C23C 16/54 — пристрої, спеціально пристосовані для безперервного покриття
Поділ модульного пристрою для нанесення покриття
Номер патенту: 112300
Опубліковано: 25.08.2016
Автори: Віам Хью, Йонемічі Томохіро, Лекомт Бенуа
МПК: H01L 21/00, C03C 17/00, C23C 16/54, C23C 14/56 ...
Мітки: пристрою, модульного, нанесення, поділ, покриття
Формула / Реферат:
1. Спосіб осадження багатошарової покриваючої стопи шарів на плоску скляну підкладку, що включає осадження методом катодного розпилення під вакуумом принаймні першого шару в першій зоні осадження, яка має перший тип атмосфери, і принаймні другого шару в другій зоні осадження, яка має другий тип атмосфери, що відділений від першого типу атмосфери розділовою зоною, де плоску скляну підкладку переміщують від першої зони осадження до другої зони...
Пристрій для транспортування плазмових потоків від вакуумно-дугових джерел плазми до вихідного отвору
Номер патенту: 105979
Опубліковано: 10.07.2014
Автори: Білоус Віталій Арсентійович, Аксьонов Дмитро Сергійович, Аксьонов Іван Іванович
МПК: C23C 16/00, H05H 1/00, C23C 14/35, C23C 16/54 ...
Мітки: отвору, вакуумно-дугових, джерел, потоків, вихідного, пристрій, плазмових, транспортування, плазми
Формула / Реферат:
1. Пристрій для транспортування плазмових потоків від вакуумно-дугових джерел плазми до вихідного отвору, який містить два вхідних і один вихідний плазмоводи у вигляді відрізків труб, з'єднаних між собою і охоплених електромагнітними котушками, і електромагнітний засіб в місці з'єднання плазмоводів для створення магнітного поля, відбиваючого плазму від стінок вхідних плазмоводів в області їх з'єднання, який відрізняється тим, що зазначений...
Спосіб проведення гомогенних і гетерогенних хімічних реакцій з використанням плазми
Номер патенту: 75530
Опубліковано: 17.04.2006
Автори: Полісан Андрєй Андрєєвіч, Шарафутдінов Равєль Газізовіч, Хмєль Сєргєй Яковлєвіч, Карстєн Вольдємар Мартиновіч, Тімофєєв Владімір Борісовіч, Сємьонова Ольга Івановна
МПК: B22F 9/16, C23C 16/22, B01J 19/08 ...
Мітки: спосіб, проведення, використанням, хімічних, гетерогенних, реакцій, плазми, гомогенних
Формула / Реферат:
1. Спосіб проведення хімічних реакцій, який полягає в тому, що подають реакційний газ з джерела реакційного газу у вакуумну реакційну камеру, формують в ній надзвуковий потік реакційного газу і активують зазначений надзвуковий потік реакційного газу шляхом дії на нього електронним пучком з утворенням електронно-пучкової плазми, який відрізняється тим, що зазначений надзвуковий потік реакційного газу формують таким чином, що на вході у...
Спосіб покриття непровідного волокна алмазоподібним вуглецем, камера реактора для осаджування алмазоподібного вуглецю та катодний блок камери
Номер патенту: 47445
Опубліковано: 15.07.2002
Автори: Барберо Роберт Стівен, Девлін Девид Джеймс, Арчулета Томас Артур, Коутс Дон Мейо
МПК: D06M 10/00, C23C 16/26, C23C 16/54 ...
Мітки: алмазоподібного, камера, блок, непровідного, покриття, реактора, волокна, осаджування, спосіб, вуглецем, катодний, алмазоподібним, камери, вуглецю
Формула / Реферат:
1. Спосіб покриття непровідного волокна алмазоподібним вуглецем, який включає переміщення непровідного волокна між електродами усередині камери реактора,введення вуглеводневого газу у камеру ректора, генерацію плазми усередині камери реактора та формування покриття непровідного матеріалу алмазоподібним вуглецем, який відрізняється тим, що непровідне волокно переміщують усередині камери реактора між двома паралельними металевими сітками...
Спосіб одержання підкладки з пароізоляційними властивостями плазменною обробкою, пристрій для плазменної обробки підкладки та пристрій для нанесення пароізоляційного покриття на підкладку
Номер патенту: 26761
Опубліковано: 12.11.1999
Автори: Фелтс Джон Т, КАНТРІВУД Джозеф, Чесем Роберт Худ Ііі, НЕЛСОН Роберт Дж.
МПК: C23C 16/40, C23C 16/54
Мітки: пристрій, одержання, нанесення, властивостями, покриття, обробкою, спосіб, пароізоляційного, плазменної, плазменною, підкладку, обробки, пароізоляційними, підкладки
Формула / Реферат:
1. Способ получения подложки с пароизоляционными свойствами плазменной обработкой, включающий подачу в вакуумную камеру подложки, образование в камере плазмы тлеющего разряда из летучего кремнийорганического соединения, кислорода и инертного газа, при пониженном давлении, отличающийся тем, что в камере поддерживают давление менее 13,3Па (0,1Торр), ограничивают плазму до полосы, имеющей расстояние дельта в одном измерении не более 30...