Пристрій для отримання тонких плівок

Реферат: Пристрій для отримання тонких плівок містить мікропечі, підкладки, випарник із наважкою, заслінку. Для отримання конденсату використовують систему поворотних мікропечей з підкладками на радіальних кронштейнах і заслінку із асиметричним нецентральним отвором, розміщеним над випарником. UA 80521 U (54) ПРИСТРІЙ ДЛЯ ОТРИМАННЯ ТОНКИХ ПЛІВОК UA 80521 U UA 80521 U 5 10 15 20 25 30 35 40 45 Корисна модель належить до технології тонких напівпровідникових плівок та наноструктур і може бути використана у мікро- і наноелектроніці. Тонкі напівпровідникові плівки та наноструктури мають широкий спектр використання як ефективні активні елементи у джерелах і детекторах когерентного випромінювання у різних діапазонах довжин хвиль електромагнітного випромінювання, фільтрах і відбиваючих покриттях тощо. У зв'язку із цим актуальними залишаються технологічні розробки (Фреик Д.М., Галущак М.А., Межиловська Л.Й. Физика и технология полупроводниковых пленок. Вища школа. Львов. 1988. 152 с.). Для отримання напівпровідникових плівок і наноматеріалів використовують методи молекулярно-променевої епітаксії (molecular-beam epitaxy, MBE), осадження із металоорганічних сполук (metaloorganic vapor phase epitaxy, MOVPE), та інші (Белявський В.Н. Физические основи полупроводниковой нанотехнології // Соросовский образовательный журнал, 1996 - № 10. - С. 92-98.) Відзначені способи отримання напівпровідникових тонких плівок і наноструктур вимагають надзвичайно дорогої технологічної апаратури, прецезійної складної системи керування та спеціальних матеріалів. Найбільш близьким аналогом до запропонованої корисної моделі є система мікропечей кільцевого вакуумного нагрівача для отримання тонких плівок (Фреик Д.М., Гайдучок Г.М., Олеськів СП. Вакуумний секционный електрический нагреватель // Физическая електроника. 1974. № 8. сс. 129-131). У запропонованому пристрої використовують систему мікропечей із їх нагрівачами до різної температури, що розміщені вздовж кільця, підкладки, випарник із наважкою, заслінку, які розміщуються у вакуумі. Недоліком пристрою є те, що він має обмежені функціональні можливості, так як осадження пари у відкритому вакуумі здійснюється одночасно на всі підкладки. Задачею корисної моделі є розробити пристрій, який би забезпечував отримання системи плівок у єдиному циклі на окремих підкладках не розгерметизовуючи вакуумну систему. Поставлена задача вирішується тим, що у пристрої для отримання тонких плівок у відкритому вакуумі використовують систему мікропечей із заданою однаковою температурою підкладок Т п, яка може повертатися, та заслінку із асиметричним нецентральним отвором над випарником. Пристрій значно розширює функціональні можливості, так як забезпечує отримання плівок різної товщини на підкладках у одному циклі при заданих температурах випаровування наважки Тв та осадження Тп, без розгерметизації вакуумної системи, за рахунок повороту системи пічок, розмічених радіально, над нецентральним отвором у заслінці та регульованого часу осадження. Приклад конкретного використання пристрою. На кресленні зображена схема пристрою для отримання тонких плівок і наноструктур напівпровідникових сполук випаровуванням наважок із цих матеріалів у відкритому вакуумі. Пристрій містить наступні конструктивні елементи: систему мікропечей (1) із нагрівниками (2), які розміщені по кругу за допомогою радіальних кронштейнів (3); підкладки (4) для осадження пари; рухому заслінку (5) із асиметрично розміщеним отвором (6) над випарником (7); механічну систему для повороту мікропечей(8). Запропонований пристрій осадження пари у відкритому вакуумі дає можливість отримати у процесі одного циклу конденсати різної товщини при сталих температурах осадження (Т п=const) і випаровування (Тв=const), доступний у реалізації, піддається автоматизації і відзначається доброю повторюваністю результатів. Його можна ефективно використовувати для розв'язання різних задач тонкоплівкового матеріалознавства у вакуумних постах типу ВУП-5К та інших вакуумних установках. 50 ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 55 Пристрій для отримання тонких плівок, що містить мікропечі, підкладки, випарник із наважкою, заслінку, що розміщаються у вакуумі, який відрізняється тим, що для отримання конденсату використовують систему поворотних мікропечей з підкладками на радіальних кронштейнах і заслінку із асиметричним нецентральним отвором, розміщеним над випарником. 1 UA 80521 U Комп’ютерна верстка Д. Шеверун Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 2