Патенти з міткою «хіміко-механічного»
Склад для хіміко-механічного полірування поверхні кристалів аiiibiicvii (tl4hgi6, tl4pbi6, tl4cdi6)
Номер патенту: 117363
Опубліковано: 26.06.2017
Автори: Фочук Петро Михайлович, Дремлюженко Сергій Григорович, Парасюк Олег Васильович, Федорчук Анатолій Олександрович
МПК: H01L 21/302, C09G 1/02
Мітки: tl4pbi6, поверхні, склад, tl4hgi6, аiiibiicvii, хіміко-механічного, tl4cdi6, кристалів, полірування
Формула / Реферат:
Склад для хіміко-механічного полірування кристалів AIIIBIICVII (Tl4HgI6, Tl4PbI6, Tl4CdI6), що містить аеросил (марок А-175, A-300), луг, окисник, гліцерин, воду, який відрізняється тим, що заявлений склад додатково містить моноетаноламін, а як окисник застосовують гексаціаноферат (III) калію (K3[Fe(CN)6]), при наступному співвідношенні компонентів: аеросил (марок А-175, А-300) 0,17 моль/л, ...
Суміш для хіміко-механічного полірування напівпровідникових матеріалів
Номер патенту: 3793
Опубліковано: 27.12.1994
Автори: Чуйко Олексій Олексійович, Марченко Антоніна Володимирівна, Губа Галина Яківна, Кітін Дмітрій Вячеславовіч, Артьомов Алєксандр Сєрафімович, Антохін Ніколай Алєксандровіч, Бескровна Ірина Іванівна, Раухман Алєксандр Марковіч, Леховіцер Світлана Борисівна, Куса Світлана Давидівна, Піщіков Дмітрій Івановіч, Терень Марія Іванівна
МПК: C09G 1/00, H01L 21/302
Мітки: суміш, хіміко-механічного, напівпровідникових, матеріалів, полірування
Формула / Реферат:
Состав для химико-механического полирования полупроводниковых материалов, содержащий абразивный компонент, гидроксид натрия или калия, 30%-ный раствор перекиси водорода и воду, отличающийся тем, что в качестве абразивного компонента он содержит аминоэтоксиаэросил и дополнительно - глицерин при следующем соотношении компонентов, мас. %: , Аминоэтокси аэросил 6,0-8,0 Гидроксид натрия или...