Спосіб підвищення стабільності параметрів мікрокристалів антимоніду індію
Номер патенту: 99078
Опубліковано: 10.07.2012
Автори: Кость Ярослав Ярославович, Штабалюк Агата Петрівна, Макідо Олена Юріївна, Большакова Інеса Антонівна, Ворошило Галина Іванівна, Шуригін Федір Михайлович
Формула / Реферат
Спосіб підвищення стабільності параметрів мікрокристалів антимоніду індію, згідно з яким кварцову ампулу, в якій розташовують очищену підкладку, з попередньо нанесеним на неї металом-каталізатором - золотом, джерело антимоніду індію та йод, вакуумують до тиску в ампулі не більше (0,9-1,1)∙10-4 Па, запаюють та розміщують у двозонній печі опору з нагрівом зони джерела вихідних компонентів до температури Т=700±5 °С та нагрівом зони кристалізації до температури Т=600±5 °С і у такому режимі ампулу витримують протягом 30-35 хв., після чого зону джерела вихідних компонентів нагрівають до температури Т=815±5 °С, а зону підкладки охолоджують і у такому режимі ампулу витримують протягом 120-240 хв. до вирощування мікрокристалів антимоніду індію необхідних розмірів, який відрізняється тим, що одночасно з розташуванням підкладки, антимоніду індію та йоду у кварцовій ампулі розташовують олово у кількості 0,9±0,1 мг/см3.
Текст
Реферат: Винахід стосується технології вирощування напівпровідникових матеріалів мікророзмірів та може бути використаний для отримання мікрокристалів антимоніду індію для сенсорів магнітного поля з підвищеною стабільністю вихідних параметрів. Спосіб отримання мікрокристалів антимоніду індію, згідно з яким кварцову ампулу, в якій розташовують підкладку, з попередньо нанесеним на неї золотом, джерело антимоніду індію, йод та олово у кількості 3 0,9±1,1 мг/см вакуумують, запаюють та нагрівають. Запропонований спосіб дозволяє отримати леговані оловом високоякісні мікрокристали антимоніду індію з концентрацією носіїв заряду n0 ~ 17 -3 (6-7)·10 см , які придатні для виготовлення сенсорів магнітного поля, для яких при 16 -2 опроміненні високоенергетичними нейтронами до флюенсу Ф=10 н·см магнітна чутливість залишається практично сталою. UA 99078 C2 (12) UA 99078 C2 UA 99078 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Винахід належить до області технологій напівпровідників мікророзмірів та може бути використаний для отримання мікрокристалів антимоніду індію для сенсорів магнітного поля з підвищеною стабільністю вихідних параметрів. Відомий спосіб отримання мікрокристалів антимоніду індію, згідно з яким кварцову ампулу, в якій розташовують очищену підкладку, з попередньо нанесеним на неї металом-каталізатором -4 золотом, джерело антимоніду індію та йод, вакуумують до тиску в ампулі не більше (0,9-1,1)·10 Па, запаюють та розміщують у двозонній печі опору з нагрівом зони джерела вихідних компонентів до температури Т=700±5 °С, а зони кристалізації - до температури Т=600±5 °С; у такому режимі ампулу витримують протягом 30-35 хв., після чого зону джерела вихідних компонентів нагрівають до температури Т=815±5 °С, а зону кристалізації охолоджують до температури Т=455±5 °С; у такому режимі ампулу витримують протягом 120-240 хв. до вирощування мікрокристалів антимоніду індію необхідних розмірів (патент № 90834 Україна, МПК (2009) С30В 25/00. Спосіб одержання мікрокристалів антимоніду індію / Большакова І. А., Кость Я. Я., Шуригін Ф. М., Макідо О. Ю., Ворошило Г. Л. (Україна) - № а200912924; Заявлено 14.12.2009; Опубл. 25.05.2010, Бюл. № 10). Мікрокристали антимоніду індію, отримані таким способом, використовуються як чутливі елементи сенсорів магнітного поля, для пристроїв вимірювання магнітного поля в жорстких радіаційних умовах. Але сенсори магнітного поля, виготовлені на основі таких мікрокристалів, є недостатньо стабільними для високопрецизійних задач. В основу винаходу поставлена задача створити технологію, яка б дозволяла отримувати високоякісні мікрокристали антимоніду індію мікронних розмірів, які необхідні для створення чутливих елементів сенсорів, з підвищеною стабільністю до дії зовнішніх дестабілізуючих факторів. Поставлена задача вирішується тим, що в способі отримання мікрокристалів антимоніду індію, згідно з яким кварцову ампулу, в якій розташовують очищену підкладку з попередньо нанесеним на неї металом-каталізатором - золотом, джерело антимоніду індію та йод, 4 вакуумують до тиску в ампулі не більше (0,9-4,1)·10- Па, запаюють та розміщують у двозонній печі опору з нагрівом зони джерела вихідних компонентів до температури Т=700±5 °С та нагрівом зони кристалізації до температури Т=600±5 °С; у такому режимі ампулу витримують протягом 30-35 хв., після чого зону джерела вихідних