Спосіб отримання напівпровідникового матеріалу
Номер патенту: 60531
Опубліковано: 25.06.2011
Автори: Мар'янчук Павло Дмитрович, Майструк Едуард Васильович
Формула / Реферат
1. Спосіб отримання напівпровідникового матеріалу, який включає підготовку вихідних компонентів, до складу яких входять ртуть, марганець, телур, вирощування твердого розчину та виготовлення зразків матеріалу, який відрізняється тим, що до складу вихідних компонентів додають залізо у співвідношенні, яке визначається стехіометричним складом твердого розчину Hg1-х-yMnxFeyTe.
2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що виготовлені зразки відпалюють у парах ртуті.
Текст
1. Спосіб отримання напівпровідникового матеріалу, який включає підготовку вихідних компо 3 60531 виготовляли з відтягнутим конічним дном з кутом порядку 30-40 градусів, що збільшує ймовірність одержання монокристала. Синтез проводили в електричній трубчатій печі. Для прискорення реакції між компонентами, в яких густини сильно відрізняються, і одержання однорідних злитків Hg1-xyMnxFeyTe в процесі синтезу, технологічна установка була обладнана пристроєм для коливального руху пічки з ампулою. Для забезпечення рівномірного нагріву по довжині ампули з шихтою, а також для запобігання руйнації пічки у разі вибуху ампули, остання поміщалась в циліндричний контейнер, виготовлений із товстостінної жароміцної нержавіючої сталі. Температура синтезу складала від 730 °С до 790 °С в залежності від складу зразків, при цьому необхідно зауважити, що температура шихти під час синтезу піднімалась поступово, з витримками при температурах плавлення та кипіння компонентів, що входять до складу твердих розчинів Hg1-x-yMnxFeyTe. Синтезовані сплави використовували для вирощування монокристалів Hg1-x-yMnxFeyTe. Монокристали Hg1-x-yMnxFeyTe одержували методом Бріджмена. Поміщену в пічку ампулу повільно нагрівали із швидкістю 20-25 град/год до температури плавлення Hg1-x-yMnxFeyTe. Особливо повільно температуру піднімали в інтервалі Т=300-400 °С, в межах якого спостерігається виділення вільної ртуті із злитку. Після витримки при температурі плавлення (~40 годин) ампулу опускали із швидкі Комп’ютерна верстка М. Мацело 4 стю 1-4 мм/год через градієнт температур ~30 град/см. Температуру при вирощуванні монокристалів стабілізували за допомогою регулятора температури ВРТ-2 з точністю ±1 °С. Відпал зразків Hg1-x-yMnxFeyTe в парах ртуті проводили при температурі t ~ 200 °С протягом 300 годин в скляних ампулах, які відкачували до -5 10 мм рт.ст. В одному кінці ампули знаходились ртуть, необхідна для створення парів середовища, в іншому - зразок. Ампулу поміщали у двосекційну піч, в якій задавали температуру, необхідну для створення контрольованого тиску парів ртуті над зразком, і температуру зразка. Температуру підтримували з точністю ±2 °С і контролювали ХА термопарами. Процес термообробки в парах ртуті продовжували до того часу, поки не наступала термодинамічна рівновага у зразку, тобто при даних умовах термообробки параметри зразка більше не змінювались із збільшенням часу відпалу. Як показали дослідження, величина відносного магнітоопору ( / ) зразків Hg1-x-yMnxFeyTe сягає більше 100 % (при Т=77К) і поступово зменшується з ростом температури (фіг.) внаслідок погіршення виконання умови сильного магнітного поля для носіїв заряду. Отримання твердих розчинів Hg1-x-yMnxFeyTe з високим значенням відносного магнітоопору розширює їх сферу застосування у приладобудуванні. Підписне Тираж 24 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for producing semiconductor material
Автори англійськоюMaistruk Eduard Vasyliovych, Marianchuk Pavlo Dmytrovych
Назва патенту російськоюСпособ получения полупроводникового материала
Автори російськоюМайструк Эдуард Васильевич, Марьянчук Павел Дмитриевич
МПК / Мітки
МПК: C30B 13/00
Мітки: спосіб, матеріалу, отримання, напівпровідникового
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-60531-sposib-otrimannya-napivprovidnikovogo-materialu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання напівпровідникового матеріалу</a>
Попередній патент: Процес корекції характеристик напівпровідникових матеріалів
Наступний патент: Спосіб отримання напівпровідникового матеріалу
Випадковий патент: Спосіб виготовлення колісної заготовки