Спосіб термообробки заготівок активних лазерних елементів з монокристалів сапфіра, що активовані титаном

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб термообробки виробів з монокристалів сапфіра, що активовані титаном, який включає послідовний відпал в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію, а потім в атмосфері аргону з вмістом метану у кількості 10 - 30% об. при температурі 1750 – 2030 °С і відновному потенціалі  -100...-170 кДж/моль, який відрізняється тим, що відпал монокристалів в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію проводять під дією осьового навантаження 7,8•105...60•105Н/м2 уздовж кристалографічного напряму [] при температурі 1900 – 2010 °С протягом 40-80 годин.

Текст

Спосіб термообробки виробів з монокристалів сапфіра, що активовані титаном, який включає послідовний відпал в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію, а потім в атмосфері аргону з вмістом метану у кількості 10 - 30% об. при температурі 1750 – 2030 °С і відновному потенціалі e -100...-170 кДж/моль, який відрізняє ться тим, що відпал монокристалів в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію проводять під дією осьового навантаження 7,8•105...60•105Н/м 2 уздовж кристалографічного напряму [ 1 1 02 ] при температурі 1900 – 2010 °С протягом 40-80 годин. (19) (21) a200606455 (22) 09.06.2006 (24) 25.12.2007 (72) ВИШНЕВСЬКИЙ СЕРГІЙ ДМИТРОВИЧ, UA, КРИВОНОСОВ ЄВГЕНІЙ ВОЛОДИМИРОВИЧ, UA, ЛИТВИНОВ ЛЕОНІД АРКАДІЙОВИЧ, U A (73) ІНСТИТУТ МОНОКРИСТАЛІВ НАН УКРАЇНИ, UA (56) UA 53469, 15.01.2003, C2 GB 595445, 04.12.1947, B EP 0328073, 16.08.1989, A1 US 4587035, 06.05.1986, A JP 4295094, 20.10.1992, C JP 63274694, 11.11.1988, C JP 57191299, 25.11.1982 , C 3 81385 сапфіру, оскільки відпал у факелі природного газу спричиняє формування у кристалах, що відпалені, включань чужорідної фази рутилу. Ці включання істотно збільшують оптичні втрати і зменшують лазерну міцність. Також спосіб не дозволяє усун ути субмікронні включання в заготівках. Відомий спосіб термообробки виробів з монокристалів сапфіру, що активовані титаном [Пат Укр. №53469 А, МПК7 С30 В33/00, 29/20], що включає послідовний відпал в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію протягом 8...10 годин при температурі 2010... 2040°С, а потім в атмосфері аргону із змістом метану в кількості 10...30% об. при температурі 1750...2030°С і відновному потенціалі e = -100...170кДж/моль. Даний спосіб підвищує лазерну міцність активних лазерних елементів, в яких відсутні субмікронні включання, але параметри способу не забезпечують руйн ування включань при їх наявності у монокристалі. Як прототип був вибраний останній з аналогів, тому що він найбільш близький по способу реалізації. В основі винаходу поставлена задача створення способу термообробки заготівок активних лазерних елементів з Ті-сапфіру, який дозволяє збільшити вихід годних заготівок, що не поступаються по своїм експлуатаційним характеристикам заготівкам, що одержані по прототипу, шляхом усунення субмікронних включань у заготівках, що відпалені. Також задачею винаходу було зменшення енерговитрат при відпалі. Рішення поставленої задачі забезпечується тим, що в способі термообробки виробів з Тісапфіру, що включає послідовний відпал в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію, а потім в атмосфері аргону із змістом метану в кількості 10...30 % об. при температурі 1750...2030°С і відновному потенціалі e = -100...170 кДж/моль, згідно винаходу, відпал заготівок в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію проводять під дією осьового навантаження 7,8•105...60•105 Н/м 2 уздовж кристалографічного напряму [ 1 1 02 ] при температурі 1900...2010°С протягом 40-80 годин. Авторами встановлено, що субмікронні включання в Ті-сапфірі, що вирощено у вуглецевому середовищі, формуються в наслідку коагуляції аніонних вакансій в кристалічних ґратах і є субмікропорами, що містять металевий алюміній і його субоксиди. На початковій стадії високотемпературного відпалу в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію, субмікронні включання перетворюються