Патенти з міткою «мішеней»
Вакуумна установка для магнетронного розпилення мішеней
Номер патенту: 49697
Опубліковано: 11.05.2010
Автори: Мухін Олексій Борисович, Ніколаєнко Юрій Макарович
МПК: C23C 14/35
Мітки: розпилення, установка, мішеней, вакуумна, магнетронного
Формула / Реферат:
1. Вакуумна установка для магнетронного розпилення мішеней, головним чином для забезпечення умов епітаксійного росту багатокомпонентних плівок, наприклад, на основі манганитів, що містить: три магнетрони з примусовим водяним охолодженням, підведенням високовольтної напруги і накидними гайками для кріплення мішеней, які розміщені в металевому корпусі циліндричної форми, що герметично закривається зверху вакуумним ковпаком з прозорими вікнами...
Пристрій для закріплення мішеней
Номер патенту: 17775
Опубліковано: 20.05.1997
Автор: Козаченко Ігор Миколайович
МПК: F41J 1/00
Мітки: закріплення, пристрій, мішеней
Формула / Реферат:
Устройство для закрепления мишеней, содержащее рамку, выполненную с возможностью фиксации в ней поражаемой мишени с двух сторон и перемещения ее в горизонтальной плоскости, отличающееся тем, что рамка состоит из двух частей, внутренней и наружной, подвижно закреплена на основе с возможностью перемещения в вертикальной плоскости и содержит две градуированные шкалы, одна из которых размещена на наружной части рамки, а другая на основе.
Спосіб виготовлення мішеней з дисиліцидів перехідних металів
Номер патенту: 11386
Опубліковано: 25.12.1996
Автори: Ганієв Рев Вахізович, Єрьоменко Людмила Іванівна, Лиходід Людмила Семенівна, Кудь Ірина Володимирівна, Дворіна Людмила Андріївна
МПК: C23C 14/32
Мітки: дисиліцидів, мішеней, металів, спосіб, виготовлення, перехідних
Формула / Реферат:
Способ изготовления мишеней из дисиллицидов переходных металлов, преимущественно для ионно-плазменного распыления, включающий смешивание порошков исходных компонентов, холодное прессование смеси и спекание-синтез, повторное измельчение продуктов синтеза и получение мишени путем прессования и спекания измельченных продуктов синтеза, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества мишеней за счет уменьшения пористости и содержания газовых...
Спосіб обробки поверхонь діелектричних мішеней в вакуумі
Номер патенту: 5770
Опубліковано: 29.12.1994
Автори: Зиков Олександр Володимирович, Юнаков Микола Миколайович, Марущенко Микола Борисович, Качанов Юрій Олександрович, Фареник Володимир Іванович
МПК: C23C 14/00
Мітки: мішеней, поверхонь, діелектричних, спосіб, обробки, вакуумі
Формула / Реферат:
Способ обработки поверхностей диэлектрических мишеней в вакууме, включающий бомбардировку мишеней ускоренным пучком положительных ионов и компенсацию заряда электронами катода - нейтрализатора, отличающийся тем, что, с целью повышения качества обработки за счет улучшения однородности обработки и снижения вносимой дефектности, на поверхность катода - нейтрализатора подают положительный потенциал j [В], выбираемый из...