Реакторні системи механічного псевдозрідження шару й способи, придатні для виробництва кремнію
Формула / Реферат
1. Реакторна система, придатна для виробництва кремнію, що містить:
реакційний казан, що має внутрішню частину, відділену від його зовнішньої частини за допомогою однієї або декількох стінок казана, які під час роботи утримують перший газоподібний хімічний продукт у щонайменше частині внутрішньої частини реакційного казана, при цьому перший хімічний продукт являє собою щонайменше один з газу силану (SiH4), газу трихлорсилану (SiHCl3) або газудихлорсилану (SiH2Cl2);
механічний засіб для забезпечення впливу газу, що містить перший газоподібний хімічний продукт, на поверхню пилу, гранул або інших часток, при цьому механічний засіб містить піддон і засіб механічної вібрації, при цьому піддон розташований у внутрішній частині реакційного казана та встановлений з можливістю щонайменше вертикального руху відносно реакційного казана під час роботи, при цьому піддон має плоску нижню поверхню, що нагрівається, і щонайменше одну периметрову стінку, яка проходить вгору від нижньої поверхні піддона по периметру піддона до висоти периметрової стінки, при цьому периметрова стінка і нижня поверхня формують частково ізольований контейнер, при цьому піддон відкритий у напрямку до внутрішньої частини реакційного казана в області верхньої частини периметрової стінки для забезпечення можливості виходу отриманого продукту реакції з піддона через периметрову стінку під час руху піддона, при тому, що піддон поміщений у внутрішню частину реакційного казана, при цьому засіб механічної вібрації з'єднаний з піддоном з можливістю передачі приводного зусилля та виконаний з можливістю забезпечення механічної вібрації піддона відносно реакційного казана при заданій амплітуді та заданій частоті, які залежать від необхідного кінцевого розміру гранул, для створення постелі для механічного псевдозрідження пилу, гранул або інших часток, що містяться у піддоні, причому щонайменше одне з наступного: і) амплітуда, іі) частота і ііі) висота периметрової стінки задане на підставі необхідного кінцевого розміру одержуваних гранул;
засіб для нагрівання пилу, гранул або інших часток до температури, яка вище температури осадження першого газоподібного хімічного продукту, так, що при контакті із зазначеними поверхнями перший газоподібний хімічний продукт хімічно розпадається, і на зазначених поверхнях значно осідає другий хімічний продукт, причому засіб для нагрівання містить щонайменше один випромінюючий або електрорезистивний нагрівальний елемент, що міститься у герметичному контейнері у реакційному казані, який містить термоізоляційний матеріал, що оточує засіб для нагрівання з усіх сторін, крім частини, яка утворює нижню поверхню піддона;
підсистему подачі першого газоподібного хімічного продукту, що гідравлічно з'єднана з внутрішньою частиною реакційного казана, при цьому перший газоподібний хімічний продукт вибраний з таких газоподібних хімічних продуктів, які термічно розпадаються для забезпечення щонайменше другого хімічного продукту при нагріванні вище температури осадження, причому другий хімічний продукт є значною мірою нелетким продуктом і схильний до осадження на гарячій поверхні в безпосередній близькості; і
щонайменше один контролер, функціонально з'єднаний з нагрівачем, який під час роботи спонукає нагрівач виробляти теплову потужність, яка підтримує температуру постелі для механічного псевдозрідження в межах діапазону вище температури газу, що містить перший хімічний продукт, причому газ знаходиться за межами постелі для механічного псевдозрідження, і причому під час роботи газ підданий впливу постелі для механічного псевдозрідження; і
підсистему збору, що розташована знизу відносно піддона і проходить за внутрішній периметр піддона на достатню відстань, щоб забезпечити вловлювання підсистемою збору більшої частини отриманого продукту реакції, що виходить внаслідок вібрації з піддона через периметрову стінку.
2. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне з наступного: ексцентричний маховик, п'єзоелектричний перетворювач або акустичний перетворювач.
3. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань в діапазоні заданих частот від приблизно 1 до 4000 циклів за хвилину при заданій амплітуді від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,1016 метра, і висота периметрової стінки становить від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра.
4. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою в діапазоні від приблизно 500 до 3500 циклів за хвилину при заданій амплітуді від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра, і висота периметрової стінки становить від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра.
5. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою в діапазоні від приблизно 1000 до 3000 циклів за хвилину.
6. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою приблизно 2500 циклів за хвилину.
7. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,1016 метра.
8. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра.
9. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні приблизно від приблизно 0,00079 метра до приблизно 0,00318 метра.
10. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою, що становить приблизно 0,00039 метра.
11. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що реакційний казан виконаний з можливістю заповнення його внутрішньої частини газом, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт.
12. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що реакційний казан містить щонайменше одну стінку, причому щонайменше одна стінка підтримується охолодженою за допомогою охолоджувальної сорочки або охолодних пластин для повітряного охолодження, розташованих зовні реакційного казана.
13. Реакторна система за п. 12, яка відрізняється тим, що охолоджувальна сорочка виконана з можливістю забезпечення протікання через неї холодоагенту, який має температуру та швидкість потоку, контрольовані із установленням низького значення температури газу у внутрішній частині реакційного казана.
14. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана в межах 30-500 °C.
15. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана в межах 50-300 °C.
16. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана рівною 100 °C.
17. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана рівною 50 °C.
18. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 100-1300 °C.
19. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 100-900 °C.
20. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 200-700 °C.
21. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 300-600 °C.
22. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона рівною приблизно 450 °C.
23. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю швидкості розпаду першого продукту за допомогою регулювання температури нижньої поверхні піддона.
24. Реакторна система за п. 23, яка відрізняється тим, що периметрова стінка утворює замкнуту поверхню.
25. Реакторна система за п. 24, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю формування більших гранул шляхом збільшення висоти периметрової стінки і формування менших гранул шляхом зменшення висоти периметрової стінки.
26. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю нагріву шару електрично.
27. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки манометричного тиску газу у внутрішній частині реакційного казана в межах приблизно 48263-1378951 Па.
28. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю додавання до газу у внутрішній частині реакційного казана, що містить перший хімічний продукт, третього нереакційноздатного продукту, і вилучення з реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду.
29. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного додавання у реакційний казан газу, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт, і безупинного вилучення із реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду.
30. Реакторна система за п. 29, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного здійснення контролю ступеня перетворення першого хімічного продукту за допомогою відбору зразків парового простору всередині реакційного казана.
31. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю періодичного додавання газу, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт, і періодичного вилучення із реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду.
32. Реакторна система за п. 31, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного здійснення контролю ступеня перетворення першого хімічного продукту за допомогою відбору зразків парового простору всередині реакційного казана та/або за допомогою контролю підвищення або зниження тиску в реакційному казані.
33. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю додавання у реакційний казан газу, що складається з газу силану (SiH4) і розріджувача у вигляді водню, вилучення із реакційного казана газу, що складається з газу силану, що не прореагував, розріджувача у вигляді водню та газоподібного водню, утвореного в результаті реакції розпаду, і додавання пилу і гранул, що складаються із кремнію, в шар.
34. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана так, що розпад газу силану приводить до утворення полікремнію, що осідає на пил, що формує гранули, а також на гранулах, що формують більші за розміром гранули.
35. Реакторна система за п. 34, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю збору гранул безупинно із шару і регулювання середнього розміру зібраних гранул за допомогою регулювання висоти периметрової стінки піддона.
36. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю формування більших за розміром гранул за допомогою збільшення висоти периметрової стінки контейнера і формування менших за розміром гранул за допомогою зменшення висоти периметрової стінки контейнера.
37. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00025 метра в діаметрі - 0,00635 метра в діаметрі.
38. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00039 метра в діаметрі - 0,00476 метра в діаметрі.
39. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00079 метра в діаметрі - 0,00318 метра в діаметрі.
40. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул рівним приблизно 0,00318 метра в діаметрі.
41. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 34474-2068427 Па.
42. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 101353-1378951 Па.
43. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 206843-689476 Па.
44. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана рівним приблизно 482633 Па.
45. Реакторна система за п. 31, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана спочатку періодичної реакції рівним приблизно 101353 Па, а наприкінці періодичної реакції - у межах приблизно 193053 Па - 220632 Па.
46. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення першого хімічного продукту за допомогою регулювання температури шару, заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації, концентрації перших продуктів у реакційному казані, тиску газу в реакційному казані та часу витримування газу в реакційному казані.
47. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення силану за допомогою регулювання температури шару, заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації, концентрації перших продуктів у реакційному казані, тиску газу в реакційному казані та часу витримування газу в реакційному казані.
48. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 20-100 %.
49. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 40-100 %.
50. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 80-100 %.
51. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану рівним 98 %.
52. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,00625 метра до приблизно 0,381 метра.
53. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,381 метра.
54. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра.
55. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра.
56. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки становить приблизно 0,0508 метра.
57. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що щонайменше нижня поверхня піддона виконана з металу або графіту, або з комбінації металу й графіту.
58. Реакторна система за п. 57, яка відрізняється тим, що метал являє собою нержавіючу сталь марки 316 SS або нікель.
59. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що вона виконана так, що швидкість утворення гранул узгоджена зі швидкістю утворення пилу.
60. Реакторна система за п. 59, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання швидкості утворення пилу за допомогою регулювання заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації і висоти периметрової стінки сторін.
61. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю рекуперації водню, що вилучається з реакційного казана, для застосування в супутніх процесах виробництва силану або для продажу.
62. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання залишкової концентрації газоподібного водню, захопленого гранулами або включеного в другий хімічний продукт, що містить гранули, за допомогою регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в газі, що додається в реакційний казан.
63. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-90 молярних відсотків.
64. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-80 молярних відсотків.
65. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-50 молярних відсотків.
66. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0 - 20 молярних відсотків.
67. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що додатково містить:
вихідний шлюзовий бункер, що містить два або більше запірних клапани та проміжну другу захисну оболонку, при цьому система виконана з можливістю віддалення часток, що виходять за межі плоского піддона, із захисної оболонки через вихідний шлюзовий бункер.
68. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що додатково містить:
вхідний шлюзовий бункер, що містить два або більше запірних клапани та проміжний другий реакційний казан, з'єднаний із внутрішньою частиною реакційного казана та функціонуючий для вибіркової подачі часток у внутрішню частину реакційного казана.
