см 5 20693 6 З таблиці 1 випливає, що після очищення пополіметилсілоксанової рідини ПМС-10 адсорбенліметилсілоксанової рідини ПМС-10 згідно з спотом дозволяє підвищити адсорбційну здатність собом, що заявляється, електрична міцність ПМСактивного окису алюмінію, що забезпечить більш 10 зросла майже у 2 рази, питомий об'ємний елекякісне очищення ПМС-10, поліпшить її електрофітричний опір - у 2,1 рази, а тангенс кута втрат знизичні характеристики, і тим самим поліпшить елекзився у 1,5 раза. тротехнічні характеристики конденсатора і його Таким чином, застосування способу очищення термін служби у цілому. Комп’ютерна в ерстка Н. Лисенко Підписне Тираж 26 прим. Міністерство осв іт и і науки України Держав ний департамент інтелектуальної в ласності, вул. Урицького, 45, м. Київ , МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислов ої в ласності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601