Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Способ получения полупроводникового материала n-CdxHg1-xTe с заданным временем жизни электронов путем изменения концентрации центров рекомбинации, отличающийся тем, что, с целью повышения технологичности и обеспечения обратимости управления временем жизни, в мате­риале состава х=0,22 с концентрацией электронов n<1015 см-3 при температуре Т=77 К в качестве центров рекомбинации используют двухзарядные вакансии ртути, изменение концентрации кото­рых производят путем термоотжига в парах ртути.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что с целью получения времени жизни электронов t=2·10-6 с в материале n-Cd0,22Hg0,78Te c исходной концент­рацией доноров Ng = 3·10 см-3 и акцепторов Nа = 1,2·1015см-3 термоотжиг в парах ртути произ­водят при температуре t(315 ± 2) °С.

Текст

ДЛЯ СЛУЖЕБНОГО ПОЛЬЗОВАНИЯ ЭКЗ Г* СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИК (19) (505 (II) Н 01 L 31/0296 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ ПРИ ГКНТ СССР К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ 1 (21)4726289/25 (22)07.08.89 (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО МАТЕРИАЛА п - CdxHgt-xTe (57) Использование: способ относится к полупроводниковой фотоэлектронике и может быть использован при изготовлении датчиков ИК-излучения. Сущность: способ обеспечивает технологичность и обратимость управления времени жизни электронов в материале n-Cdo,22Hgo,78Te с концентрацией электронов п < 10 см при температуре Т = 77 К путем использования в качестве центров рекомбинации двухзэрядных вакансий ртути, изменение концентрации которых производят путем контролируемого термоотжига в парах ртути, например при (315 ± 2)°С. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.,1 табл. Изобретение относится к полупроводниковой фотоэлектронике и может быть использовано при изготовлении датчиков ИК-излучения. Известен способ получения полупроводникового материала n-CdxHgi-xTe, по которому возможно увеличение времени жизни электромов при снижении их концентрации в материале [1]. Однако данный способ нетехнологичен и не обеспечивает обратимость процесса управления временем жизни электронов в материале. Управление временем жизни электронов в таком способе возможно лишь в сторону его уменьшения и является необратимым, так как концентрация центров рекомбинации при этом может изменяться только в сторону увеличения. Целью изобретения является повышение технологичности и обеспечение обратимости управления временем жизни электронов в материале п - Cdo.22Hgo.78Te с концентрацией электронов п< 10 см" при температуре Т = 77К. Дополнительный целью является получение времени жизни электронов т~ 2-1 0~ с в материале п - Cdo.22Hgo.7sTe с исходной концентрацией доноров Ng = 3*10 см и акцепторов N 3 = =1,2-10 15 см" 3 . На фиг.1 приведена номограмма зависимости времени жизни электронов, ограниченного Ожеи примесной рекомбинацией, от их равновесной концен (71) Институт полупроводников АН УССР (72) Л.А.Карачевцева, А.В.Любченко, Э.А.Маловичко, Е.А Сальков, В.К.Ергаков, К.Р.Курбанов и Ю.Н.Волков (53)621.382(088.8) (56) 1. Баженов Н.Л. и др. Рекомбинация неравновесных носителей заряда в пCdxHgi-xTe(0,2< х 10 1 Г ) см 3 ; кривая 5 для N g = 1,5-Ю15см3; кризая 6-для Nn = 1,8-Ю15 см' 3 ; кривая 7 для Ыа = 2.5*10 см"3' кривая 8 - для Ng = =4*10 см ; пунктир- время жизни электронов, ограниченное Оже-механиэмом рекомбинации; на фиг.2 - график зависимости концентрации электронов An от температуры отжига Тотж в парах ртути. Способ осуществляется следующим обр а з о м . Для г р у п п ы к р и с т а л л о в п - Cdo,22Hgo,7eTe с п < 10 15 см* определяется их исходная степень компенсации К~ ^ZNa/Ng, где 2 - зарядовое число акцепторов. Если полученное значение К превосходит К м и н = С (V~1 + 1/С - 1 ) , где С = -2N v a /Ng = ZN V /N g [exp - {Еа/КвТ)] - плотность состояний в валентной зоне; Nv ~ энергия ионизации рекомбинационного акцепторного уровня, то для повышения времени жизни электронов увеличивают концентрацию вакансий рту г и в кристаллах путем их термоотжига в парах ртути при температуре, определяемой по экспериментальной зависимости Дп(ТСтж.)- приведенной на фиг.2 В результате уменьшается концентрация электронов, и, в соответствии с фиг.1, возрастает их время жизни. В противоположном случае, при К < Кмин для повышения времени жизни электронов уменьшают концентрацию вакансий ртути путем контролируемого термоотжига, что приводит к повышению концентрации электронов и, в соответствии с фиг.1, к возрастанию их времени жизни (до тех пор, пока Тп не превышает Оже-ограничения времени жизни). Для анализа времени жизни электронов в твердых растворах CdxHgi-xTe в области примесной рекомбинации рассмотрим статистику Шокли - Рида в ее общем виде. Электронное время жизни г п в материале п-типе проводимости при слабом уровне возбуждения (ДпNca. а - Сп/Ср < 1. С учетом этого, а также соотношения по » ро для полупроводника n-типа проводимости выражение (!) преобразуется в выражение II 1 CnNg С +К (1 - К ) К 1723962 Т= 77К, при которой преобладает примесная рекомбинация. В таблице представлены данные по изТаким образом, увеличение времени менению времени жизни образцов CdxHg і хТе жизни электронов в области примесной рекомбинации п

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method to get semiconductor material of pi-cdchihgio и-chite

Автори англійською

Karachevtseva Liudmyla Anatoliivna, Liubchenko Oleksii Viktorovych, Malovichko Elza Oleksandrivna, Salkov Yevhen Andriiovych, Yerhakov Valerii Kostiantynovych, Kurbanov Kurban Ramazanovych, Volkov Yurii Mykolaiovych

Назва патенту російською

Способ получения полупроводникового материала pi-cdchihgio и-cнite

Автори російською

Карачевцева Людмила Анатольевна, Любченко Алексей Викторович, Маловичко Эльза Александровна, Сальков Евгений Андреевич, Ергаков Валерий Константинович, Курбанов Курбан Рамазанович, Волков Юрий Николаевич

МПК / Мітки

МПК: H01L 31/0264

Мітки: одержання, напівпровідникового, pi-cdchihgiota-chite, матеріалу, спосіб

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/6-11657-sposib-oderzhannya-napivprovidnikovogo-materialu-pi-cdchihgiota-chite.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб одержання напівпровідникового матеріалу pi-cdchihgiota-chite</a>

Подібні патенти