в пори, що містять насичені пари оксиду алюмінію. Потім при подальшій ізотермічній витримці починається процес заліку пір в кристалі. Тривалість цього процесу визначається механізмами масоперенесення в кристалі (вакансійний або дислокаційний). Дислокаційний механізм є переважним, оскільки він істотно зменшує час відпалу, що потрібен для повного заліку пір. 4 Експериментальне встановлено, що процес руйнування субмікронних включань в кристалах Тісапфіру, стає ефективним при одноосних стискуючих напруга х 7,8•105 Н/м 2 уздовж кристалографічного напряму [ 1 1 02 ] і температурі вище 1900°С, оскільки в цьому випадку субмікронні пори заліковуються по дислокаційному механізму. При стискуючих напругах менше 7,8•105 Н/м 2 субмікронні пори заліковуються шляхом повакансійного розчинення, що на порядок збільшує час відпалу. Верхня межа одноосних стискуючих напруг обмежена значенням 60•105 Н/м 2, оскільки великі навантаження спричиняють деформацію заготівок, що відпалюються. Кристали слід відпалювати в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію при температурі 1900...2010°С, оскільки при нижчих температурах знижується ефективність дифузійних процесів і збільшується тривалість заліку субмікронних пор. Крім того, зі зменшенням температури збільшуються порогові значення стискуючих напруг, що необхідні для ефективного руйнування субмікронних включань. Збільшува ти температуру ізотермічної витримки вище 2010°С недоцільно, оскільки час відпалу зменшується трохи, але істотно зростають енерговитрати. Експериментальне встановлено, що час, який потрібен для руйнування субмікронних включань при відпалі в насичених парах термічної дисоціації оксиду алюмінію знаходиться в інтервалі 40... 80 годин. У таблиці приведені параметри заготівок з Тісапфіру, які одержані при різних те хнологічних режимах і по способу-прототипу. Таблиця Технологічні режими Відносна відпалу в насичених промене парах термічної ва дисоціації оксиду міцність y алюмінію W/W0 Результ № , Кристалогра ат фічний t, % l= s, ч Т,° напрямок l 2 532 =80 С прикладу Н/м а нм 0нм навантажен с ь 1 2 3 4 5 6 7 8 9 Субмікр 19 7,8• 8 1, онних 2.9 1 1,44 [ 1 1 02 ] 00 105 0 5 включан 4 ь не має Висока концент рація 19 7,8• 2 2 0,7 2 0,43 [ 1 1 02 ] 00 105 0 3 субмікро 2 нних включан ь 5 81385 3 19 00 [ 1 1 02 ] 3•10 6 5 0 8 2 4 19 00 [ 1 1 02 ] 60•1 4 0, 05 0 8 5 17 00 [ 1 1 02 ] 7.8• 6 105 0 20 6 30 [ 1 1 02 ] 7,8• 4 1, 105 5 9 7 20 30 [ 1 1 02 ] 60•1 4 0, 05 0 4 8 20 40 [ 1 1 02 ] 7,8• 6 105 0 6 0 9 19 70 [ 1 1 02 ] 90•1 4 05 0 4 0 1 19 0 00 [0001] 7,8• 6 105 0 9 7 1 19 1 00 [ 11 2 0 ] 7,8• 6 105 0 9 5 9 1 Прототип (термообробка 1 Ті-сапфірової заготівки 1 0 2 8х8х50мм, що містить 0 субмікронні включання) Прототип (термообробка 1 Ті-сапфірової заготівки 8х8х50 мм, що не 3 містить субмікронні включання) Висока концент рація субмікро нних включан ь Субмікр онних включан ь не має Висока концент рація субмікро нних включан ь Субмікр онних включан ь не має Субмікр онних включан ь не має Заготівк а розплав илася Заготівк а деформ ована Висока концент рація субмікро нних включан ь Висока концент рація субмікро нних включан ь Висока концент рація субмікро нних включан ь 0,3 0,09 5 2,9 1,43 5 0,2 0,06 7 2,9 4 1,42 2.9 1.41 3 0,2 0,06 6 0,2 0,05 6 0,2 5 0,06 2,9 1,42 4 y - відносна концентрація субмікронних включань в Ті-сапфірі, W0, W - променева міцність Ті-сапфіру до і після термообробки відповідно, що 6 виміряна як на довжині хвилі когерентного накачування (532нм) так і на довжині хвилі власної генерації (800нм). Вимірювання променевої міцності заготівок, що відпалені, проводять по методиці, висловленій в галузевому стандарті ОСТУ І 070.802-30 «Матеріали оптичні і електронні твердотільних лазерів. Метод визначення лазерної міцності». Метод полягає у визначенні величини потужності лазерного випромінювання на довжині хвилі когерентного накачування Ті-сапфіру, - 532нм і на довжині хвилі генерації Ті-сапфіру, - 800нм, при якому наступає руйнування матеріалу, що досліджується. Інтенсивність розсіяного світла прямо пропорційна концентрації центрів розсіяння інофазних включань в кристалі [Шифрин К. С. "Рассеяние света в мутной среде". Государственное издательство техникотеоретической литературы., М.1951, 288 стр.]