Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб вирощування монокристала кремнію з розплаву, що включає формування газового потоку над розплавом у присутності екрана, розташованого над площиною розплаву співвісно вирощуваному монокристалу кремнію, який відрізняється тим, що використовують циліндричний екран, нижній кінець якого розміщують над площиною розплаву на висоті, що розрахована за формулою:

h = (А - D) / В,

де h - висота розміщення нижнього кінця екрана над рівнем розплаву, мм,

D - заданий діаметр вирощуваного зливка монокристала кремнію, що знаходиться в межах 75-150 мм,

А - розмірний коефіцієнт, що знаходиться в межах 210-240,

В - коефіцієнт, що знаходиться в межах 4,6-5,0, і при цьому діаметр циліндричного екрана дорівнює 235-245 мм.

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

A method for growing silicon monocrystals of the melt

Автори англійською

Berinhov Serhii Borysovych, Shulha Yurii Hryhorovych

Назва патенту російською

Способ выращивания монокристалла кремния из расплава

Автори російською

Берингов Сергей Борисович, Шульга Юрий Григорьевич

МПК / Мітки

МПК: C30B 15/02

Мітки: розплаву, кремнію, спосіб, вирощування, монокристала

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/3-70313-sposib-viroshhuvannya-monokristala-kremniyu-z-rozplavu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб вирощування монокристала кремнію з розплаву</a>

Подібні патенти