Текст
Реферат: Системи та способи механічного псевдозрідження забезпечують ефективне, рентабельне виробництво кремнію. Частки можуть подаватися в нагрітий лоток або піддон, який зазнає впливу коливань або вібрацій для того, щоб забезпечити реакційну поверхню. Частки переміщаються вниз у лотку або піддоні, а продукт реакції переміщається вгору в лотку або піддоні, у міру того як продукт реакції досягає необхідного стану. Гази, що відходять, можуть повторно використовуватися. UA 112063 C2 (12) UA 112063 C2 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 ПЕРЕХРЕСНЕ ПОСИЛАННЯ НА РОДИННУ ЗАЯВКУ Дана заявка заявляє пріоритет згідно з розділом 35 зводу законів США, пункт 119(e) попередньої заявки на патент США №. 61/390,977, поданої 7 жовтня 2010р, яка у всій своїй повноті включена в даний опис за допомогою посилання. ОБЛАСТЬ ТЕХНІКИ Дане розкриття відноситься до реакторів механічного псевдозрідження, які можуть бути придатні для виробництва кремнію, наприклад полікремнію, наприклад, за допомогою хімічного парофазного осадження. ПЕРЕДУМОВИ ВИНАХОДУ Кремній, зокрема полікремній, є основним матеріалом, з якого виготовляється велика різноманітність напівпровідникових виробів. Кремній становить основу багатьох технологій інтегральних схем, а також фотоелектричних перетворювачів. Особливим попитом у промисловості користується кремній високої чистоти. Процеси для виробництва полікремнію можуть здійснюватися в реакційних пристроях різних типів, у тому числі в реакторах хімічного парофазного осадження та реакторах із псевдозрідженим шаром. Різні аспекти процесу хімічного парофазного осадження (ХПО), зокрема процес виробництва кремнію фірми Siemens або кристалізація на “розпеченому дроті”, були описані, наприклад, у ряді патентів США або в опублікованих заявках (див., наприклад, патенти США № 3,011,877; № 3,099,534, № 3,147,141, № 4,150,168, № 4,179,530, № 4,311,545 і № 5,118,485). Як силан, так і трихлорсилан використовуються в якості матеріалів, що завантажуються, для виробництва полікремнію. Силан є більш доступним у якості вихідної сировини високої чистоти, оскільки він більш простий в очищенні, ніж трихлорсилан. Виробництво трихлорсилану вносить домішки бору та фосфору, які важко вилучити, оскільки вони мають температури кипіння, близькі до температури кипіння самого трихлорсилану. Хоча як силан, так і трихлорсилан використовуються в якості вихідної сировини в реакторах хімічного парофазного осадження типу Siemens, у таких ректорах більш часто використовується трихлорсилан. З іншого боку, силан частіше використовується в якості вихідної сировини для виробництва полікремнію в реакторах із псевдозрідженим шаром. Силан має недоліки при використанні в якості вихідної сировини або у випадку хімічного парофазного осадження, або у випадку реакторів із псевдозрідженим шаром. Для виробництва полікремнію із силану в реакторі хімічного парофазного осадження типу Siemens може вимагатися до двох раз більше електроенергії в порівнянні з виробництвом у такому реакторі полікремнію із трихлорсилану. Крім того, капітальні витрати є високими, оскільки реактор хімічного парофазного осадження типу Siemens забезпечує вироблення лише приблизно половини кількості полікремнію із силану, у порівнянні з виходом полікремнію із трихлорсилану. Таким чином, переваги, що є наслідком більш високої чистоти силану, нівелюються більш високими капітальними й експлуатаційними витратами при виробництві полікремнію із силану в реакторі хімічного парофазного осадження типу Siemens. Це призвело до широкого застосування трихлорсилану в якості матеріалу, що завантажується, для виробництва полікремнію в таких реакторах. Силан у якості вихідної сировини для виробництва полікремнію в реакторах із псевдозрідженим шаром має переваги відносно споживання електроенергії в порівнянні з реакторами хімічного парофазного осадження типу Siemens. Однак існують недоліки, які нівелюють переваги відносно експлуатаційних витрат. При використанні реакторів із псевдозрідженим шаром сам по собі процес може в результаті давати полікремній низької якості, навіть при високій чистоті вихідної сировини. Наприклад, може утворюватися полікремнієвий пил, який може перешкоджати роботі через формування зернистого матеріалу усередині реактора та може також зменшувати загальний вихід. Крім того, полікремній, вироблений у реакторі із псевдозрідженим шаром, може містити залишковий газоподібний водень, який за допомогою наступної обробки повинен бути вилучений. Крім того, полікремній, вироблений у реакторі ізпсевдозрідженим шаром, може також містити домішки металів внаслідок абразивних умов усередині псевдозрідженого шару. Таким чином, хоча силан високої чистоти може бути легкодоступним, його застосування в якості вихідної сировини для виробництва полікремнію в реакторах обох типів може бути обмежене вищевказаними недоліками. Реактори хімічного парофазного осадження можуть використовуватися для перетворення перших хімічних продуктів, що присутні у пароподібній або газоподібній формі, у твердий матеріал. Осадження може включати й, як правило, включає хімічне перетворення перших хімічних продуктів в один або декілька других хімічних продуктів, при цьому один із других 1 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 хімічних продуктів являє собою нелеткий продукт. Хімічне осадження викликається за допомогою нагрівання підкладки до певної високої температури, при впливі якої перший хімічний продукт розпадається на один або декілька вищезгаданих других хімічних продуктів, при цьому один із других хімічних продуктів являє собою по суті нелеткий продукт. Тверді речовини, утворені й осаджені таким чином, можуть бути у формі послідовних кільцевих шарів, осаджених на об'ємних формах, таких як нерухливі стрижні, або осаджених на рухливих підкладках, таких як гранули або інші частки. Сьогодні гранули виробляють, або вирощують, у реакторі із псевдозрідженим шаром, де скупчення пилу, що складається з бажаного продукту реакції розпаду, що виконує функцію затравки для додаткового росту, і попередньо сформованих гранул, що також складаються із бажаного продукту реакції розпаду, суспендують, або псевдозріджують, за допомогою газового потоку, що складається з перших хімічних продуктів і, зазвичай, із третіх нереакційноздатних газових хімічних продуктів, при цьому пил і гранули виконують функцію підкладки, на яку осаджується один із других хімічних продуктів. У цій системі третій нереакційноздатний хімічний продукт виконує дві ключові функції. Поперше, третій нереакційноздатний продукт виконує функцію розріджувача для контролю ступеня розпаду для того, щоб надлишковий пил, потенційна втрата виходу, не формувався в реакторі розпаду. У цій функції третій нереакційноздатний продукт зазвичай є головним чином переважним продуктом. По-друге, третій нереакційноздатний продукт являє собою засіб, за допомогою якого псевдозріджується шар пилу та гранул. Для здійснення цієї другої функції потрібна велика об'ємна швидкість потоку третього нереакційноздатного газового продукту. Більша об'ємна швидкість потоку в результаті призводить до більших енерговитрат і проблем, пов'язаних із утворенням надмірної кількості пилу, внаслідок абразивних сил усередині псевдозрідженого шару, а також до втрати виходу, внаслідок видування пилу із шару. КОРОТКИЙ ОПИС ВИНАХОДУ Як було зазначено в цьому документі, пил, гранули або інші частки механічно суспендують, або псевдозріджують, і, таким чином, піддають впливу перших хімічних продуктів без необхідності в потоці псевдозріджуючого газу. Механічне суспендування, або псевдозрідження, відбувається для того, щоб піддати частки впливу перших хімічних продуктів за допомогою повторюваної передачі імпульсів у змінному вертикальному та/або горизонтальному напрямку та/або за допомогою механічних піднімальних пристроїв. Передача імпульсів проводиться за допомогою механічної вібрації, при цьому пил, гранули та/або інші частки нагріваються та контактують із першими хімічними продуктами. Другий хімічний продукт, отриманий при розпаді перших хімічних продуктів, осідає на пилу, гранулах і інших частках, суспендованих і псевдозріджених у такий спосіб. Таким чином, пил перетвориться в більші частки або гранули. Пил для використання в якості матеріалу для затравки може створюватися з гранул за допомогою контрольованого стирання та/або може додаватися в систему з окремого джерела пилу, гранул або інших часток. Реакторну систему хімічного парофазного осадження можна резюмувати як таку, що містить механічний засіб для забезпечення значного впливу газу, що містить перший газоподібний хімічний продукт, на поверхню великої кількості пилу, гранул або інших часток; засіб для нагрівання пилу, гранул або інших часток або поверхонь пилу, гранул або інших часток до досить високої температури так, що перший газоподібний хімічний продукт, що вступив у контакт із зазначеними поверхнями, хімічно розпадається й значною мірою осідає у вигляді другого хімічного продукту на зазначених поверхнях; і джерелопершого газу, обраного з таких хімічних продуктів, які розпадаються при нагріванні на один або декілька других хімічних продуктів, один з яких є в значній мірі нелетким продуктом і схильний до осадження на гарячій поверхні в безпосередній близькості. Перший хімічний продукт може являти собою газ силан (SiH4). Перший хімічний продукти може являти собою газ трихлорсилан (SiHCL 3). Перший хімічний продукт може являти собою газ дихлорсилан (SiH 2C12). Механічний засіб може являти собою вібруючу постіль. Вібруюча постіль може містити щонайменше одне з наступного: ексцентричний маховик, п'єзоелектричний перетворювач або акустичний перетворювач. Частота вібрації може перебувати в діапазоні від 1 до 4000 циклів за хвилину. Частота вібрації може перебувати в діапазоні від 500 до 3500 циклів за хвилину. Частота вібрації може перебувати в діапазоні від 1000 до 3000 циклів за хвилину. Частота вібрації може становити 2500 циклів за хвилину. Амплітуда вібрації може перебувати в діапазоні від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,1016 метра. Амплітуда вібрації може перебувати в діапазоні від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,0127 метра. Амплітуда вібрації може перебувати в діапазоні від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра. Амплітуда вібрації може перебувати в діапазоні від приблизно 0,00079 метра до приблизно 0,00318 метра. Амплітуда 2 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 вібрації може становити приблизно 0,00039 метра. Реакторна система може також містити захисну оболонку із внутрішньою й зовнішньою частиною, при цьому, щонайменше, частина механічних засобів містить вібруючу постіль, розташовану у внутрішній частині захисної оболонки. Засоби для нагрівання можуть бути, щонайменше, частково розташовані у внутрішній частині захисної оболонки. Внутрішня частина захисної оболонки може бути заповнена газом, що містить перший реагент і третій нереакційноздатний продукт. Захисна оболонка може містити щонайменше одну стінку, і щонайменше одна стінка може підтримуватися охолодженої за допомогою охолоджувальної сорочки або охолодних пластин повітряного охолодження, розташованих зовні захисної оболонки. Холодоагент може протікати через охолоджувальну сорочку та може мати температуру та швидкість потоку, контрольовані таким чином, що температура газу у внутрішній частині захисної оболонки може встановлюватися бажаного низького значення. Об'ємна температура газу у внутрішній частині захисної оболонки може підтримуватися в межах 30C 500C. Об'ємна температура газу у внутрішній частині захисної оболонки може підтримуватися в межах 50C - 300C. Об'ємна температура газу у внутрішній частині захисної оболонки може підтримуватися рівної 100C. Об'ємна температура газу у внутрішній частині захисної оболонки може підтримуватися рівної 50C. Вібруюча постіль може містити плоский піддон із