Спосіб вирощування кристалу борату стронцію sr4b14 o25 ,легованого лантаноїдами

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб вирощування кристалу борату стронцію Sr4B14O25, легованого лантаноїдами, який включає приготування шихти стехіометричного складу з SrO і В2О3, узятих в молярному відношенні 1:2, розплавлення її, наступне охолодження і вирощування монокристалів на орієнтовану затравку з обертанням і програмованим витягуванням, який відрізняється тим, що в шихту вводять легуючі домішки у вигляді окислу лантаноїду RЕ2О3 в кількості

                                                         

Текст

Спосіб вирощування кристалу борату стронцію S14B14O25 легованого лантаноїдами, який Винахід відноситься до виробництва матеріалів нелінійної оптики і може бути використаний для створення нових активних лазерних середовищ Відомий спосіб вирощування монокристалів тетрабората стронцію [L Bohaty, I Liebertz, S Stahz -Z Knstallogr, 172 (1985), p 135] із розплаву стехіометричного складу Компонентами шихти є SrO і В2О3, які взяті в молярному відношенні 1 2 Недоліком відомою способу є одержання маленьких гольчатої форми кристалів, які не годні для використання в оптиці Найбільш близькими за сукупністю ознак до заявляемого є спосіб вирощування монокристалів тетраборату стронцію [Патент Роси №2103425, С30В17/00, 27 01 1998р], який включає приготування шихти стехіометричного складу, розплавлення її і вирощування на орієнтовану затравку з обертанням і програмованим витягуванням Таким чином забезпечується можливість вирощування однорідних монокристалів S r B ^ ромбовидної фази великих розмірів, що дає можливість використовувати їх для створення нелінійнооптичних елементів Недоліком відомого способу є неможливість одержання кристалів, що використовуються як активні лазерні середовища В основу винаходу поставлено завдання створення способу вирощування кристалу бората стронцію, легованого лантаноїдами, в якому, за рахунок включення в склад шихти легуючих окислів лантаноїдів, забезпечується вирощування кристалів невідомого раніше моноклинного кристалу бората стронцію легованого лантаноїдами видається під відповідальність власника патенту ЛЕГОВАНОГО ЛАНТА включає приготування шихти стехіометричного складу з SrO і В2О3, узятих в молярному відношенні 1 2, розплавлення її, наступне охолодження і вирощування монокристалів на орієнтовану затравку з обертанням і програмованим витягуванням, який відрізняється тим, що в шихту вводять легуючі домішки у вигляді окислу лантаноїду RE2O3 в КІЛЬКОСТІ RE2O3 SrO = (0,3 - 1,0)моль% Sr4Bi4O25 RE , які можна використовувати як активні лазерні середовища Для вирішення поставленого завдання в способі вирощування кристалу бората стронцію Sr4Bi4O25, що включає виготовлення шихти стехіометричного складу із SrO і В2О3, взятих в молярному відношенні 1 2, розплавлений її з наступним охолодженням та вирощуванням монокристалів на орієнтовану затравку з обертанням и програмованим витягуванням, згідно з винаходом в шихту вводять легуючі домішки у вигляді окислу лантаноїдів RE2O3 В КІЛЬКОСТІ CO SrO При концентрації легуючих домішок — 2 З SrO нижче значення 0,3моль% вирощуються кристали SrB4O7, що мають ромбовидну структуру з просторовою групою Pnm2i При концентрації лантаноїдів, яка перевищує значення R E 2 ° 3 = io M O J 1 b % в SrO системі спостерігається поява сполучень, які відрізняються від тетрабората стронцію та борату стронцію Sr4Bi4O25, а вирощені кристали мають макродефекги, які не дозволяють виготовляти з них активні лазерні елементи Спосіб здійснюється таким чином шихту готують з SrO, B2O3 і RE2O3, взятих в молярному відношенні 1 2 х , де х = (0,003 - 0,01) Шихту перемішують і плавлять в платиновому тиглі В розплав, нагрітий до температури плавлення (1015 ± 5)°С 49341 вставляють реверсивно-обертаючу мішалку, встановлюють температуру розплаву вище температури плавлення не більше ніж на (15 - 20)°С, вводять орієнтовану затравку в контакт з розплавом, підплавляють затравку, після чого знижують температуру розплаву до температури кристалізації і нижче