Патенти з міткою «мдн-транзистора»
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 110461
Опубліковано: 12.01.2016
Автори: Коман Богдан Петрович, Морозов Леонід Михайлович
МПК: H01L 21/326, H01L 21/26, H01L 21/02 ...
Мітки: мдн-транзистора, спосіб, кремнієвого, отримання
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора, за яким формують пари n+областей провідності на поверхні кремнієвої підкладки р-типу та електроди стоку і витоку, підзатворного діелектрика на основі SiO2 і затворного електрода, проводять пасивацію та опромінюють отриману транзисторну структуру з довжиною каналу 2-10 мкм і шириною 50 мкм рентгенівськими променями при потужності експозиційної дози немонохроматизованого випромінювання 870 Р/с...
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 108773
Опубліковано: 10.06.2015
Автори: Монастирський Любомир Степанович, Морозов Леонід Михайлович, Коман Богдан Петрович
МПК: H01J 37/30, H01L 21/26, H01L 21/00 ...
Мітки: кремнієвого, спосіб, мдн-транзистора, отримання
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора, за яким на поверхні кремнієвої підкладки р-типу формують пари n+ областей провідності з електродами стоку і витоку, підзатворний діелектрик на основі SiО2 і на ньому затворний електрод, проводять пасивацію транзистора, який відрізняється тим, що перед формуванням елементів МДН-транзистора кремнієву структуру Si-SiО2 попередньо опромінюють рентгенівськими променями зі сторони SiО2 з дозою...
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 86018
Опубліковано: 25.03.2009
Автори: Коман Богдан Петрович, Морозов Леонід Михайлович
МПК: H01L 21/336, H01L 29/76, H01L 21/26 ...
Мітки: отримання, мдн-транзистора, спосіб, кремнієвого
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора, що включає формування пари n+ областей провідності на поверхні кремнієвої підкладки р-типу та формування електродів стоку і витоку, формування підзатворного діелектрика на основі SiO2 та формування затворного електрода, проведення процесів пасивації та наступного опромінення отриманої транзисторної структури з довжиною каналу від 2 до 10 мкм із шириною 50 мкм рентгенівськими променями при...
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 77961
Опубліковано: 15.02.2007
Автори: Коман Богдан Петрович, Морозов Леонід Михайлович
МПК: H01J 37/30, H01L 29/00, H01L 21/70 ...
Мітки: мдн-транзистора, кремнієвого, отримання, спосіб
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН - транзистора, що включає формування пари n+ областей провідності на поверхні кремнієвої підкладки р-типу шляхом дифузії бору і формування електродів стоку і витоку, формування підзатворного діелектрика на основі SiO2 і формування затворного електрода, проведення процесів пасивації, який відрізняється тим, що отриману транзисторну структуру протягом 10-30 хвилин одночасно опромінюють рентгенівськими променями...
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 72308
Опубліковано: 15.02.2005
Автори: Коман Богдан Петрович, Морозов Леонід Михайлович
МПК: H01J 37/30, H01L 21/335
Мітки: отримання, спосіб, кремнієвого, мдн-транзистора
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора, що включає формування пари n+ областей провідності на поверхні кремнієвої підкладки p-типу шляхом дифузії бору і формування електродів стоку і витоку, формування підзатворного діелектрика на основі SiO2 і формування затворного електрода, проведення процесів пасивації, який відрізняється тим, що отриману транзисторну структуру з довжиною каналу 2-10 мкм і шириною 50 мкм опромінюють a-частинками з...
Спосіб отримання кремнієвого мдн-транзистора
Номер патенту: 72073
Опубліковано: 17.01.2005
Автори: Морозов Леонід Михайлович, Коман Богдан Петрович
МПК: H01L 21/26, H01L 21/00
Мітки: мдн-транзистора, спосіб, кремнієвого, отримання
Формула / Реферат:
Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора, що включає формування пари n+ областей провідності на поверхні кремнієвої підкладки р-типу шляхом дифузії бору і формування електродів стоку і витоку, формування підзатворного діелектрика на основі SiO2 і формування затворного електрода, проведення процесів пасивації, який відрізняється тим, що отриману транзисторну структуру з довжиною каналу 3-10 мкм і шириною 50 мкм опромінюють рентгенівськими...