щонайменше однією периметровою стінкою, що виходить із нього. Вібруюча постіль може містити нижню поверхню, яка може являти собою плоску поверхню та може нагріватися. Нижня та щонайменше одна периметрова стінка можуть формувати контейнер, і пил, гранули або інші частки другого продукту можуть утримуватися в контейнері. Температура поверхні нагрітої частини постелі може підтримуватися в межах 100 °C - 1300 °C. Температура поверхні нагрітої частини постелі може підтримуватися в межах 100 °C - 900 °C. Температура поверхні нагрітої частини постелі може підтримуватися в межах 200 °C - 700 °C. Температура поверхні нагрітої частини постелі може підтримуватися в межах 300 °C - 600 °C. Температура поверхні нагрітої частини постелі може підтримуватися рівною приблизно 450 °C. Швидкість розпаду першого продукту може контролюватися за допомогою регулювання температури поверхні. Розмір вироблених гранул може контролюватися за допомогою висоти периметрової стінки контейнера. Більші гранули можуть формуватися за допомогою збільшення висоти периметрової стінки, а менші гранули можуть формуватися за допомогою зменшення висоти периметрової стінки. Шар може нагріватися електрично. Манометричний тиск газу у внутрішній частині захисної оболонки може підтримуватися в межах приблизно 48263 Па - 1378951 Па. Газ у внутрішній частині захисної оболонки, що містить перший реагент і третій нереакційноздатний продукт, може бути доданий у захисну оболонку, а газ, що складається з першого реагенту, третього нереакційноздатного розріджувача й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду, може вилучатися із захисної оболонки. Газ, що містить перший реагент і третій нереакційноздатний продукт, може безупинно додаватися в захисну оболонку, а газ, що складається з першого реагенту, третього нереакційноздатного розріджувача й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду, може безупинно вилучатися із захисної оболонки. Контроль ступеня перетворення першого реагенту може здійснюватися безупинно за допомогою відбору зразків парового простору усередині захисної оболонки. Газ, що містить перший реагент і третій нереакційноздатний продукт, може додаватися періодично в захисну оболонку, а газ, що складається з першого реагенту, третього нереакційноздатного розріджувача й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду, може періодично вилучатися із захисної оболонки. Контроль ступеня перетворення першого реагенту може здійснюватися безупинно за допомогою відбору зразків парового простору всередині захисної оболонки та/або за допомогою контролю підвищення або зниження тиску в захисній оболонці. Газ, що додається в захисну оболонку, може складатися з газу силану (SiH4) і розріджувача у вигляді водню, газ, що вилучається із захисної оболонки, може складатися з газу силану, що не прореагував, розріджувача у вигляді водню та газоподібного водню, утвореного в результаті реакції розпаду, а пил і гранули, що додаються в шар, можуть складатися із кремнію. Розпад газу силану може призвести до утворення полікремнію, який відкладається на пилу, формуючи в такий спосіб гранули, а також на гранулах, формуючи в такий спосіб більші гранули. Гранули можуть безупинно збиратися із шару, при цьому середній розмір зібраних гранул може контролюватися за допомогою регулювання висоти периметрової стінки контейнера. Більші за розміром гранули можуть формуватися за допомогою збільшення висоти периметрової стінки контейнера, а менші гранули можуть формуватися за допомогою 3 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 зменшення висоти периметрової стінки контейнера. Середній розмір гранул може контролюватися в межах приблизно 0,00025 метра в діаметрі - 0,00635 метра в діаметрі. Середній розмір гранул може контролюватися в межах приблизно 0,00039 метра в діаметрі 0,00476 метра в діаметрі. Середній розмір гранул може контролюватися в межах приблизно 0,00079 метра в діаметрі - 0,00318 метра в діаметрі. Середній розмір гранул може підтримуватися рівним приблизно 0,00318 метра в діаметрі. Абсолютний тиск газу всередині захисної оболонки може підтримуватися в межах приблизно 34474 Па - 2068427 Па. Абсолютний тиск газу всередині захисної оболонки може підтримуватися в межах приблизно 101353 Па - 1378951 Па. Абсолютний тиск газу всередині захисної оболонки може підтримуватися в межах приблизно 206843 Па - 689476 Па. Абсолютний тиск газу усередині захисної оболонки може підтримуватися рівним приблизно 482633 Па. Абсолютний тиск газу усередині захисної оболонки спочатку періодичної реакції може підтримуватися рівним приблизно 101353 Па, а наприкінці періодичної реакції - у межах приблизно 193053 Па - 220632 Па. Перетворення першого хімічного продукту може контролюватися за допомогою регулювання температури шару, частоти вібрації, амплітуди вібрації, концентрації першого продукту в реакційному казані або в захисній оболонці, тиску газу (тобто перших продукту та розріджувача) у реакційному казані або в захисній оболонці та часу витримування газу в захисній оболонці. Перетворення силану може управлятися за допомогою регулювання температури шару, частоти вібрації, амплітуди вібрації й часу витримування газу в захисній оболонці. Перетворення газу силану може контролюватися в межах 20% - 100%. Перетворення газу силану може контролюватися в межах 40% - 100%. Перетворення газу силану може контролюватися в межах 80% - 100%. Перетворення газу силану може підтримуватися рівним 98%. Висота периметрової стінки може перебувати в діапазоні від приблизно 0,00635 метра до приблизно 0,381 метра. Висота периметрової стінки може перебувати в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,381 метра. Висота периметрової стінки може перебувати в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра. Висота периметрової стінки може перебувати в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра. Висота периметрової стінки може становити приблизно 0,0508 метра. Електричне нагрівання може здійснюватися за допомогою резистивної нагрівальної спіралі, розташованої під поверхнею піддона. Резистивна нагрівальна спіраль може бути розташована в герметичному контейнері. Герметичний контейнер може бути ізольований з усіх сторін, крім сторони, що перебуває вбезпосередньому контакті з нижньою стороною піддона. Нижня сторона піддона може формувати верхню сторону герметичного контейнера, що втримує нагрівальну спіраль. Механічний засіб для забезпечення значного впливу газу, що містить перші газоподібні хімічні продукти та газ, що розріджує, на поверхню великої кількості гранул, і засіб для нагрівання гранул або поверхонь гранул можуть бути виконані з металу або графіту або з комбінації металу та графіту. Метал може являти собою нержавіючу сталь марки 316 SS або нікель. Швидкість утворення гранул може узгоджуватися зі швидкістю утворення пилу. Швидкість утворення пилу може контролюватися за допомогою регулювання частоти вібрації, амплітуди вібрації й висоти сторін. Водень, що вилучається із захисної оболонки, може рекуперуватися для застосування в супутніх процесах виробництва силану або для продажу. Залишкова концентрація газоподібного водню, захопленого гранулами або включеного в другий хімічний продукт, що містить гранули, може контролюватися за допомогою контролю концентрації розріджувача у вигляді водню в газі, що додається в захисну оболонку. Концентрація розріджувача у вигляді водню може регулюватися в межах 0 - 90 молярних відсотків. Концентрація розріджувача у вигляді водню може регулюватися в межах 0 - 80 молярних відсотків. Концентрація розріджувача у вигляді водню може регулюватися в межах 0 - 90 молярних відсотків. Концентрація розріджувача у вигляді водню може регулюватися в межах 0 - 50 молярних відсотків. Концентрація розріджувача у вигляді водню може регулюватися в межах 0 - 20 молярних відсотків. Гранули, що виходять за межі піддона, можуть видалятися з нижньої частини захисної оболонки через механізм шлюзового бункера, що містить два або більше запірних клапанів й проміжну другу захисну оболонку. КОРОТКИЙ ОПИС ДЕКІЛЬКОХ ВИДІВ ГРАФІЧНИХ МАТЕРІАЛІВ 4 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 У графічних матеріалах ідентичні посилальні позиції позначають подібні елементи або дії. Розміри й відносні розташування елементів у графічних матеріалах не обов'язково показані в масштабі. Наприклад, форми різних елементів і кути не показані в масштабі, і деякі із цих елементів збільшені й розміщені довільним чином для підвищення легкості для читання графічних матеріалів. Крім того, конкретні форми елементів, як показано, не призначені для надання якої-небудь інформації щодо реальної форми конкретних елементів і обрані винятково для зручності впізнавання в графічних матеріалах. Фіг. 1 являє собою схематичне зображення в частковому розрізі системи, що містить захисну оболонку під тиском, постіль для механічного псевдозрідження, розташовану в захисній оболонці, а також різні живильні лінії й вихідні лінії, використовувані при виробництві кремнію, відповідно до одного показаного варіанта здійснення. Фіг. 2 являє собою ізометричну схему постелі для механічного псевдозрідження, механічно коливаної або віброваної за допомогою обертових еліптичних підшипників або кулачка (кулачків), відповідно до одного показаного варіанта здійснення відповідно до одного показаного варіанта здійснення. Фіг. 3 являє собою вигляд у поперечному перерізі постелі для механічного псевдозрідження, механічно коливаної або віброваної за допомогою ряду п'єзоелектричних перетворювачів, відповідно до одного показаного варіанта здійснення. Фіг. 4 являє собою вигляд у поперечному перерізі постелі для механічного псевдозрідження, коливаної або віброваної за допомогою ряду ультразвукових перетворювачів, відповідно до одного показаного варіанта здійснення. ДОКЛАДНИЙ ОПИС ВИНАХОДУ У наступному описі певні конкретні подробиці включені для того, щоб забезпечити повне розуміння різних розкритих варіантів здійснення. Однак фахівцеві в даній області техніки буде зрозуміло, що варіанти здійснення можуть бути реалізовані на практиці без використання однієї або декількох з даних конкретних подробиць або за допомогою інших способів, компонентів, матеріалів, тощо. В інших випадках широко відомі конструкції, пов'язані із системами для виробництва кремнію, включаючи, але не обмежуючись цим, внутрішні конструкції змішувачів, сепараторів, випарників, клапанів, контролерів та/або рекомбінаційних реакторів, не були показані або описані докладно, щоб уникнути непотрібного опису варіантів здійснення, що заважає розумінню опису варіантів здійснення. Якщо контекст не передбачає іншого, у всьому описі та формулі винаходу, наведеної нижче, слово "містити" і його похідні, такі як "містить" і "що містить", слід тлумачити у відкритому змісті, тобто як "включаючи, але не обмежуючись цим". Посилання в даному описі на "один варіант здійснення" або "варіант здійснення", або "інший варіант здійснення", або "деякі варіанти здійснення", або "певні варіанти здійснення" означають, що конкретна ознака, конструкція або характеристика, до яких відноситься посилання, описані у зв'язку з варіантом здійснення, включені щонайменше в один варіант здійснення. Таким чином, фрази "в одному варіанті здійснення" або "у варіанті здійснення", або "в іншому варіанті здійснення", або " у деяких варіантах здійснення", або "у певних варіантах здійснення", що з'являються в різних місцях даного опису, не обов'язково відносяться до того ж самого варіанта здійснення. Крім того, конкретні ознаки, конструкції або характеристики можуть комбінуватися будь-яким підходящим способом в одному або декількох варіантах здійснення. Слід зазначити, що використовувані в даному описі та в прикладеній формулі винаходу форми однини включають множину, за винятком випадків, коли зміст ясно вказує на протилежне. Таким чином, наприклад, посилання на хлорсилан включає окремий вид