компонентів нагрівають до температури Т=815±5 °С, а зону підкладки охолоджують; у такому режимі ампулу витримують протягом 120240 хв. до вирощування мікрокристалів антимоніду індію необхідних розмірів, згідно з винаходом, одночасно з розташуванням антимоніду індію у кварцовій ампулі розташовують 3 олово у кількості 0,9±0,1 мг/см об'єму ампули. Отримання мікрокристалів антимоніду індію для сенсорів магнітного поля з підвищеною стабільністю вихідних параметрів потребує вибору оптимальної концентрації вільних носіїв заряду матеріалу. Сенсори магнітного поля з високим рівнем легування є менш чутливі до дії зовнішніх дестабілізуючих факторів (температура, іонізуюче опромінення), однак володіють низькою чутливістю до магнітного поля і є непридатні для високопрецизійних задач. А сенсори з низьким рівнем легування мають високу чутливість до магнітного поля, проте є і більш чутливі до опромінення. Тому, для створення радіаційностійких високочутливих сенсорів магнітного поля на основі InSb важливим є вибір початкового рівня легування матеріалу. 17 -3 Для мікрокристалів InSb з порівняно малою концентрацією носіїв заряду n 0 ~ 1·10 см із збільшенням флюенсу реакторних нейтронів спостерігається зростання концентрації носіїв заряду, і ця зміна є дуже великою (> 20 %). А для мікрокристалів InSb, легованих Sn до 17 -3 концентрації носіїв заряду n0 ~ (6-7)·10 см , під дією нейтронного опромінення концентрація носіїв заряду також дещо зростає, але її зміни є мінімальними (~ 1 %). При опроміненні 15 -2 нейтронами до флюенсу 1·10 н·см відносна зміна концентрації вільних носіїв заряду 16 -2 становить Δn/n ~ 0,05 % і не перевищує 1 % аж до флюенсу 3,1·10 н·см . Отже, концентрацію 17 -3 носіїв заряду n0 ~ 6,4·10 см можна вважати оптимальною для створення радіаційностійких сенсорів магнітного поля на основі таких мікрокристалів InSb . Тому для створення радіаційностійких сенсорів були відібрані мікрокристали InSb, леговані в процесі вирощування 17 -3 оловом до концентрації носіїв заряду n0 ~ (5-7)·10 см . Олово для InSb використовується як донорна домішка для одержання кристалів із різною концентрацією вільних носіїв заряду. При опроміненні реакторними нейтронами в мікрокристалах InSb, легованих Sn, відбуваються два процеси: компенсація електронного типу провідності внаслідок утворення в ньому радіаційних дефектів акцепторного типу під дією швидких нейтронів; утворення атомів 1 UA 99078 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 легуючої донорної домішки Sn внаслідок трансмутаційних ядерних реакцій, що протікають при взаємодії теплових, повільних і резонансних нейтронів з атомами індію. При вирощуванні легованих оловом мікрокристалів InSb можна отримати матеріал з таким рівнем легування, при якому обидва радіаційні процеси - ядерне легування та введення радіаційних дефектів - будуть компенсувати одне одного. Сенсори магнітного поля, виготовлені на основі такого матеріалу, будуть характеризуватись високою стійкістю параметрів до дії нейтронного опромінення. Запропонований спосіб підвищення стабільності параметрів мікрокристалів антимоніду індію 17 -3 дозволяє отримати леговані оловом мікрокристали з концентрацією носіїв n 0 ~ (6-7)·10 см , -2 для яких при опроміненні високоенергетичними частинками до флюенсів Ф = 3·10 н·см відносна зміна концентрації вільних носіїв заряду залишається практично сталою (Δn/n
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for increase of stability of parameters of indium antymonide microcrystals
Автори англійськоюBolshakova Inesa Antonivna, Kost Yaroslav Yaroslavovych, Shuryhin Fedir Mykhailovych, Makido Olena Yuriivna, Voroshylo Halyna Ivanivna, Shtabaliuk Ahata Petrivna
Назва патенту російськоюСпособ повышения стабильности параметров микрокристаллов антимонида индия
Автори російськоюБольшакова Инесса Антоновна, Кость Ярослав Ярославович, Шурыгин Федор Михайлович, Макидо Елена Юрьевна, Ворошило Галина Ивановна, Штабалюк Агата Петровна
МПК / Мітки
МПК: C30B 25/00, C30B 29/40
Мітки: параметрів, стабільності, індію, мікрокристалів, спосіб, підвищення, антимоніду
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/5-99078-sposib-pidvishhennya-stabilnosti-parametriv-mikrokristaliv-antimonidu-indiyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб підвищення стабільності параметрів мікрокристалів антимоніду індію</a>
Попередній патент: Татуювально-татуажна машинка
Наступний патент: Система запуску і повернення безпілотних літальних апаратів
Випадковий патент: Спосіб уведення доменної печі у експлуатацію після капітального ремонту та пристрій для його здійснення