Установка для рідкофазної епітаксії
Номер патенту: 14302
Опубліковано: 15.05.2006
Автори: Шутов Станіслав Вікторович, Андронова Олена Валеріївна, Курак Владислав Володимирович, Баганов Євген Олександрович
Формула / Реферат
Установка для рідкофазної епітаксії, що містить касету в нагрівальному вузлі, яка має багато комірок, вікно у вигляді отвору над підкладкою, утримуючий підкладку слайдер, встановлений із можливістю переміщення крізь касету уздовж комірок для підведення підкладки в комірки, і термопару, яка відрізняється тим, що комірки знаходяться у слайдері, а підкладка розміщена у нерухомій основі касети, в якій під підкладкою розташований теплообмінник, що складається з кварцової пластини та системи відвідних каналів, до якого приєднаний газопровід у вигляді кварцової трубки, який забезпечує можливість подання ззовні реактора газоподібного охолоджувача.
Текст
Установка для рідкофазної епітаксії, що містить касету в нагрівальному вузлі, яка має багато комірок, вікно у вигляді отвору над підкладкою, 3 14302 4 ня крізь касету уздовж комірок для підведення підстинки 11, штуцера 12, графітового вкладиша 13, кладки в комірки, і термопару, комірки знаходяться що формує канали відведення газу-охолоджувача у слайдері, а підкладка розміщена у нерухомій 14 та утримує підкладку 15. Слайдер переміщуоснові касети, в якій під підкладкою розташований ється за допомогою штока 16. теплообмінник, що складається з кварцової пласУстановка працює наступним чином. тини та системи відвідних каналів, до якого приєдУ комірках для розчинів-розплавів 6 розміщунаний газопровід у вигляді кварцової трубки, який ються вихідні матеріали для розчинів-розплавів 7, забезпечує можливість подання ззовні реактора причому жодна з комірок б не розташована над газоподібного охолоджувача. підкладкою 15. Після компонування нагрівального На відміну від прототипу у запропонованій ковузла 2 і процесу гомогенізації розчинів-розплавів, рисній моделі у слайдері, що забезпечує зміну при температурі, що контролюється термопарою комірок з розчинами-розплавами, замість підклад3, переміщенням слайдера 5 за допомогою штока ки розташовані саме комірки з розчинами16 виконують сполучення першого розчинурозплавами, а підкладка розташована у нерухомій розплаву з підкладкою 15. За допомогою газопрочастині касети. Така конструкція надає, змогу не воду 9 ззовні у теплообмінник через штуцер 12 змінювати положення підкладки відносно установконтрольовано подається газ-охолоджувач, що ки при зміні розплаву-розчину і, як наслідок, застоохолоджує підкладку 15 та виходить через систему совувати теплопоглинач-охолоджувач постійно в каналів 14. При цьому кварцова пластинка 11 заодному і тому ж самому місці установки, що не безпечує спрямування потоку газу уздовж підкладпотребує додаткового прецизійного позиціонуванки, що значно покращує теплообмін між підкладня теплопоглинача-охолоджувача відносно устакою та газом-охолоджувачем. Після проведення новки. Також у запропонованій корисній моделі охолодження газ перекривають і зсувають слайзастосовується газопровід у вигляді кварцової дер 5 таким чином, щоб над підкладкою опинилася трубки, що надає змогу використовувати газоподінаступна комірка з потрібним розчином-розплавом бний охолоджувач, що контрольовано подається і повторюють операцію охолодження. По закінченззовні реактора і не обмежений у кількості. Реаліні процесу слайдер розмішують таким чином, щоб зація теплообмінника під підкладкою за допомогою підкладка 15 не мала контакту з жодною з комірок кварцової пластини та системи відвідних каналів 6. значно покращує теплообмін між газоподібним Таким чином запропонована корисна модель охолоджувачем та підкладкою. дозволяє вирощувати багатокомпонентні шари з Суть корисної моделі подана на фіг.1, 2. можливістю використання для цього зовнішнього Установка складається з касети 1, що знахогазоподібного охолоджувача, та, завдяки відсутнодиться у нагрівальному вузлі 2, в якому встановсті переміщення підкладки відносно установки, не лена термопара 3. Касета 1 складається з основи потребує зміни місця використання теплопоглина4, слайдера 5, що містить комірки 6 з розчинамича-охолоджувача при зміні використовуваної комірозплавами 7, упорів 8, газопроводноі кварцової рки з розчином-розплавом. трубки 9, утримувачів слайдеру 10, кварцової пла Комп’ютерна верстка Г. Паяльніков Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюA plant for the liquid phase epitaxy
Автори англійськоюAndronova Olena Valeriivna, Bahanov Yevhen Oleksandrovych, Kurak Vladyslav Volodymyrovych, Shutov Stanislav Viktorovych
Назва патенту російськоюУстановка для жидкофазной эпитаксии
Автори російськоюАндронова Елена Валериевна, Баганов Евгений Александрович, Курак Владислав Владимирович, Шутов Станислав Викторович
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/208, C30B 29/40, C30B 19/00
Мітки: установка, рідкофазної, епітаксії
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-14302-ustanovka-dlya-ridkofazno-epitaksi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Установка для рідкофазної епітаксії</a>
Попередній патент: Оптично керований активний нвч-фільтр
Наступний патент: Аналого-цифровий фазообертач
Випадковий патент: Спірокетальзаміщені циклічні кетоеноли та засоби для боротьби зі шкідниками, ростом небажаних рослин та/або мікроорганізмами