хлорсилану, однак може також включати множину видів хлорсиланів. Також слід зазначити, що термін "або" зазвичай вживається як такий, що включає "та/або", за винятком тих випадків, коли зміст ясно вказує на протилежне. Як використовується в даному описі, термін "силан" відноситься до SiH 4. Як використовується в даному описі, термін "силани" в цілому відноситься до силану та/або будьяким його похідним. Як використовується в даному описі, термін "хлорсилан" відноситься до похідної силану, де один або декілька воднів заміщені хлором. Термін "хлорсилани" відноситься до одного або декількох видів хлорсилану. Хлорсилани представлені на прикладі монохлорсилану (SiH3Cl або MCS); дихлорсилану (SiH2Cl2 або DCS); трихлорсилану (SiHCl3 або TCS); або тетрахлорсилану, що також зветься тетрахлоридом кремнію (SiCl4 або STC). Точка плавлення та точка кипіння силанів підвищуються зі збільшенням атомів хлору в молекулі. Таким чином, наприклад, силан є газом за стандартної температури й тиску, тоді як тетрахлорид кремнію являє собою рідину. Як використовується в даному описі, якщо не зазначене інше, термін "хлор" відноситься до 5 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 атомарного хлору, тобто до хлору з формулою Cl, а не до молекулярного хлору з формулою Cl2. Як використовується в даному описі, термін "кремній" відноситься до атомарного кремнію, тобто до кремнію з формулою Si. Як використовується в даному описі, термін "реактор хімічного парофазного осадження", або "реактор ХПО", відноситься до реактора виробництва фірми Siemens або до реактора із кристалізацією на “розпеченому дроті”. Якщо не зазначене інше, терміни "кремній" і "полікремній" у даному описі використовуються взаємозаміно при посиланні на кремнієвий продукт згідно зі способами та системам, розкритими в даному описі. Якщо не зазначене інше, концентрації, зазначені в даному описі у вигляді відсотків, слід розуміти як концентрації, виражені в молярних відсотках. Наведені в даному описі заголовки призначені лише для зручності, і вони не інтерпретують обсяг або зміст варіантів здійснення. Фіг. 1 показує реакторну систему 100 механічного псевдозрідження шару відповідно до одного показаного варіанта здійснення. Реакторна система 100 механічного псевдозрідження шару містить пристрій 102 механічного псевдозрідження шару, який механічно псевдозріджує частки (наприклад, пил, гранули), забезпечує тепло та за допомогою якого проводять необхідну реакцію (реакції). Реакторна система 100 механічного псевдозрідження шару може також містити реакційний казан 104 із внутрішньою частиною 106, відділеної від його зовнішньої частини 108 за допомогою однієї або декількох стінок 110 казана. Пристрій 102 механічного псевдозрідження шару може бути розташованим у внутрішній частині 106 реакційного казана 104. Реакторна система 100 механічного псевдозрідження шару містить підсистему 112 подачі реагуючого газу, підсистему 114 подачі часток, підсистему 116 рекуперації газів, що відходять, і підсистему 118 збору продуктів, що прореагували, для збору необхідного продукту реакції. Реакторна система 100 механічного псевдозрідження шару може також містити підсистему 120 автоматичного керування, підключену для того, щоб управляти різними іншими конструкціями або елементами реакторної системи 100 механічного псевдозрідження шару. Усі дані конструкції або підсистеми, у свою чергу, описані нижче. Пристрій 102 механічного псевдозрідження шару містить щонайменше один лоток або піддон 122 з нижньою поверхнею 122а, щонайменше один нагрівальний елемент 124 (на фіг. 1 зазначено тільки один), термічно підключений для нагрівання, щонайменше, нижньої поверхні 122а лотка або піддона 122, і вібратор 126, підключений для коливання або вібрації, щонайменше, нижньої поверхні 122а лотка 122. Лоток 122 може також містити периметрову стінку 122b, що проходить у цілому перпендикулярно від нижньої поверхні 122а лотка 122. Периметрова стінка 122b і нижня поверхня 122а формують поглиблення 128, яке може тимчасово втримувати матеріал 130, що піддають необхідній реакції. Нижня поверхня 122а й, можливо, периметрова стінка 122b повинні бути сформовані з матеріалу, який не псується швидко при збільшенні вироблення продуктів реакції. Нижня поверхня 122а та/або лоток 122 можуть бути сформовані з металу або графіту, або з комбінації металу та графіту. Метал може, наприклад, являти собою нержавіючу сталь марки 316 SS або нікель. Псевдозрідження шару за допомогою механічно забезпечуваної вібрації або коливань – це механізм, за допомогою якого перша реакційноздатна частка включається в шар і перебуває в безпосередній близькості або має безпосередній контакт із гарячим пилом, гранулами або іншими частками. Термін "механічно псевдозріджуваний шар", використовуваний у даному описі й формулі винаходу, означає суспендування або псевдозрідження часток (наприклад, пилу, гранул або інших часток) за допомогою коливання або вібрації, при цьому коливання або вібрація передається шару або лотку за допомогою механічного, магнітного, акустичного або іншого механізму. Це відрізняється від псевдозрідження, що викликано потоком газу через частки. Терміни "вібрація" і "коливання", а також їх похідні (наприклад, що вібрує, що здійснює коливання) у даному описі й формулі винаходу використовуються взаємозаміно. Крім того, терміни "лоток" або "піддон" у даному описі й формулі винаходу використовуються взаємозамінно для позначення конструкції, що містить нижню поверхню та щонайменше одну стінку, що проходить від неї для утворення поглиблення, здатного тимчасово втримувати механічно псевдозріджуваний шар. Нагрівальний елемент 124 може бути виконаний різних форм, наприклад у вигляді одного або декількох випромінюючих або резистивних елементів, які виробляють тепло у відповідь на електричний струм, що пропускається через них від джерела 132 струму, наприклад, у відповідь на керуючий сигнал. Випромінюючий або резистивний елемент (елементи) можуть, наприклад, бути подібні до електричних котушок, які зазвичай можна виявити у варильних поверхнях електропечей, або заглибних нагрівачах. 6 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 Нагрівальний елемент 124 може міститися у герметичному контейнері. Наприклад, випромінюючий або резистивний елемент (елементи) може охоплюватися з усіх сторін. Наприклад, термоізоляційний матеріал 134 може оточувати випромінюючий або резистивний елемент (елементи) з усіх сторін, крім частини, яка утворює нижню поверхню 122а лотка або піддона 122 або яка перебуває в безпосередній близькості до нижньої поверхні 122а. Термоізоляційний матеріал може, наприклад, бути у формі склокерамічного матеріалу (наприклад, система Li2O x Al2O3 x nSiO2 або система LAS), подібного матеріалу, який застосовується в "склокерамічних" варильних поверхнях, де електричний випромінюючий або резистивний нагрівальні елементи розташовані під склокерамічною варильною поверхнею. Термоізоляційний або ізолюючий матеріал може бути у формі, що відрізняється від склокераміки. Як було відзначено вище, теплоізолятор може застосовуватися на всіх сторонах герметичного контейнера, крім частини, яка перебуває в безпосередній близькості з або утворює нижню поверхню 122а лотка або піддона 122. Механізм теплопередачі може являти собою теплопровідність, випромінювання або їх комбінацію. Як описане нижче, у міру реагування продукту маса та/або обсяг окремих об'єктів 130 можуть збільшуватися. Несподівано, більші об'єкти переміщаються вгору в лотку або піддоні 122, тоді як менші об'єкти переміщаються вниз. Як тільки частки 130 досягають необхідного розміру, частки 130 можуть внаслідок вібрації долати периметрову стінку 122b, падаючи зазвичай вниз у реакційний казан 104. Тиск у внутрішній частині 106 реакційного казана може бути піднятим або підтримуватися підвищеним відносно його зовнішньої частини 108. Таким чином, стінка 110 казана повинна бути виконана з підходящого матеріалу й підходящої товщини, щоб витримувати очікувані робочі тиски, які будуть впливати на стінку 110 казана. Крім того, загальна форма реакційного казана 104 може бути обрана або виконана таким чином, щоб витримувати такі очікувані робочі тиски. Крім того, реакційний казан 104 повинен бути виконаний таким чином, щоб витримувати повторювані цикли навантаження тиском з достатнім коефіцієнтом запасу. Реакційний казан 104 може містити охолоджувальну сорочку 133 з підходящою охолодною рідиною 135, качається через неї. Додатково або в якості альтернативи реакційний казан може містити охолодні пластини 137 (на фіг. 1 зазначена тільки одна) або інші охолоджувальні конструкції, які забезпечують більшу площу поверхні для розсіювання тепла в зовнішню частину 108. Система 112 подачі реагуючого газу може бути приєднана для подачі реагуючого газу у внутрішню частину 106 реакційного казана 104. Система 112 подачі реагуючого газу може, наприклад, містити резервуар із силаном 136. Система 112 подачі реагуючого газу може також містити резервуар з воднем 138. Хоча й показані у вигляді окремих резервуарів, у деяких варіантах здійснення може використовуватися комбінований резервуар для силану й водню. Система 112 подачі реагуючого газу може також містити одну або кілька труб 140, змішувальні клапани 142, клапани 144 регулювання потоку й інші компоненти (наприклад, повітродувки, компресори), що функціонують для того, щоб забезпечувати подачу силану та водню у внутрішню частину 106 реакційного казана 104. Різні елементи системи 112 подачі реагуючого газу можуть управлятися вручну або автоматично, як показано опорними стрілками (тобто однобічними стрілками з позначеннями ©, розташованими у хвостовій частині). Зокрема, співвідношення розріджувача (тобто водню) з реагентом або першим продуктом (тобто силаном) регулюється. Підсистема 114 подачі часток може при необхідності подавати частки у внутрішню частину 106 реакційного казана 104. Підсистема 114 подачі часток може містити резервуар 146 із частками 148. Підсистема 114 подачі часток може містити вхідний шлюзовий бункер 149, що функціонує для керування доставкою або подачею часток 148 з резервуара 146 для часток у поглиблення 128 лотка або піддона 122 у внутрішній частині 106 реакційного казана 104. Вхідний шлюзовий бункер 149 може, наприклад, містити проміжну захисну оболонку 151, впускний клапан 153, що функціонує, щоб вибірково герметизувати впускний отвір проміжної захисної оболонки 151, і випускний клапан 155, що функціонує, щоб вибірково герметизувати випускний отвір проміжної захисної оболонки 151. Підсистема 114 подачі часток може додатково або в якості альтернативи містити підсистему 150 транспортування для доставки часток 148 з резервуара 146 для часток у поглиблення 128 лотка або піддона 122 у внутрішній частині 106 реакційного казана 104 або у вхідний шлюзовий бункер 149. У деяких варіантах здійснення проміжна захисна оболонка 151 вхідного шлюзового бункера може виконувати функцію резервуара для часток. У кожному разі, кількість часток, що подається у внутрішню частину 106 реакційного казана або захисної оболонки 104, може регулюватися автоматично або вручну. Підсистема 150 транспортування може бути виконана в різних формах. Наприклад, 7 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 підсистема 150 транспортування може містити одну або кілька труб і повітродувки. Повітродувки можуть вибірково управлятися таким чином, щоб направляти необхідну кількість часток 148 у внутрішню частину реакційного казана 104. Альтернативно, підсистема 150 транспортування може містити стрічковий транспортер з підходящим приводним механізмом, таким як електричний двигун, і передачу, таку як зубчаста передача, муфта, шків або приводний пас. Альтернативно, підсистема 150 транспортування може містити шнек або інший механізм транспортування. Частки можуть приймати безліч форм. Наприклад, частки можуть бути у вигляді пилу або гранул, які служать у якості затравки для необхідної