Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву за методом Чохральського, що включає вирощування монокристалів кремнію з розплаву кремнію, що знаходиться в кварцовому тиглі, шляхом введення кремнієвої монокристалічної затравки в розплав кремнію, вирощування "шийки", розрощування монокристала до заданого діаметра, вирощування циліндричної частини монокристала і "протилежного конуса", відрив монокристала від розплаву, охолоджування монокристала, який відрізняється тим, що після відриву монокристала від розплаву його охолоджують до кімнатної температури із швидкістю 1... 1,5°С/хв.

Текст

Корисна модель відноситься до області металургії напівпровідникових матеріалів, а саме до способів вирощування монокристалів кремнію з розплаву методом Чохральського. Відомий спосіб вирощування монокристалів кремнію [патент RU №2076155, кл. С30В15/04, 1997], в якому після вирощування і охолоджування монокристала проводять його додатковий відпал в спеціальних печах при температурі 350...500°С. Недоліком цього способу є те, що відпал доводиться проводити в додаткових печах, із-за чого порушується режим охолоджування монокристала і виникають додаткові витрати на устаткування і його обслуговування, електроенергію, а також збільшується час обробки монокристала до готової продукції. Найбільш близьким по сукупності ознак до способу, що заявляється, є спосіб вирощування монокристалів кремнію, [Технологічна інструкція "Виробництво полі- і монокристалічного кремнію методом Чохральського, ТИ №18.02 - 90", Запорізький титаномагнієвий комбінат, 1991], який полягає в тому, що процес вирощування монокристала кремнію ведуть в установці типу "Редмет-30", в протоці інертного газу аргону у вакуумі, що включає вирощування монокристалів кремнію з розплаву кремнію, що знаходиться в кварцовому тиглі, шляхом введення кремнієвої монокристалічної затравки в розплав кремнію, вирощування "шийки", розрощування монокристала до заданого діаметру, вирощування циліндричної частини монокристала і "протилежного конуса", відрив монокристала від розплаву, охолоджування монокристала і його розвантаження. Недоліком цього способу є те, що після відриву монокристала кремнію від розплаву, потужність на нагріванні вимикають і монокристал переганяють у верхню камеру, при цьому швидкість охолоджування монокристала дуже велика, що приводить до виникнення термонапруг, які впливають на електрофізичні параметри монокристала, що вирощується. В основу корисної моделі поставлено завдання розробити спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву по методу Чохральського, в якому за рахунок регулювання швидкості охолоджування монокристалів, забезпечується їх плавне охолоджування, що зменшує термічну напругу в монокристалах і дозволяє підвищити електрофізичні параметри отримуваних монокристалів. Для вирішення поставленого завдання в способі вирощування монокристалів кремнію з розплаву по методу Чохральського, що включає вирощування монокристалів кремнію з розплаву кремнію, що знаходиться в кварцовому тиглі, шля хом введення кремнієвої монокристалічної затравки в розплав кремнію, вирощування "шийки", розрощування монокристала до заданого діаметру, виро щування циліндричної частини монокристала і "протилежного конуса", відрив монокристала від розплаву, о холоджування монокристала, відповідно до корисної моделі, після відриву монокристала від розплаву, його о холоджують до кімнатної температури із швидкістю 1...1 ,5°С /хвил. У пропонованому способі вирощування монокристалів кремнію з розплаву охолоджування вирощеного монокристала здійснюється за рахунок теплового потоку від нагрівання і розплаву кремнію, що залишився в тиглі, при цьому заданий режим охолоджування монокристала кремнію здійснюється в діапазоні 1...1,5°С/хв., шля хом зменшення потужності нагрівання від потужності рівної потужності для вирощування монокристала до повного вимкнення потужності нагрівання. Запропонований режим зменшує термічну напругу в монокристалі, забезпечує поліпшення структурних властивостей і підвищення електрофізичних властивостей монокристала. При швидкості охолоджування монокристала менше 1°С/хв. підвищення електрофізичних параметрів не встановлено і це тільки приводить до збільшення тривалості процесу, що економічно недоцільно, також це може привести до неповної кристалізації розплаву на кінцевій частині монокристала, що приводить до утворення дислокацій, їх розповсюдження у вирощену частину монокристала і, як наслідок, порушення заданої бездіслокаційній структури монокристала. При швидкості охолоджування монокристала більше 1,5°С/хв.. відбувається інтенсивніше охолоджування його кінцевої частини, що призводить до зниження електрофізичних параметрів монокристала. Спосіб, що заявляється, був випробуваний таким чином. Методом Чохральського в установках типу «Редмет-30» вирощувалися бездіслокаційній монокристали кремнію з кристалографічною орієнтацією , діа ме тр ом 15 0мм і ко н це н тр аці єю ле гуючо ї до м і шк и бо р у ві д 7×1015см-3 до 3×1016см-3. Після вирощування циліндрової частини і «протилежного конуса» монокристала проводили відрив монокристала від розплаву, шляхом регулювання потужності на нагрівачі швидкість охолоджування монокристала до кімнатної температури забезпечували 1°С у хвилину. Результати електрофізичних параметрів, усереднені за 50 процесів вирощування, а саме час життя нерівноважних носіїв заряду в монокристалах кремнію складав 19...23мкс. Методом Чохральського в установках типу «Редмет-30» вирощувалися бездіслокаційній монокристали кремнію з кристалографічною орієнтацією , ді аме тр ом 1 50м м і к он цен тр аці єю ле гуючо ї домі шк и бо р у ві д 7×1015см-3 до 3×1016см-3. Після вирощування циліндрової частини і «протилежного конуса» монокристала проводили відрив монокристала від розплаву, шляхом регулювання потужності на нагрівачі швидкість охолоджування монокристала до кімнатної температури забезпечували 1,5°С у хвилину. Результати електрофізичних параметрів, усереднені за 50 процесів вирощування, а саме час життя нерівноважних носіїв заряду в монокристалах кремнію складав 13...16мкс. У разі вирощування монокристалів за відомим способом, час життя нерівноважних носіїв заряду в монокристалах кремнію складав 8...12мкс. Корисна модель, що заявляється, забезпечує значне підвищення електрофізичних параметрів, а саме часу життя нерівноважних носіїв заряду, що у свою чергу підвищує якість монокристала, збільшує вихід в готову продукцію на 4%, покращує те хніко-економічні показники процесу вирощування монокристалів.

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for silicon monocrystals growing from a melt

Автори англійською

Voliar Roman Mykolaiovych, Yehorov Serhii Hennadiiovych, Chervonyi Ivan Fedorovych

Назва патенту російською

Способ выращивания монокриталлов кремния из расплава

Автори російською

Воляр Роман Николаевич, Егоров Сергий Геннадиевич, Червоный Иван Федорович

МПК / Мітки

МПК: C30B 15/02

Мітки: кремнію, монокристалів, вирощування, спосіб, розплаву

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/1-22770-sposib-viroshhuvannya-monokristaliv-kremniyu-z-rozplavu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву</a>

Подібні патенти