Спосіб отримання полікристалічних шарів аiii вv на неорієнтуючій аморфній підкладці

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб отримання тонких полікристалічних шарів сполук АIII BV на неорієнтуючій аморфній підкладці, що включає формування на підкладці шару насиченого розчину-розплаву шляхом термічного напилення у вакуумі елемента III і V групи, нагрівання структури у градієнті температури до температури розплавлення розчину-розплаву, гомогенізацію розчину-розплаву і примусове охолодження, який відрізняється тим, що застосовується аморфна підкладка з коефіцієнтом термічного розширення, відповідним до вибраної сполуки АIII BV.

Текст

Спосіб отримання тонких полікристалічних шарів сполук АIII BV на неорієнтуючій аморфній 3 19573 мованому по нормалі до межі розділу розчинрозплав - підкладка, а швидкість охолодження обирають у межах 0,1-0,5К/хв. Для отримання тонких полікристалічних плівок на неорієнтуючу підкладку наносять послідовним вакуумним напиленням елементи III і V груп. Потім цю підкладку з нанесеними шарами поміщують на плоский нагрівальний елемент, причому нанесені шари обернені до нагрівального елементу. Таке розташування пластини напиленими шарами до нагрівального елементу забезпечує заданий напрям градієнту температури. Температура задається зміною значення струму, що пропускається крізь нагрівальний елемент. Гомогенізація розчину-розплаву здійснюється при витримці протягом 10-30хв. при постійній температурі. При цьому в тонкому шарі розплаву елемента IIІ встановлюється концентраційний профіль елементу V групи, зумовлений температурним профілем в системі нагрівальний елемент-багатошарова структура. Зниження температури, що здійснюється шляхом Комп’ютерна верстка А. Крулевський 4 зменшення величини струму через нагрівальний елемент, призводить до пересичення розчинурозплаву і кристалізації. Швидкість охолодження обирається не більш, ніж 0,5К/хв. для забезпечення вказаного напрямку градієнта температури. Заданий напрямок градієнту температури забезпечує початок кристалізації від межі поділу підкладка-розчин-розплав. Тонкі полікристалічні шари АIII BV, одержані описуваним способом, не потребують дорогої монокристалічної підкладки, спосіб є відносно недорогим і простим з точку зору технології отримання, і може бути застосованим для виготовлення широкого спектру напівпровідникових приладів мікро- і оптоелектроніки. Зокрема, отримані таким способом тонкі шари полікристалічного антимоніду галію можуть бути використані для виготовлення термофотовольтаїчних перетворювачів, які за своїми характеристиками можуть наближатися до перетворювачів, виготовлених на основі монокристалів GaSb. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for forming the thin polycrystalline layer of material with аiii bv structure on a nonorientable amorphous substrate

Автори англійською

Bahanov Yevhen Oleksandrovych, Chernov Andrii Yuriiovych, Sarikov Andrii Viktorovych, Shutov Stanislav Viktorovych

Назва патенту російською

Способ создания тонкого поликристаллического слоя материала со структурой аiii bv на неориентируемой аморфной подложке

Автори російською

Баганов Евгений Александрович, Чернов Андрей Юрьевич, Сариков Андрей Викторович, Шутов Станислав Викторович

МПК / Мітки

МПК: H01C 17/00

Мітки: отримання, аморфний, неорієнтуючій, шарів, спосіб, аiii, полікристалічних, підкладці

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-19573-sposib-otrimannya-polikristalichnikh-shariv-aiii-vv-na-neoriehntuyuchijj-amorfnijj-pidkladci.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання полікристалічних шарів аiii вv на неорієнтуючій аморфній підкладці</a>

Подібні патенти