реакції. Після затравки механічні коливання або вібрація лотка або піддона 122 може створювати додатковий пил, при цьому може відбуватися, до деякої міри, щонайменше, самозатравка. Підсистема 116 рекуперації газів, що відходять, містить впускний отвір 160, гідравлічно з'єднаний із внутрішньою частиною 106 реакційного казана 104. Підсистема 116 рекуперації газів, що відходять, може містити одну або кілька труб 162, клапани 164 регулювання потоку й інші компоненти (наприклад, повітродувки, компресори), що рекуперують газ, що відходить, із внутрішньої частини 106 реакційного казана 104. Один або кілька компонентів підсистеми 116 рекуперації газів, що відходять, може управлятися вручну або автоматично, як показано за допомогою керуючих сигналів (однобічними стрілками з позначеннями ©, розташованими у хвостовій частині). Підсистема 116 рекуперації газів, що відходять, може повертати рекуперований , газ, що відходить, в резервуар (резервуари) системи 112 подачі реагуючого газу. Підсистема 116 рекуперації газів, що відходять, може повертати рекуперований газ, що відходить, прямо в резервуар (резервуари) без будь-якої обробки або може повертати рекуперований газ, що відходить, після відповідної обробки. Наприклад, підсистема 116 рекуперації газів, що відходять, може містити підсистему 165 очищення. Підсистема 165 очищення може очищати деякі або всі із других продуктів (наприклад, водень) з потоку газів, що відходять. Це може бути корисно, оскільки при реакції може проводитися видобуток чистих других продуктів. Наприклад, може проводитися видобуток чистого водню при розпаді силану в кремній. Підсистема 118 збору продуктів, що прореагували, збирає необхідний продукт реакції 170, який випадає з лотка або піддона 122 пристрою 102 механічного псевдозрідження шару. Підсистема 118 збору продуктів, що прореагували, може містити лійку або жолоб 172, що розташований знизу відносно лотка або піддона 122 і проходить за периметр лотка або піддона 122 на достатню відстань, щоб забезпечити вловлювання більшої частини отриманого продукту 170 реакції. Підходяща труба 174 може гідравлічно з'єднувати лійку або жолоб 172 з вихідним шлюзовим бункером 176. Клапан 178 регулювання вхідного потоку управляється вручну або автоматично за допомогою (керуючих сигналів, показаних однобічною стрілкою з позначеннями © у хвостовій частині) для вибіркового з'єднання впускного отвору 180 вихідного шлюзового бункера 176 із внутрішньою частиною 106 реакційного казана 104. Клапан 182 регулювання вихідного потоку управляється вручну або автоматично (керуючі сигнали, показані однобічною стрілкою з позначеннями © у хвостовій частині) для вибіркової подачі продукту, що прореагував, з вихідного шлюзового бункера 176 через його випускний отвір 184. Проміжна друга захисна оболонка може використовуватися для збору гранул або часток, що виходять за межі лотка або піддона 122. Підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена для того, щоб управляти одним або декількома елементами 100. Підсистема 120 керування може містити один або кілька датчиків, які виробляють сигнали датчика (показані однобічними стрілками з позначенням Т, розміщеним в окружності, розташованій у хвостовій частині), що вказують на робочий параметр одного або декількох компонентів реакторної системи 100 механічного псевдозрідження шару. Наприклад, підсистема 120 керування може містити датчик температури (наприклад, термопару) 186 для вироблення сигналів, що вказують на температуру, наприклад сигналів, що вказують на температуру нижньої поверхні 122a лотка або піддона 122 або його вмісту 130. Також, наприклад, підсистема 120 керування може містити датчик 188 тиску для вироблення сигналів, що вказують на тиск (показані однобічними стрілками з позначенням Р, розміщеним в окружності, розташованій у хвостовій частині). Такі сигнали про тиск можуть, наприклад, указувати на тиск у внутрішній частині 106 реакційного казана 104. Підсистема 120 керування може також одержувати сигнали від датчиків, пов'язаних з різними клапанами, повітродувками, компресорами й іншим устаткуванням. Це може вказувати на розташування або стан конкретних деталей устаткування та/або вказувати на робочі характеристики конкретних деталей устаткування, такі як швидкість потоку, температура, тиск, частота вібрації, щільність, вага та/або розмір. Підсистема 120 керування може використовувати різні сигнали датчика при автоматичному 8 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 керуванні одним або декількома елементами реакторної системи 100 механічного псевдозрідження шару згідно з певним набором інструкцій або логікою. Наприклад, підсистема 120 керування може виробляти сигнали для керування різними елементами, такими як клапан (клапани), нагрівач (нагрівачі), двигуни, виконавчі механізми або перетворювачі, повітродувки, компресори, тощо. Таким чином, наприклад, підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена та сконфігурована для керування одним або декількома клапанами, транспортерами або іншими механізмами транспортування для того, щоб вибірково подавати частки у внутрішню частину реакційного казана або захисної оболонки. Також, наприклад, підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена та сконфігурована для керування частотою вібрації або коливань лотка або піддона 122 для того, щоб забезпечувати належне псевдозрідження. Підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена та сконфігурована для того, щоб управляти температурою лотка або піддона, або його вмісту. Це може бути виконане за допомогою керування протіканням струму через випромінюючий або резистивний нагрівальний елемент (елементи). Також, наприклад, підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена та сконфігурована для керування потоком реагуючого газу у внутрішню частину реакційного казана або захисної оболонки. Це може бути виконане за допомогою керування одним або декількома клапанами, наприклад, за допомогою соленоїдів, реле або інших виконавчих механізмів та/або за допомогою керування однією або декількома повітродувками або компресорами, наприклад, за допомогою керування швидкістю зв'язаного електродвигуна. Також, наприклад, підсистема 120 керування може бути комунікаційно підключена та сконфігурована для керування вилученням реагуючого газу з реакційного казана або захисної оболонки. Це може бути виконане за допомогою забезпечення підходящих керуючих сигналів для керування одним або декількома клапанами, заслінками, повітродувками, витяжками за допомогою одного або декількох соленоїдів, реле, електродвигунів або інших виконавчих механізмів. Підсистема 120 керування може бути виконана в різних формах. Наприклад, підсистема 120 керування може містити програмувальний універсальний комп'ютер з одним або декількома мікропроцесорами та пам'яттю (наприклад, RAM, ROM, Flash-пам'ять, носії інформації, що обертаються). У якості альтернативи або додатково підсистема 120 керування може містити програмувальну вентильну матрицю, спеціалізовану інтегральну схему та/або програмувальний логічний контролер. Фіг. 2 показує постіль 200 для механічного псевдозрідження, що містить лоток або піддон 202, коливаний або вібрований за допомогою обертового еліптичного підшипника або одного або декількох кулачків 204, при цьому кулачки можуть бути синхронізовані, відповідно до одного показаного варіанта здійснення. Лоток або піддон 202 містить нижню поверхню 202а й периметрову стінку 202b, що проходить перпендикулярно їй для того, щоб формувати поглиблення для тимчасового втримання матеріалу, що зазнає реакції. Кілька нагрівальних елементів 206 (показані пунктирною лінією) проходять через лоток або піддон 202 і функціонують для того, щоб нагрівати, щонайменше, нижню поверхню 202а та вміст, що контактує з нижньою поверхнею 202а. Лоток або піддон 202 може бути підвішеним відносно основи 208 за допомогою одного або декількох пружних елементів 210 (на фіг. 2 зазначений тільки один). Пружні елементи 210 забезпечують коливання або вібрацію лотка або піддона 202, щонайменше, в одному напрямку або орієнтації відносно основи 208. Пружні елементи 210 можуть, наприклад, приймати форму однієї або декількох пружин. Пружні елементи 210 можуть приймати форму гелю, гуми або спіненої гуми. Альтернативно, лоток або піддон 202 може бути з'єднано з основою 208 за допомогою одного або декількох магнітів (наприклад, за допомогою постійних магнітів, електромагнітів, залізних елементів). У ще одному додатковому варіанті здійснення лоток або піддон 202 може бути підвішеним відносно основи 208 за допомогою одного або декількох проводів, кабелів, мотузок або пружин. Еліптичний підшипник або кулачок 204 приводиться за допомогою виконавчого механізму, наприклад електродвигуна 212. Електродвигун 212 може бути з'єднаний еліптичним підшипником або кулачком 204 з можливістю передачі приводного зусилля за допомогою передачі 214. Передача 214 може приймати різні форми, наприклад форму однієї або декількох зубчастих передач, шківів, ременів, приводних валів або магнітів, для з'єднання фізично та/або магнітним способом електродвигуна 212 з еліптичним підшипником або кулачком 204. Еліптичний підшипник або кулачок 204 послідовно коливає шар або лоток 20 у міру обертання еліптичного підшипника або кулачка 204. Фіг. 3 показує постіль 300 для механічного псевдозрідження, що містить лоток або піддон 9 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 302, механічно коливаний або вібрований за допомогою деякої кількості п'єзоелектричних перетворювачів або виконавчих механізмів 304 (на фіг. 3 зазначено два), відповідно до іншого показаного варіанта здійснення. Лоток або піддон 302 містить нижню поверхню 302а та периметрову стінку 302b, що проходить перпендикулярно її периметра, для формування поглиблення для втримання матеріалу в ньому. Ряд нагрівальних елементів 306 (на фіг. 3 зазначений тільки один) термічно з'єднано з нижньою поверхнею 302a і функціонує для того, щоб нагрівати, щонайменше, нижню поверхню 302а та вміст, що контактує з нижньою поверхнею 302а. Як було розкрито вище, нагрівальні елементи 306 можуть приймати форму випромінюючих елементів або електрорезистивних елементів. Альтернативно, можуть застосовуватися інші елементи, що, наприклад, використовують лазери або нагріті текучі середовища. Лоток або піддон 302 з'єднано з основою 308. У деяких варіантах здійснення лоток або піддон 302 фізично з'єднано з основою 308 лише за допомогою п'єзоелектричних перетворювачів 304. В інших варіантах здійснення лоток або піддон 302 фізично з'єднано з основою 308 за допомогою одного або декількох пружних елементів (наприклад, пружин, гелів, гуми, спіненої гуми). У додаткових варіантах здійснення лоток або піддон 302 може бути з'єднано з основою 308 за допомогою одного або декількох магнітів (наприклад, за допомогою постійних магнітів, електромагнітів, залізних елементів). У ще одному додатковому варіанті здійснення лоток або піддон 302 може бути підвішеним відносно основи 308 за допомогою одного або декількох проводів, кабелів, мотузок або пружин. Ряд п'єзоелектричних перетворювачів 304 фізично з'єднано з лотком або піддоном 302. П'єзоелектричні перетворювачі 304 електрично з'єднано із джерелом 310 струму, який прикладає змінний за величиною струм для того, щоб викликати коливання або вібрацію п'єзоелектричними перетворювачами 304 лотка або піддона 202 відносно основи. Електричний струм може контролюватися для того, щоб одержати необхідну частоту коливань або вібрації. Фіг. 4 показує постіль 400 для механічного псевдозрідження, що містить лоток або піддон 402, механічно поливаний або вібрований за допомогою ряду ультразвукових перетворювачів або виконавчих механізмів 404 (на фіг. 4 зазначено два), відповідно до іншого показаного варіанта здійснення. Лоток або піддон 402 містить нижню поверхню 402а та периметрову стінку 402b, що проходить перпендикулярно її