Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Испаритель для напыления вещества в ваку­уме, содержащий систему щелевых капилляров, установленных с зазором один относительно дру­гого и выполненных из материала, смачиваемого расплавом напыляемого вещества) нагреватель, охватывающий систему щелевых капилляров, от­личающийся тем, что, с целью упрощения конст­рукции испарителя при улучшении качества напыляемой пленки, нагреватель выполнен в виде стакана, а система щелевых капилляров выполне­на в ви^е ленточной плоской спирали, установлен­ной торцом на дне нагревателя, причем высота витков спирали и расстояние между соседними витками выбрано из выражений Н > й,

ІООт^созв   _, „ —^— < а < 2а соя в,

1\-1

где (1 - расстояние между соседними витками спи­рали, м;

Н - высота витка спирали, м; т - масса атома материала расплава, кг; а - капиллярная постоянная материала расплава, м; в—краевой угол смачивания материала расплава на поверхности материала спирали, град.; Т-температура плавления испаряемого вещества, К;

К - постоянная Больцмана, Дж/к; е - ускорение свободного падения, м/с .

Текст

Изобретение относится к термическому напылению пленок в вакууме и может быть использовано в микроэлектронике прн формировании элементов интегральных схем. Цель и з о б р е тения - упрощение конструкции испарит е л я при улучшении качества напыляемой пленки зй. с ч е т исключения в з а и модействия расплава напыляемого вещес т в а с нагревателем - д о с т и г а е т с я за счет т о г о , ч то наг рева тель выполнен в виде с т а к а н а , а система щеле вых капилляров выполнена в виде ленточной плоской спирали, установленной торцом на дне нагревателя. Система щелевых калилляоов в виде плоской спирали с определенным расстоянием между витками и высотой витка спирали, расположенной на дне нагревателя в форме стакана, позволяет расплаву контролируемо перемещаться в область испарения. При нагреве за счет градиента поверхностной энергии возникает сила, выталкивающая расплав к верхним точкам витков спирали. Положение и форма рабочей поверхности зеркала расплава в течение всего процесса испарения остаются постоянными, а поверхность расплава, обращенная к дну радиационного нагревателя, по мере испарения перемещается вверх. По мере испарения расплав перемещается в область максимальной средней кривизны мениска поверхности расплава. I ип. СО со Изобретение относится к термическому напылению пленок в вакууме и может быть использовано в микроэлектронике при формировании элементов интегральных схем, 1{ель изобретения - упрощение конструкции испарителя при улучшении качества напыляемой пленки за счет исключения взаимодействия расплава напыляемого вещества с нагревателем. На чертеже изображен предложенный испаритель, 14-89 ЕЕ»? В нагреватель 1, имеющий форму стакана» помещена система щелевых капилляров 2 в форме плоской спирали из материала, который смачивается расплавом напыляемого вещества 3. Спиральная система щелевых капилляров торцом установлена на дне стакана, например, в центрирующем углублении 4. Испаритель работает следующим образом . 3 U73369 Навеску испаряемого вещества 3 объемом меньшим, чем емкость внутренней полости спиральной системы щелевых капилляров 2 располагают сверху витков спирали, Спиральную систему щелевых, капилляров 2 устанавливают в углубление 4 нагревателя 1, расположенного в камере вакуумной иапьиштельнон установки, После г е р метизации и откачки камеры до необходимого давления подают напряжение на нагреватель I, расплавляют навеску, прогревают при температуре плавленнп до обе'-згажпваиня, увеличивают температуру нагревателя до рабочей и проводят процесс напыления. Система щелевых капилляров з виде плоской спирали с предложенным р а с стоянием между витками и высотой витка спирали, расположенной па дне нагревателя и форме стакана, позволяет расплаву контролируемо перемещаться в область испарения. При нагреве, за счет градиента поверхностной энергии, возникает сила» выталкивающая р а с плав к верхним точкам витков спирали. Положение и форма рабочей поверхности зеркала расплава в течение всего процесса испарения остается постоянной, а поверхность расплава, обращенная к дну радиационного нагревателя, по мере испарения перемещается вверх. Кроме того, по мере испарения расплав перемещается в область максимальной средней кривизны мениска поверхности расплана, Например, если расстояние между витками спирали постоянное, расплав перемещается к центру спирали, Это обеспечивает высокую скорость испарения, равномерную в течение вс£го процесса, причем допускается практически полное расходование испаряемого вещества. Выполнение высоты витка спирали больше расстояния между соседними витками спирали обеспечивает удержание расплава между витками без нарушения положения и формы поверхности расплава. При выполнении этого условия поверхность расплава, обращенная к напыляемой пленке, и поверхность расплава, обращенная ко дну нагревателя, не соприкасаются друг с другом даже в случае полного смачивания расплавом материала спирали. П р и м е р . Для напыления пленки золота была использована плоская спираль из листового молибдена тол- ' щиной 0,2 мм, высота витка спирали 4 мм, расстояние между соседними витками I мм, образующая спиральную систему щелевых капилляров диаметром 16 мм. Навеска золота массой 6- 10 кг испарялась в вакууме 3-10 Па. Пленка золота формировалась на р а с с т о я нии 0,1 м от испарителя со скоростью 1,5 мкм/мин. Навеска испарялась полностью. Полученные пленки характеризуются уменьшенным удельным сопротивлением и большим удельным весом по сравнению с прототипом. Испаритель отличается простотой, удобен в обслуживании. 20 Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я Испаритель для напыления вещества в вакууме, содержащий систему щелевых капилляров, установленных с зазо25 ром один относительно другого и выполненных из материала, смачиваемого расплавом напыляемого вещества, нагреватель, охватывающий систему щелевых капилляров, о т л и ч а ю щ и й 30 с я тем, что, с целью упрощения конструкции испарителя при улучшении качества напыляемой пленки, нагреватель выполнен в виде с т а к а н а , а система щелевых капилляров выполнена в виде ленточной плоской спирали, ус35 тановленной торцом на дне н а г р е в а т е ля, причем высота витков спирали и расстояние между соседними витками выбрано из выражений H>d, i 2OOmga cos0 ,,,_ 40 ^а •

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Evaporator for vacuum deposition

Автори англійською

Ivaschuk Anatolii Vasyliovych, Kornus Volodymyr Hryhorovych, Kokhan Valentyn Petrovych, Yashnyk Volodymyr Makarovych

Назва патенту російською

Испаритель для напыления вещества в вакууме

Автори російською

Иващук Анатолий Васильевич, Корнус Владимир Григорьевич, Кохан Валентин Петрович, Яшник Владимир Макарович

МПК / Мітки

МПК: C23C 14/24

Мітки: вакуумі, напилення, речовини, випарник

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/4-16341-viparnik-dlya-napilennya-rechovini-v-vakuumi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Випарник для напилення речовини в вакуумі</a>

Подібні патенти