Спосіб отримання шарів телуриду цинку з електронною провідністю

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб отримання шарів телуриду цинку з електронною провідністю, що включає механічну і хімічну обробку підкладинок ZnTe та їх легування, який відрізняється тим, що легування проводять шляхом відпалу підкладинок у насиченій парі олова при температурі 950±50 °С.

Текст

Спосіб отримання шарів телуриду цинку з електронною провідністю, що включає механічну і хімічну обробку підкладинок ZnTe та їх легування, який відрізняється тим, що легування проводять шляхом відпалу підкладинок у насиченій парі олова при температурі 950±50°С. (19) (21) u201009574 (22) 30.07.2010 (24) 25.01.2011 (46) 25.01.2011, Бюл.№ 2, 2011 р. (72) МАХНІЙ ВІКТОР ПЕТРОВИЧ, СКРИПНИК МИКОЛА ВОЛОДИМИРОВИЧ, УЛЬЯНИЦЬКИЙ КОСТЯНТИН СЕРГІЙОВИЧ 3 56872 Апробація запропонованого способу проводилась на підкладинках телуриду цинку типорозміром 4×4×1 мм3 з ρр≈105 Ом∙см при 300К. Вони вирізались з об'ємних кристалів вирощених з розплаву методом Бріджмена. Підкладинки проходили поетапні механічне та хімічне полірування у травнику СrO3:НСl=1,8:7, відмивку в дистильованій воді та фінішну сушку. Якість обробленої поверхні контролювалась візуально по появі об'ємної фотолюмінесценції, яка збуджувалась лазером ЛГИ 21 з m≈0,337 мкм. Підкладинка ZnTe разом з дифузантом (елементарне олово) поміщались у кварцову ампулу, яка відкачувалась до 10-4 Торр і запаювалась. Відпал проводився в ізотермічних умовах у діапазоні 800-1000°С на протязі 1 год. причому підкладинка і дифузант знаходилась у протилежних кінцях ампули. Отримані у результаті відпалу поверхневі шари підкладинок р-ZnTe демонструють електронну провідність, на що вказують знаки термоерс та випрямлення на точковому контакті. Товщина d шарів визначається температурою Та і часом ta відпалу, зростаючи при їх збільшенні. При обраному ta, навіть при найнижчій температурі відпалу, товщина була більше 10 мкм, що є цілком достатнім для надійного вимірювання питомого опору. Омічні контакти до шарів n-ZnTe створювались вплавленням наважок індію, а ρn визначався зага Комп’ютерна верстка А. Рябко 4 льновідомим методом [4]. Результати вимірювань питомого опору отриманих шарів у залежності від температури відпалу наведено у таблиці. Максиmах мальна Та =1000°С, тому що при більш високих температурах відбувається ерозія поверхні підкладинки. Аналіз дослідних залежностей ρn(Та) приводить до висновку, що оптимальною можна вважати температуру відпалу 950±50°С, оскільки у цьому діапазоні питомий опір змінюється у межах 0,5÷2 Ом∙см. Зауважимо, що отримана величина ρnmin більш ніж на 2 порядки менша ніж у найближчого аналога. Крім того, суттєво зростає товщина шарів n-ZnTe, аж до об'ємного легування підкладинки при збільшенні часу дифузії до 10 год. при Та=1000°С. Джерела інформації 1. Коган Я.М. Полупроводниковые светоизлучающие диоды. - М.: Энергоатомиздат, 1983, 208 с. 2. Физика соединений А2В6 / Под ред. А.Н. Георгебиани и М.К. Шейкмана. - М.: Наука, 1970, 320 с. 3. Кононенко В.К. Инжекционная электролюминесценция теллурида цинка. - ЖПС, 1975, Т. 23, вып. 3, 528-553 с. Підписне Тираж 23 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for obtaining zinc telluride with electronic conductivity

Автори англійською

Makhnii Viktor Petrovych, Skrypnyk Mykola Volodymyrovych, Ulianytskyi Kostiantyn Serhiiovych

Назва патенту російською

Способ получения слоев теллурида цинка c электронной проводимостью

Автори російською

Махний Виктор Петрович, Скрыпник Николай Владимирович, Ульяницкий Константин Сергеевич

МПК / Мітки

МПК: C30B 25/00, C30B 31/00, H01L 21/00

Мітки: телуриду, шарів, цинку, електронною, спосіб, провідністю, отримання

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-56872-sposib-otrimannya-shariv-teluridu-cinku-z-elektronnoyu-providnistyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання шарів телуриду цинку з електронною провідністю</a>

Подібні патенти