периметра, для формування поглиблення для втримання матеріалу в ньому. Ряд елементів 406 (на фіг. 4 зазначений тільки один) термічно з'єднано з нижньою поверхнею 402a і функціонує для того, щоб нагрівати, щонайменше, нижню поверхню 402а та вміст, що контактує з нижньою поверхнею 402а. Як було розкрито вище, нагрівальні елементи 406 можуть приймати форму випромінюючих елементів або електрорезистивних елементів і можуть бути вкриті ізолюючим шаром (наприклад, склокерамікою). Альтернативно, можуть застосовуватися інші нагрівальні елементи, що, наприклад, використовують лазери або нагріті текучі середовища. Лоток або піддон 402 з'єднано з основою 408. Лоток або піддон 402 може бути фізично з'єднано з основою 408 лише за допомогою одного або декількох пружних елементів 410 (наприклад, пружин, гелеподібних елементів). Альтернативно, лоток або піддон 402 може бути з'єднано з основою 408 за допомогою одного або декількох магнітів (наприклад, за допомогою постійних магнітів, електромагнітів, залізних елементів). У ще одному додатковому варіанті здійснення лоток або піддон 402 може бути підвішеним відносно основи 408 за допомогою одного або декількох проводів, кабелів, мотузок або пружин. Ряд ультразвукових перетворювачів 404 функціонує для того, щоб виробляти ультразвукові хвилі й поширювати такі ультразвукові хвилі тиску на лоток або піддон 402 або їх вміст. П'єзоелектричні перетворювачі 404 електрично з'єднані із джерелом 412 струму, який прикладає змінний за величиною струм для того, щоб викликати ультразвуковими перетворювачами 404 коливання або вібрацію лотка або піддона 402 або їх вмісту відносно основи 408. Електричний струм може контролюватися для того, щоб одержати необхідну частоту коливань або вібрації. ПРИКЛАД Перші хімічні продукти можуть приймати безліч форм, у тому числі форму газу силану (SiH4), газу трихлорсилану (SiHCl3) або газу дихлорсилану (SiH2Cl2). Вони можуть бути надані в газоподібній формі в реакційному казані або в захисній оболонці 104. Другі хімічні продукти можуть приймати форму пилу, гранул або інших часток і можуть розташовуватися в поглибленні, сформованому лотком або піддоном. Висота периметрової стінки може ефективно контролювати розмір гранул або інших вироблених часток. Зокрема, більш висока периметрова стінка щодо нижньої поверхні лотка або піддона буде сприяти 10 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 утворенню більших гранул або інших часток. Висота периметрової стінки може перебувати в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,381метра. Висота в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,254 метра; у діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра; у діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра або рівна приблизно 0,0508 метра може бути особливо переважною. Третій нереакційноздатний продукт може бути доданий у реагент або в захисну оболонку 104. Третій нереакційноздатний продукт виконує функцію розріджувача. Нагріватися може, щонайменше, нижня поверхня лотка або піддона. Температури в діапазоні 100 °C - 900 °C; 200 °C - 700 °C; 300 °C - 600 °C або приблизно 450 °C можуть бути особливо переважними. Швидкість розпаду першого продукту може ефективно контролюватися за допомогою регулювання температури нижньої поверхні лотка або піддона. Коливання або вібрація можуть здійснюватися уздовж однієї або декількох осей або навколо однієї або декількох осей. Коливання або вібрації можуть здійснюватися в будь-якому діапазоні частот. Особливо переважні частоти можуть перебувати в діапазоні від 1 до 4000 циклів за хвилину; у діапазоні від 500 до 3500 циклів за хвилину; у діапазоні від 1000 до 3000 циклів за хвилину або становити 2500 циклів за хвилину. Можуть застосовуватися різні інтенсивності або амплітуди коливань або вібрації. Амплітуда в діапазоні від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,0127 метра; у діапазоні від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра; у діапазоні від приблизно 0,00079 метра до приблизно 0,00318 метра або приблизно 0,00039 метра може бути особливо переважною. Об'ємна температура газу у внутрішній частині 106 реакційного казана або захисної оболонки 104 може контролюватися. Температура в діапазоні 30 °C - 500 °C; у діапазоні 50 °C 300 °C; рівна приблизно 100 °C або приблизно 50 °C може бути особливо переважною. Тиск газу усередині реакційного казана або захисної оболонки 104 може контролюватися. Манометричний тиск у межах від приблизно 48263 Па до приблизно 1378951 Па може бути особливо переважним. Абсолютний тиск у межах від приблизно 34474 Па до приблизно 2068427 Па; у межах від приблизно 101353 Па до приблизно 1378951 Па; у межах від приблизно 206843 Па до приблизно 689476 Па; складове приблизно 482633 Па може бути особливо переважним. Абсолютний тиск газу усередині реакційного казана або захисної оболонки 104 спочатку періодичної реакції може підтримуватися рівним приблизно 101353 Па, а наприкінці періодичної реакції може перебувати в межах від приблизно 193053 Па до приблизно 220632 Па. Другі продукти, утворені в результаті реакції розпаду, можуть вилучатися з реакційного казана або захисної оболонки 104. Вони можуть вилучатися періодично або безупинно. Слід зазначити, що низька щільність газу других продуктів (наприклад, водню), утворених при розпаді перших продуктів (наприклад, силану), відносно більш високої щільності перших продуктів спрощує відділення других продуктів від псевдозрідженого шару або часток. Це дозволяє першим продуктам бути в безпосередню близькості або мати безпосередній контакт із гарячим пилом, гранулами або іншими частками. Наприклад, водень має схильність до переміщення вгору в механічно псевдозрідженому шарі часток, тоді як силан схильний тонути в ньому. Перетворення газу силану може контролюватися в межах 20% - 100%; у межах 40% - 100%; у межах 80% - 100% або може становити приблизно 98%. Підсистема керування або оператор можуть здійснювати контроль перетворення першого реагенту. Наприклад, контроль ступеня перетворення може здійснюватися безупинно за допомогою відбору зразків парового простору всередині реакційного казана або захисної оболонки 104. Газ, що містить перший реагент і треті нереакційноздатні продукти, може періодично додаватися в реакційний казан або захисну оболонку 104. Газ, що містить перший реагент, третій нереакційноздатний розріджувач і один із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду, може вилучатися періодично з реакційного казана або захисної оболонки 104. Газ, що додається в реакційний казан або захисну оболонку 104, може, наприклад, містити газ силан (SiH4) і розріджувач у вигляді водню, а газ, що вилучається з реакційного казана або захисної оболонки 104, може містити газ силан, що не прореагував. розріджувач у вигляді водню та газоподібний водень, утворений у результаті реакції розпаду. Пил, гранули або інші частки, що додаються в лоток або піддон 122, можуть містити кремній. Розпад газу силану може приводити до утворення полікремнію, який відкладається на пилу, формуючи в такий спосіб гранули або інші частки, а також на гранулах, формуючи в такий спосіб більші гранули або частки. Гранули або інші частки можуть безупинно збиратися із шару або лотка 122. Середній розмір вироблених гранул може бути в межах від приблизно 0,00025 11 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 метра в діаметрі до приблизно 0,00635 метра в діаметрі; у межах від приблизно 0,00039 метра в діаметрі до приблизно 0,00476 метра в діаметрі; у межах від приблизно 0,00079 метра в діаметрі до приблизно 0,00318 метра в діаметрі або рівним приблизно 0,00318 метра в діаметрі. Швидкість утворення гранул може узгоджуватися зі швидкістю утворення пилу. Швидкість утворення пилу може контролюватися за допомогою регулювання частоти вібрації, амплітуди вібрації та/або висоти периметрової стінки. Водень, що вилучається з реакційного казана або захисної оболонки 104, може рекуперуватися для застосування в супутніх процесах виробництва силану або для продажу. Залишкова концентрація газоподібного водню, захопленого гранулами або включеного в другий хімічний продукт, що містить гранули, може контролюватися за допомогою контролю концентрації розріджувача у вигляді водню в газі, що додається в захисну оболонку. Концентрація розріджувача у вигляді водню може перебувати в межах 0 - 90 молярних відсотків; у межах 0 - 80 молярних відсотків; у межах 0 - 90 молярних відсотків; у межах 0 - 50 молярних відсотків або в межах 0 - 20 молярних відсотків. Системи й процеси виробництва кремнію, розкриті й розглянуті в даному описі, можуть мати значні переваги над використовуваними на даний момент системами й способами. Системи й процеси підходять для виробництва або кремнію напівпровідникової чистоти, або кремнію сонячної якості. Використання у виробничому процесі силану в якості вихідного матеріалу забезпечує більш швидке виробництво кремнію високої чистоти. Силан набагато більш простий в очищенні. Завдяки своїй низькій точці кипіння він може швидко очищатися та при очищенні не має схильності до захвата забруднюючих речовин, як це може відбутися при підготовці та очищенні трихлорсилану в якості вихідного матеріалу. Крім того, у певних способах виробництва трихлорсилану використовують вуглець або графіт, які можуть включатися в продукт або реагувати із хлорсиланами з утворенням вуглецевмісних з'єднань. Вищенаведений опис проілюстрованих варіантів здійснення, включаючи описані в рефераті, не слід розуміти як вичерпне або обмежуюче варіанти здійснення точними формами, які були розкриті. Хоча конкретні варіанти здійснення та приклади були описані вище для ілюстративних цілей, різні еквівалентні модифікації можуть бути виконані без відхилення від суті й обсягу розкриття, як буде зрозуміло фахівцям у даній області техніки. Ідеї різних варіантів здійснення, наведені вище, можуть бути застосовані до інших систем, способів та/або процесів виробництва кремнію, а не тільки до зразкових систем, способів і пристроїв, загалом описаним вище. Наприклад, у докладному описі, наведеному вище, описані різні варіанти здійснення систем, процесів та/або пристроїв з використанням структурних схем, діаграм, блок-схем і прикладів. У тій мірі, у якій такі структурні схеми, діаграми, блок-схеми та приклади містять одну або кілька функцій та/або операцій, фахівцям у даній області техніки буде зрозуміло, що кожна функція та/або операція в таких структурних схемах, діаграмах, блок-схемах і прикладах може бути здійснена індивідуально та/або спільно за допомогою широкого діапазону системних компонентів, апаратного забезпечення, програмного забезпечення, програмно-апаратного забезпечення або фактично будь-якої їхньої комбінації. У певних варіантах здійснення використовувані системи або вироблені пристрої можуть містити меншу кількість конструкцій або компонентів меншого розміру, ніж в описаних вище конкретних варіантах здійснення. В інших варіантах здійснення використовувані системи або вироблені пристрої можуть містити конструкції або компоненти додатково до описаних у даному описі конструкцій або компонентів. В інших варіантах здійснення використовувані системи або вироблені пристрої можуть містити конструкції або компоненти, розташовані іншим способом у порівнянні з описаними в даному описі конструкціями або компонентами. Наприклад, у деяких варіантах здійснення можуть бути додаткові нагрівачі та/або змішувачі, та/або сепаратори в системі для забезпечення ефективного управління температурою, тиском або швидкістю потоку. Крім того, при здійсненні процедур або способів, описаних у даному описі, може бути менша кількість операцій, додаткових операцій, або операції можуть здійснюватися в іншому порядку в порівнянні з описаними в даному описі операціями. Видалення, додавання або перестановка компонентів системи або пристрої або функціональний характер процесів або способів будуть добре зрозумілі