Установка для рідкофазної епітаксії
Номер патенту: 14276
Опубліковано: 15.05.2006
Автори: Єрохін Сергій Юрійович, Цибуленко Вадим Володимирович, Марончук Ігор Євгенович
Формула / Реферат
Установка для рідкофазної епітаксії, що містить касету в нагрівальному вузлі, яка виконана у вигляді розбірної конструкції, і має основу, прикріплену до основи пластину з ростовими комірками, що містить систему каналів і отворів, де ростові комірки мають змінні вкладиші для регулювання висоти ростових зазорів, де вкладиші виконані з пазами для розміщення фальшпідкладок, утримуючий підкладку слайдер, що має вікно над підкладкою і встановлений з можливістю переміщення крізь касету уздовж над комірками в напрямних у вигляді знімного притискного кутика та зовнішньої стінки у вигляді кутика вузла заповнення ростових комірок, що має систему проливних отворів, розчинами-розплавами з контейнерів для гомогенізації, що прикріплені до верхньої частини вузла заповнення ростових комірок, а також термопару і ємності для зливання розчинів-розплавів, яка відрізняється тим, що нагрівальний вузол встановлений із можливістю обертання навколо своєї подовжньої осі, у вузлі заповнення ростових комірок проливні отвори напряму суміщені з каналами і отворами пластини з ростовими комірками, а контейнери для гомогенізації зверху закриті кришкою і одночасно є ємностями для зливання розчинів-розплавів.
Текст
Установка для рідкофазної епітаксії, що містить касету в нагрівальному вузлі, яка виконана у вигляді розбірної конструкції, і має основу, прикріплену до основи пластину з ростовими комірками, що містить систему каналів і отворів, де ростові комірки мають змінні вкладиші для регулювання висоти ростових зазорів, де вкладиші виконані з пазами для розміщення фальшпідкладок, утримуючий підкладку слайдер, що має вікно над підкла 3 14276 4 розміщення фальшпідкладок, утримуючого підклатехнологічні можливості установки для рідкофаздку слайдера, що має вікно над підкладкою і встаної епітаксії і робить її більш продуктивною. При новлений із можливістю переміщення крізь касету цьому спрощується виготовлення та обслуговууздовж над комірками в направляючих у вигляді вання касети за рахунок спрощення її конструкції, знімного прижимного кутка та зовнішньої стінки у тобто відсутності піддона з ємкостями для зливу вигляді кутка вузла заповнення ростових комірок, у відпрацьованих розчинів-розплавів, що є окремою пазу якого встановлений із можливістю переміпластиною, відсутності слайдера проливу розчищення слайдер проливу, за допомогою системи нів-розплавів у ростові комірки з контейнерів для проливальних отворів, розчинів-розплавів у ростогомогенізації вузла заповнення ростових комірок ві комірки з контейнерів для гомогенізації, що прита відсутності необхідності перекладання розчинівкріплені до верхньої частини вузла заповнення розплавів з ємностей для зливу розчинів-розплавів ростових комірок, при цьому касета своєю основ контейнери для гомогенізації при багаторазововою встановлена на піддон з ємностями для злиму використанні розчинів-розплавів. вання відпрацьованих розчинів-розплавів, що є Суть корисної моделі подана на фіг.1, 2. окремою пластиною. Цю установку взято за протоУстановка складається з касети 1, яка розмітип. щена в нагрівальному вузлі 2, що обертається До недоліків прототипу відноситься те, що ємнавколо своєї подовжньої осі, у якому встановлена ності для зливання розчинів-розплавів виконані у термопара 3. Касета 1 виконана у вигляді розбірвигляді окремої пластини, що розташована під ної конструкції і складається з основи 4, на який касетою, а вузол заповнення ростових комірок має прикріплена пластина з ростовими комірками 5 з паз в якому встановлений із можливістю перемізмінними вкладишами 6, утримуючого підкладку щення слайдер проливу, за допомогою системи слайдера 7, знімного прижимного кутка 8, вузла проливальних отворів, розчинів-розплавів у ростозаповнення ростових комірок 9, контейнерів для ві комірки з контейнерів для гомогенізації, що гомогенізації 10 з кришкою 11, що одночасно є ускладнює конструкцію та обслуговування, зменємностями для зливу розчинів-розплавів 12. Пласшує технологічні можливості завдяки малому ротина з ростовими комірками 5 містить систему кабочому простору нагрівального вузла, що робить її налів 13 і отворів 14. У змінних вкладишах 6 виконеефективною. нано паз для розміщення фальшпідкладок 15. В В основу корисної моделі поставлена задача утримуючому підкладку слайдері 7 над підкладкою створення установки для рідкофазної епітаксії, 16 виконане вікно 17. Вузол заповнення ростових конструктивні особливості якої забезпечили б рокомірок 9 має систему проливальних отворів 18 зширення її технологічних можливостей при спророзчинів-розплавів, з контейнерів для гомогенізації щенні конструкції. 