. У Ті-сапфірі, відсутнє оптичне поглинання на довжині хвилі 632нм (випромінювання He-Ne лазера). Тому зменшення концентрації включань в кристалі при відпалі за способом, що заявляється, можна оцінити по відношенню інтенсивностей 90° розсіяння світла на довжині хвилі 632нм кристалом до і після відпалу. Величина y в межах 0,1...2% не пов'язана з наявністю субмікронних включань і обумовлена залишковим розсіянням світла в кристалі Ті-сапфіра на локальних оптичних неоднорідностях кристалічних ґрат, що викликані наявністю іонів титана. Запропонований спосіб реалізують таким чином. Орієнтовану заготівку з сапфіру, що активована титаном, 8х8х50 мм 2, у якої кристалографічній напрям [1 1 02 ] співпадає з довгою (50мм) стороною, завантажують в замкнутий корундовий контейнер і встановлюють вертикально. Бічна оболонка корундового контейнеру виконана із спеченого оксиду алюмінію пористістю не менше 60%. Корундовий контейнер із заготівкою поміщають в молібденовий контейнер, на дні якого знаходиться шар (10...15мм ) корундових гранул діаметром 2...4ММ - джерело пара оксиду алюмінію. Зверху на торець заготівки встановлюють молібденовий вантаж вагою 5кг (еквівалент 7,8•105 Н/м 2). Молібденовий контейнер із заготівкою поміщають у вакуумну піч СШВЛ 1.2,5/25, робочий простір якої відкачують до залишкового тиску (1,3...2)•10-3 Па. Піч нагрівають із швидкістю 400°С/час до температури 1970°С і протягом 65 годин заготівку відпалюють при цій температурі. Після ізотермічної витримки температуру в печі знижують із швидкістю 250°С/час до 1200°С, потім вимикають нагрів, і піч інерційно остигає до кімнатної температури. Після охолодження заготівку витягують з вакуумної печі, поміщають у відкритий молібденовий контейнер і завантажують в піч з графітовим нагрівачем. Робочий простір печі відкачують до залишкового тиску 10...20 Па, а потім заповнюють його сумішшюаргону і метану до тиску 7•104 Па при об'ємному змісті метану 20 % об. Заготівки в печі нагрівають із швидкістю 350°С/час до температури 7 81385 1800°С. В процесі підйому температури тиск газу в печі збільшується і досягши значення 2•105 Па його стабілізують підбурюванням надмірного газу в атмосферу. Заготі вки відпалюють при температурі 1800°С протягом 8 годин, після чого температуру в печі знижують із швидкістю 250°С/час до повного охолодження печі. Приклади реалізації способу при інших технологічних параметрах приведені в таблиці. Як видно з таблиці, оптимальними є режими, що описані в прикладах 1, 4, 6, 7. Таким чином, режими, обмежені межами, параметрів, що заявляються, забезпечують виключення браку, що обумовлюється наявністю субмікронних включань, збільшують ви хід годних виробів на 10-30%, і забезпечують значення променевої міцності виробів з Ті-сапфіру не менше ніж у способупрототипу. Використовування способу, що заявляється, дозволяє зменшити енерговитрати, за рахунок зниження температури відпалу. 8

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for heat treatment of billets of active laser elements from monocrystals of sapphire, which are activated with titanium

Автори англійською

Vyshnevskyi Serhii Dmytrovych, Kryvonosov Yevhenii Volodymyrovych, Lytvynov Leonid Arkadiovych

Назва патенту російською

Способ термообработки заготовок активных лазерных элементов из монокристаллов сапфира, активированных титаном

Автори російською

Вишневский Сергей Дмитриевич, Кривоносов Евгений Владимирович, Литвинов Леонид Аркадьевич

МПК / Мітки

МПК: C30B 29/20, C30B 33/00

Мітки: термообробки, елементів, сапфіра, активовані, лазерних, спосіб, активних, заготівок, монокристалів, титаном

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/4-81385-sposib-termoobrobki-zagotivok-aktivnikh-lazernikh-elementiv-z-monokristaliv-sapfira-shho-aktivovani-titanom.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб термообробки заготівок активних лазерних елементів з монокристалів сапфіра, що активовані титаном</a>

Подібні патенти