фахівцеві в даній області техніки у світлі даного розкриття. Здійснення способів і функціонування систем для виробництва полікремнію, описаних у даному описі, можуть здійснюватися під керуванням автоматичних підсистем керування. Такі автоматичні підсистеми керування можуть містити один або кілька підходящих датчиків (наприклад, датчики потоку, датчики тиску, датчики температури), виконавчі механізми (наприклад, двигуни, клапани, соленоїди, демпфери), хімічні аналізатори та системи на основі процесорів, які виконують інструкції, збережені в зчитуваному процесором пристрої зберігання, для того щоб автоматично управляти різними компонентами та/або потоком, тиском та/або 12 UA 112063 C2 5 10 15 20 25 температурою матеріалів на підставі, щонайменше, частково даних або інформації від датчиків, аналізаторів та/або даних, що вводяться користувачем. Беручи до уваги керування та функціонування систем і процесів або конструкцію систем і пристроїв для виробництва полікремнію, у певних варіантах здійснення даний об'єкт може бути здійснений за допомогою спеціалізованих інтегральних схем (ASIC). Однак фахівцям у даній області техніки буде зрозуміло, що розкриті в даному описі варіанти здійснення повністю або частково можуть бути еквівалентно реалізовані в стандартних інтегральних схемах у вигляді однієї або декількох комп'ютерних програм, що запускаються на одному або декількох комп'ютерах (наприклад, у вигляді однієї або декількох програм, що запускаються на одній або декількох комп'ютерних системах), у вигляді однієї або декількох програм, що запускаються на одному або декількох контролерах (наприклад, мікроконтролерах), в вигляді однієї або декількох програм, що запускаються на одному або декількох процесорах (наприклад, мікропроцесорах), у вигляді програмно-апаратного забезпечення або у вигляді фактично будьякої їхньої комбінації. Відповідно, розробка схемного рішення та/або написання коду для програмного забезпечення та/або для програмно-апаратного забезпечення будуть добре зрозумілі фахівцеві в даній області техніки в світлі даного розкриття. Різні варіанти здійснення, описані вище, можуть бути скомбіновані для того, щоб забезпечити додаткові варіанти здійснення. Аспекти варіантів здійснення можуть бути модифіковані, при необхідності, для того, щоб використовувати концепції різних патентів, заявок і публікацій для забезпечення додаткових варіантів здійснення. Ці та інші зміни можуть бути внесені у варіанти здійснення в світлі вищенаведеного докладного опису. У цілому, у нижченаведеній формулі винаходу використовувані терміни не повинні розглядатися як обмежуючі формулу конкретними варіантами здійснення, розкритими в описі та формулі, але вони повинні розглядатися як такі, що включають усі можливі варіанти здійснення, поряд з повним обсягом еквівалентів, до яких дана формула приписана. Відповідно, формула не обмежується описом. ФОРМУЛА ВИНАХОДУ 1. Реакторна система, придатна для виробництва кремнію, що містить: реакційний казан, що має внутрішню частину, відділену від його зовнішньої частини за допомогою однієї або декількох стінок казана, які під час роботи утримують перший газоподібний хімічний продукт у щонайменше частині внутрішньої частини реакційного казана, при цьому перший хімічний продукт являє собою щонайменше один з газу силану (SiH4), газу трихлорсилану (SiHCl3) або газудихлорсилану (SiH2Cl2); механічний засіб для забезпечення впливу газу, що містить перший газоподібний хімічний продукт, на поверхню пилу, гранул або інших часток, при цьому механічний засіб містить піддон і засіб механічної вібрації, при цьому піддон розташований у внутрішній частині реакційного казана та встановлений з можливістю щонайменше вертикального руху відносно реакційного казана під час роботи, при цьому піддон має плоску нижню поверхню, що нагрівається, і щонайменше одну периметрову стінку, яка проходить вгору від нижньої поверхні піддона по периметру піддона до висоти периметрової стінки, при цьому периметрова стінка і нижня поверхня формують частково ізольований контейнер, при цьому піддон відкритий у напрямку до внутрішньої частини реакційного казана в області верхньої частини периметрової стінки для забезпечення можливості виходу отриманого продукту реакції з піддона через периметрову стінку під час руху піддона, при тому, що піддон поміщений у внутрішню частину реакційного казана, при цьому засіб механічної вібрації з'єднаний з піддоном з можливістю передачі приводного зусилля та виконаний з можливістю забезпечення механічної вібрації піддона відносно реакційного казана при заданій амплітуді та заданій частоті, які залежать від необхідного кінцевого розміру гранул, для створення постелі для механічного псевдозрідження пилу, гранул або інших часток, що містяться у піддоні, причому щонайменше одне з наступного: і) амплітуда, іі) частота і ііі) висота периметрової стінки задане на підставі необхідного кінцевого розміру одержуваних гранул; засіб для нагрівання пилу, гранул або інших часток до температури, яка вище температури осадження першого газоподібного хімічного продукту, так, що при контакті із зазначеними поверхнями перший газоподібний хімічний продукт хімічно розпадається, і на зазначених поверхнях значно осідає другий хімічний продукт, причому засіб для нагрівання містить щонайменше один випромінюючий або електрорезистивний нагрівальний елемент, що міститься у герметичному контейнері у реакційному казані, який містить термоізоляційний 13 UA 112063 C2 матеріал, що оточує засіб для нагрівання з усіх сторін, крім частини, яка утворює нижню поверхню піддона; підсистему подачі першого газоподібного хімічного продукту, що гідравлічно з'єднана з внутрішньою частиною реакційного казана, при цьому перший газоподібний хімічний продукт вибраний з таких газоподібних хімічних продуктів, які термічно розпадаються для забезпечення щонайменше другого хімічного продукту при нагріванні вище температури осадження, причому другий хімічний продукт є значною мірою нелетким продуктом і схильний до осадження на гарячій поверхні в безпосередній близькості; і щонайменше один контролер, функціонально з'єднаний з нагрівачем, який під час роботи спонукає нагрівач виробляти теплову потужність, яка підтримує температуру постелі для механічного псевдозрідження в межах діапазону вище температури газу, що містить перший хімічний продукт, причому газ знаходиться за межами постелі для механічного псевдозрідження, і причому під час роботи газ підданий впливу постелі для механічного псевдозрідження; і підсистему збору, що розташована знизу відносно піддона і проходить за внутрішній периметр піддона на достатню відстань, щоб забезпечити вловлювання підсистемою збору більшої частини отриманого продукту реакції, що виходить внаслідок вібрації з піддона через периметрову стінку. 2. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне з наступного: ексцентричний маховик, п'єзоелектричний перетворювач або акустичний перетворювач. 3. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань в діапазоні заданих частот від приблизно 1 до 4000 циклів за хвилину при заданій амплітуді від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,1016 метра, і висота периметрової стінки становить від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра. 4. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою в діапазоні від приблизно 500 до 3500 циклів за хвилину при заданій амплітуді від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра, і висота периметрової стінки становить від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра. 5. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою в діапазоні від приблизно 1000 до 3000 циклів за хвилину. 6. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань із заданою частотою приблизно 2500 циклів за хвилину. 7. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні від приблизно 0,00025 метра до приблизно 0,1016 метра. 8. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістюздійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні від приблизно 0,00039 метра до приблизно 0,00635 метра. 9. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою в діапазоні приблизно від приблизно 0,00079 метра до приблизно 0,00318 метра. 10. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що засіб механічної вібрації містить щонайменше одне джерело вібрацій або коливань, виконане з можливістю здійснення вібрацій або коливань з заданою амплітудою, що становить приблизно 0,00039 метра. 11. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що реакційний казан виконаний з можливістю заповнення його внутрішньої частини газом, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт. 12. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що реакційний казан містить щонайменше одну стінку, причому щонайменше одна стінка підтримується охолодженою за допомогою охолоджувальної сорочки або охолодних пластин для повітряного охолодження, розташованих зовні реакційного казана. 14 UA 112063 C2 13. Реакторна система за п. 12, яка відрізняється тим, що охолоджувальна сорочка виконана з можливістю забезпечення протікання через неї холодоагенту, який має температуру та швидкість потоку, контрольовані із установленням низького значення температури газу у внутрішній частині реакційного казана. 14. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана в межах 30-500 °C. 15. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана в межах 50-300 °C. 16. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана рівною 100 °C. 17. Реакторна система за п. 13, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури газу у внутрішній частині реакційного казана рівною 50 °C. 18. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 100-1300 °C. 19. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 100-900 °C. 20. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 200-700 °C. 21. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона в межах 300-600 °C. 22. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки температури поверхні нагрітої частини піддона рівною приблизно 450 °C. 23. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю швидкості розпаду першого продукту за допомогою регулювання температури нижньої поверхні піддона. 24. Реакторна система за п. 23, яка відрізняється тим, що периметрова стінка утворює замкнуту поверхню. 25. Реакторна система за п. 24, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю формування більших гранул шляхом збільшення висоти периметрової стінки і формування менших гранул шляхом зменшення висоти периметрової стінки. 26. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю нагріву шару електрично. 27. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки манометричного тиску газу у внутрішній частині реакційного казана в межах приблизно 48263-1378951 Па. 28. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю додавання до газу у внутрішній частині реакційного казана, що містить перший хімічний продукт, третього нереакційноздатного продукту, і вилучення з реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду. 29. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного додавання у реакційний казан газу, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт, і безупинного вилучення із реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду. 30. Реакторна система за п. 29, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного здійснення контролю ступеня перетворення першого хімічного продукту за допомогою відбору зразків парового простору всередині реакційного казана. 31. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю періодичного додавання газу, що містить перший хімічний продукт і третій нереакційноздатний продукт, і періодичного вилучення із реакційного казана газу, що складається з першого хімічного продукту, третього нереакційноздатного продукту й одного із других продуктів, утворених у результаті реакції розпаду. 