10 у ростові комірки 19, напряму суміщених з каЦе досягається тим, що в установці для рідналами 13 і отворами 14. кофазної епітаксії, що містить касету в нагрівальУстановка працює наступним чином. У контейному вузлі, яка виконана у вигляді розбірної конснерах для гомогенізації 10 розміщують вихідні матрукції, і має основу, прикріплену до основи теріали. При компонуванні нагрівального вузла 2 пластину з ростовими комірками, що містить сискасета 1 розміщується своєю основою 4 вгору. тему каналів і отворів, де ростові комірки мають Після процесу гомогенізації розчинів-розплавів змінні вкладиші для регулювання висоти ростових поворотом нагрівального вузла 2 навколо своєї осі зазорів, де вкладиші виконані з пазами для розміна 180 градусів, у результаті дії сили тяжіння, одщення фальшпідкладок, утримуючий підкладку ночасно заповнюють, через суміщені отвори 14 слайдер, що має вікно над підкладкою і встановпластини з ростовими комірками 5 з проливальнилений із можливістю переміщення крізь касету ми отворами вузла заповнення ростових комірок уздовж над комірками в направляючих у вигляді 18, ростові комірки 19 розчинами-розплавами. Пезнімного прижимного кутка та зовнішньої стінки у реміщення підкладки 16 між ростовими комірками вигляді кутка вузла заповнення ростових комірок, з розчинами-розплавами 19 здійснюють за допощо має систему проливальних отворів, розчинамимогою утримуючого підкладку слайдера 7, сполурозплавами з контейнерів для гомогенізації, що ченого з рухливим штоком. Після приведення підприкріплені до верхньої частини вузла заповнення кладки в контакт з одним із розчинів-розплавів ростових комірок, а також ємності для зливу розздійснюють вирощування епітаксійної структури чинів-розплавів і термопару, нагрівальний вузол шляхом створення пересичення в рідкій фазі відовстановлений із можливістю обертання навколо мими методами (програмне зниження температусвоєї подовжньої осі, у вузлі заповнення ростових ри, початкове пересичення розчинів-розплавів, комірок проливальні отвори напряму суміщені з імпульсне охолодження насичених розчинівканалами і отворами пластини з ростовими коміррозплавів і т.п.). При вирощуванні багатошарових ками, а контейнери для гомогенізації зверху зачиепітаксійних структур підкладку 16 послідовно нені кришкою і одночасно є ємностями для зливу приводять у контакт з розчинами-розплавами з розчинів-розплавів. різних ростових комірок 19. В утримуючому підкНа відміну від прототипу, використання конладку слайдері 7, над тильною поверхнею підклатейнерів для гомогенізації і в якості ємностей для дки 16 сформоване вікно 17, що забезпечує відвезливу розчинів-розплавів, що можливо завдяки дення тепла від підкладки у випадку вирощування запропонованому конструктивному рішенню нагрінизькорозмірних структур методом імпульсного вального вузла, веде до збільшення робочого проохолодження насиченого розчину-розплаву. Видастору нагрівального вузла, що дає можливість вилення розчинів-розплавів з робочої поверхні підккористання підкладки більшої площі, що розширює ладки 16 здійснюють у результаті механічного кон 5 14276 6 такту з поверхнею пластини з ростовими коміркажіння, одночасно видаляють з ростових комірок 19 ми 5, вільної від розчинів-розплавів, при перемівідпрацьовані розчини-розплави, через суміщені щенні утримуючого підкладку слайдера 7, від одніотвори 14 та 18, в контейнери для гомогенізації 10, єї ростової комірки 19 з розчином-розплавом до які одночасно є ємностями для зливу розчинівіншої. Після завершення процесу вирощування розплавів 12. епітаксійної структури підкладку 16, за допомогою Таким чином, установка для рідкофазної епіутримуючого підкладку слайдера 7, переміщують у таксії є простою в виготовленні та обслуговуванні, «нейтральне» положення, що забезпечує відсуті в порівнянні з відомими технічними рішеннями ність контакту підкладки з розчинами-розплавами. має більші технологічні можливості і є більш проПотім поворотом нагрівального вузла 2 навколо дуктивною, що обумовлює її широке промислове своєї осі на 180 градусів, у результаті дії сили тязастосування. Комп’ютерна верстка Г. Паяльніков Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюDevice for liquid-phase epitaxy
Автори англійськоюMaronchuk Ihor Yevhenovych, Tsybulenko Vadym Volodymyrovych, Yerokhin Serhii Yuriiovych
Назва патенту російськоюУстановка для жидкофазной эпитаксии
Автори російськоюМарончук Игорь Евгеньевич, Цибуленко Вадим Владимирович, Ерохин Сергей Юрьевич
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/208
Мітки: епітаксії, установка, рідкофазної
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-14276-ustanovka-dlya-ridkofazno-epitaksi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Установка для рідкофазної епітаксії</a>
Попередній патент: Спосіб оптимізації розумової працездатності у дітей
Наступний патент: 4pg-детектор
Випадковий патент: Установка для формування виробів з бетонних сумішей