для забезпечення розростання монокристала до заданого діаметру і кристал витягують при безперервному його обертанні з регульованою швидкістю витягування і зниженням температури по програмі ВІДПОВІДНОСТІ з тепловими характеристиками кристала і тепловими умовами в зоні росту, а потім відривають кристал від розплаву і охолоджують по програмі 4 кристали Рґ.3+ вах Були вирощені 3+ Sr4Bi4O25 Eu з концентраціями легуючої домішки RE 2 ° 3 = 03,0,87,1,0м,0мо Для одержання розSrO плаву використовували платиновий тигель об'3 ємом 90см При цьому маса взятих реактивів для ВІДПОВІДНИХ їм концентрацій легуючої домішки наведена в таблиці Тигель розміщувався в ПІЧІ опору, в положення, при якому градієнт температури в приповерхневому шарі розплаву, виміряний незахищеною платино-платино-радієвою термопарою складав (80-100)С7см Спосіб був опробуваний в лабораторних умоТаблиця Розрахункові значення маси реактивів в розглянутих прикладах № приклада 1 2 3 4 3 6 Рг 2 О 3 SrO м о л ь % 0,3 0,87 1,0 0 0 0 Eu 2 O 3 SrO моль % 0 0 0 0,3 0,87 1,0 M[SrCO3] Кваліф ОСЧг М[Н3ВОз] Кваліф ОСЧг М[Рг2О3] Кваліф ЧДАг М[Еи2О3] Кваліф ЧДАг 139,8 139,8 139,8 139,8 139,8 139,8 234,2 234,2 234,2 234,2 234,2 234,2 0,937 2,719 3,124 0 0 0 0 0 01,0 2,9 3,333 Розплав нагрівали вище температури кристалізації (1015 ± 5)°С на (15 - 20)°С В розплав опускалась платинова мішалка, яка реверсивно оберталась з швидкістю бОоб/хв і періодом зміни напряму обертання 5хв Процес гомогенізації розплава тривав (5 - 6)год Орієнтовану по кристалографічній осі a, b або с затравку вводили в піч до стикання з розплавом при температурі (1020 - 1025)°С в точці теплового центру В процесі підплавлення затравки температура швидко знижувалась до температури кристалізації При досягненні температури кристалізації установлювались швидкість зниження температури (2 - 4)°С/доб і швидкість витягування кристала (2 - 3)мм/доб Кристал розрощувався до діаметра (20 - 25)мм Зниження температури припинялось й установлювалась швидкість виймання кристалу (1 - 2)мм/доб При досягненні довжини кристала більше 10мм кристал піднімають до відрива від розплаву і охолоджують з піччю з швидкістю 20°С/год Рентгенографічні дослідження показу лографічної системи, просторова група С2/т, параметри ґратки а = 16.384А, b = 7,762 А, с =16,619 А, кут р =119,18° Одержані кристали Sr4Bi4O25 Pr +, або Sr4Bi4O25 Eu 3+ не містяться в міжнародній базі рентгенометричних даних кристалічних речовин Кристали даної сполуки одержані вперше і відрізняються від ромбовидної фази SrB4O7, SrB4O7 Eu 3+ , Pr3+, або SrB4O? Pr3+, яка одержується при концентраціях домішки лантаноїдів —— = (Q - 0,2)моль% і відноситься до ромбоїд ГО видної кристалографічної системи, просторова група Pnm2i, параметри ґратки а = 4.4263А, b = 10.7074А, с = 4.2338А згідно ICPDC 15-801 Рекомендований спосіб вирощування забезпечує в порівнянні з існуючими перевагу одержання нової фази кристалу з концентрацією домішок лантаноїдів, яка дозволяє використовувати одержані кристали як активні лазерні елементи 3+ ють, що Рг3 одержані кристали 3+ 3+ Eu відносяться до моноклінної криста ДП «Український інститут промислової власності» (Укрпатент) вул Сім'ї Хохлових, 15, м Київ, 04119, Україна ( 0 4 4 ) 4 5 6 - 2 0 - 90 ТОВ "Міжнародний науковий комітет" вул Артема, 77, м Київ, 04050, Україна (044)216-32-71

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for growing strontium borate crystal sr4b14 o25 doped with lanthanides

Автори англійською

Oseledchyk Yurii Semenovych

Назва патенту російською

Способ выращивания кристалла бората стронция sr4b14 o25 , легированного лантаноидами

Автори російською

Оселедчик Юрий Семенович

МПК / Мітки

МПК: C30B 17/00

Мітки: легованого, sr4b14, стронцію, борату, лантаноїдами, спосіб, вирощування, кристалу

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-49341-sposib-viroshhuvannya-kristalu-boratu-stronciyu-sr4b14-o25-legovanogo-lantanodami.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб вирощування кристалу борату стронцію sr4b14 o25 ,легованого лантаноїдами</a>

Подібні патенти