32. Реакторна система за п. 31, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю безупинного здійснення контролю ступеня перетворення першого хімічного продукту за допомогою відбору зразків парового простору всередині реакційного казана та/або за допомогою контролю підвищення або зниження тиску в реакційному казані. 33. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю додавання у реакційний казан газу, що складається з газу силану (SiH4) і розріджувача у вигляді водню, вилучення із реакційного казана газу, що складається з газу силану, що не прореагував, 15 UA 112063 C2 розріджувача у вигляді водню та газоподібного водню, утвореного в результаті реакції розпаду, і додавання пилу і гранул, що складаються із кремнію, в шар. 34. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана так, що розпад газу силану приводить до утворення полікремнію, що осідає на пил, що формує гранули, а також на гранулах, що формують більші за розміром гранули. 35. Реакторна система за п. 34, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю збору гранул безупинно із шару і регулювання середнього розміру зібраних гранул за допомогою регулювання висоти периметрової стінки піддона. 36. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю формування більших за розміром гранул за допомогою збільшення висоти периметрової стінки контейнера і формування менших за розміром гранул за допомогою зменшення висоти периметрової стінки контейнера. 37. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00025 метра в діаметрі - 0,00635 метра в діаметрі. 38. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00039 метра в діаметрі - 0,00476 метра в діаметрі. 39. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул в межах приблизно 0,00079 метра в діаметрі - 0,00318 метра в діаметрі. 40. Реакторна система за п. 36, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю середнього розміру гранул рівним приблизно 0,00318 метра в діаметрі. 41. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 344742068427 Па. 42. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 1013531378951 Па. 43. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана в межах приблизно 206843689476 Па. 44. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана рівним приблизно 482633 Па. 45. Реакторна система за п. 31, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю підтримки абсолютного тиску газу всередині реакційного казана спочатку періодичної реакції рівним приблизно 101353 Па, а наприкінці періодичної реакції - у межах приблизно 193053220632 Па. 46. Реакторна система за п. 28, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення першого хімічного продукту за допомогою регулювання температури шару, заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації, концентрації перших продуктів у реакційному казані, тиску газу в реакційному казані та часу витримування газу в реакційному казані. 47. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення силану за допомогою регулювання температури шару, заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації, концентрації перших продуктів у реакційному казані, тиску газу в реакційному казані та часу витримування газу в реакційному казані. 48. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 20-100 %. 49. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 40-100 %. 50. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану в межах 80-100 %. 51. Реакторна система за п. 47, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю контролю перетворення газу силану рівним 98 %. 52. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,00625 метра до приблизно 0,381 метра. 53. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,381 метра. 16 UA 112063 C2 54. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,127 метра. 55. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки перебуває в діапазоні від приблизно 0,0127 метра до приблизно 0,0762 метра. 56. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що висота периметрової стінки становить приблизно 0,0508 метра. 57. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що щонайменше нижня поверхня піддона виконана з металу або графіту, або з комбінації металу й графіту. 58. Реакторна система за п. 57, яка відрізняється тим, що метал являє собою нержавіючу сталь марки 316 SS або нікель. 59. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що вона виконана так, що швидкість утворення гранул узгоджена зі швидкістю утворення пилу. 60. Реакторна система за п. 59, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання швидкості утворення пилу за допомогою регулювання заданої частоти вібрації, заданої амплітуди вібрації і висоти периметрової стінки сторін. 61. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю рекуперації водню, що вилучається з реакційного казана, для застосування в супутніх процесах виробництва силану або для продажу. 62. Реакторна система за п. 33, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання залишкової концентрації газоподібного водню, захопленого гранулами або включеного в другий хімічний продукт, що містить гранули, за допомогою регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в газі, що додається в реакційний казан. 63. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-90 молярних відсотків. 64. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-80 молярних відсотків. 65. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-50 молярних відсотків. 66. Реакторна система за п. 62, яка відрізняється тим, що вона виконана з можливістю регулювання концентрації розріджувача у вигляді водню в межах 0-20 молярних відсотків. 67. Реакторна система за п. 35, яка відрізняється тим, що додатково містить: вихідний шлюзовий бункер, що містить два або більше запірних клапани та проміжну другу захисну оболонку, при цьому система виконана з можливістю віддалення часток, що виходять за межі плоского піддона, із захисної оболонки через вихідний шлюзовий бункер. 68. Реакторна система за п. 1, яка відрізняється тим, що додатково містить: вхідний шлюзовий бункер, що містить два або більше запірних клапани та проміжний другий реакційний казан, з'єднаний із внутрішньою частиною реакційного казана та функціонуючий для вибіркової подачі часток у внутрішню частину реакційного казана. 17 UA 112063 C2 Комп’ютерна верстка Л. Бурлак Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Василя Липківського, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут інтелектуальної власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 18
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMechanically fluidized reactor systems and methods, suitable for production of silicon
Автори англійськоюDassel, Mark, W.
Автори російськоюДассель Марк В.
МПК / Мітки
МПК: C23C 16/44, C23C 16/52, C23C 16/448, H01L 21/205
Мітки: виробництва, реакторні, псевдозрідження, кремнію, механічного, шару, системі, придатні, способи
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/20-112063-reaktorni-sistemi-mekhanichnogo-psevdozridzhennya-sharu-jj-sposobi-pridatni-dlya-virobnictva-kremniyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Реакторні системи механічного псевдозрідження шару й способи, придатні для виробництва кремнію</a>
Спосіб узгодження власного механічного опору рухомої системи звукової головки та навантаження – механічного опору навколишнього середовища
Номер патенту: 9513
Опубліковано: 17.10.2005
Автор: Заїка Павло Іванович
МПК: G10K 11/00
Мітки: навантаження, механічного, рухомої, середовища, опору, системі, узгодження, звукової, головки, власного, спосіб, навколишнього
Формула / Реферат:
Спосіб узгодження власного механічного опору рухомої системи звукової головки та навантаження - механічного опору навколишнього середовища, який характеризується тим, що розміщують на шляху поширення звукових хвиль від звукової головки до навколишнього середовища газодинамічну сферу, що являє собою еластичну оболонку довільної форми, яка утримує в собі пружне газове середовище.
Литі продукти, придатні для лиття композиції, та способи їх виготовлення
Номер патенту: 100859
Опубліковано: 11.02.2013
Автор: Теікен Джастін
МПК: C04B 35/66, B22D 41/02
Мітки: придатні, композиції, продукти, виготовлення, литі, лиття, способи
Формула / Реферат:
1. Вогнетривка композиція для облицювання внутрішніх стінок металургійного обладнання, що містить зерна вогнетривкого матеріалу, зв'язувальну речовину, причому фракція найгрубіших зерен вогнетривкого матеріалу включає принаймні 50 % за масою сухої композиції, і фракція найгрубіших зерен вогнетривкого матеріалу відокремлена від фракції менших зерен зазором, який має співвідношення найбільшого діаметра частинок до найменшого діаметра частинок,...
Штами saccharomyces cerevisiae, придатні для виробляння пекарських дріжджів, що є осмостійкими та стійкими до дії слабких органічних кислот, способи їх одержання та застосування
Номер патенту: 111839
Опубліковано: 24.06.2016
Автори: Томас Бенуа, Бартолуччі Жан-Шарль, Лядрієр Жан-Марк, Сюхер Фабієн
МПК: A21D 8/04, C12N 15/01, A21D 13/00, C12R 1/865, C12N 1/18, A21D 2/14
Мітки: кислот, saccharomyces, одержання, пекарських, cerevisiae, стійкими, слабких, застосування, штами, дії, способи, осмостійкими, придатні, виробляння, дріжджів, органічних
Формула / Реферат:
1. Штам Saccharomyces cerevisiae, одержаний за допомогою способу гібридизації, який включає стадію гібридизації промислового штаму Saccharomyces cerevisiae, депонованого 8 липня 2010 р. у CNCM під номером I-4341, з штамом, депонованим 9 лютого 2011 року у CNCM під номером I-4448, або способу випадкової мутації промислового штаму Saccharomyces cerevisiae, депонованого 8 липня 2010 року у CNCM під номером I-4341, при цьому зазначений штам...
Похідні 1,2,4-триамінобензолу, придатні для лікування розладів центральної нервової системи
Номер патенту: 79666
Опубліковано: 10.07.2007
Автори: Роттлондер Маріо, Венсель Торньое Крістіан, Рітсен Андреас, Ханжин Ніколай, Банг Ньоргор Мортен
МПК: C07D 333/20, C07D 307/81, A61P 25/00, C07D 333/32, C07D 333/34, C07D 333/28, C07D 333/58, C07D 333/64, C07D 307/52
Мітки: похідні, придатні, розладів, системі, нервової, 1,2,4-триамінобензолу, центральної, лікування
Формула / Реферат:
1. Похідні 1,2,4-триамінобензолу формули І, (I)де:R1 вибраний з групи, що складається з атома водню, С1-6-алк(ен/ін)ілу, С3-8-циклоалк(ен)ілу, С3-8-циклоалк(ен)іл-С1-6-алк(ен/ін)ілу, ацилу, гідроксі-С1-6-алк(ен/ін)ілу і гідрокси-С3-8-циклоалк(ен)ілу;R2 і R2' незалежно вибрані з групи, що складається з атома водню, С1-6-алк(ен/ін)ілу,...
Спосіб формування наплавленого шару вогнетривкої маси на поверхні вогнетриву на основі сполучення кремнію і суміш часток, призначена для формування наплавленого шару вогнетривкої маси
Номер патенту: 27322
Опубліковано: 15.09.2000
Автори: Мейнккен Жан-П'єр, Мотте Леон-Філіп
МПК: C04B 35/16, C04B 35/657, F27D 1/16, C23C 4/00, C23C 4/10, C04B 35/65
Мітки: основі, кремнію, маси, призначена, часток, вогнетриву, формування, суміш, сполучення, шару, наплавленого, вогнетривкої, спосіб, поверхні
Текст:
...ремонтируется блок или огнеупорная стена, температура которой невысока, новая огнеупорная масса становится полностью отделенной от основной огнеупорной массы и отходит сама по cede а течение работы оборудования Подобные проблемы возникают сами по себе, если необходим ремонт огнеупорных конструкций, имеющих основу из двуокиси кремния высокой плотности (названные так, что^ы отличить их от традиционных огнеупоров ш двуокиси кремния, плотность...
Попередній патент: Cd33-зв’язувальний агент
Наступний патент: Спосіб покриття нарізного трубчастого компонента, нарізний трубчастий компонент і результуюче з’єднання
Випадковий патент: Спосіб формування ансамблів двійкових маніпульованих радіосигналів складної форми за допомогою синтезаторів частот непрямого типу