Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву із заданою концентрацією домішки кисню по методу Чохральського, що включає приготування початкової шихти і її розплавлення в кварцовому тиглі, вирощування монокристалів кремнію з розплаву кремнію, що знаходиться в кварцовому тиглі, шляхом введення кремнієвої монокристалічної затравки в розплав кремнію, вирощування "шийки", розрощування монокристала до заданого діаметра, вирощування циліндрової частини монокристала і "протилежного конуса", відрив монокристала від розплаву і охолоджування монокристала, який відрізняється тим, що  як початкову шихту для вирощування монокристалів кремнію використовують частини оборотного кремнію з концентрацією кисню, рівною 0,15...0,5 заданої концентрації кисню у вирощеному монокристалі.

Текст

Спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву із заданою концентрацією домішки кисню по методу Чохральського, що включає 3 30445 4 Для вирішення поставленого завдання в 7×1017...9×1017см -3. В якості шихти для вирощування способі вирощування монокристалів кремнію з використовували частини монокристалів кремнію з розплаву по методу Чохральського, що включає концентрацією кисню в діапазоні від 1,0×1017см -3 до приготування шихти і її розплавлення в 1,4×1017см -3 (0,15 заданій концентрації кисню у кварцовому тиглі, вирощування монокристалів вирощеному монокристалі). Результати кремнію з розплаву кремнію, що знаходиться в вимірювання концентрації домішки кисню, кварцовому тиглі, шля хом введення кремнієвої усереднені за 25 процесів вирощування складало монокристалічної затравки в розплав кремнію, від 8,4×1017см-3 у верхній частині монокристала до вирощування "шийки", розрощування 6,6×1017см -3 в нижній частині монокристала. Вихід монокристала до заданого діаметру, вирощування придатного продукту склав в цьому випадку 66%. циліндрової частини монокристала і У разі вирощування монокристалів за відомим "протилежного конуса", відрив монокристала від способом, концентрація кисню в монокристалах розплаву і о холоджування монокристала, кремнію складало від 9,8×1017см -3 у верхній частині відповідно до корисної моделі, в якості початкової монокристала до 6,5×1017см -3 в нижній частині шихти для вирощування монокристалів кремнію монокристала. Вихід придатного продукту склав в використовують частини оборотного кремнію з цьому випадку 52%. концентрацією кисню, рівною 0,15...0,5 заданій Спосіб, що заявляється, забезпечує концентрації кисню у вирощеному монокристалі. отримання якісних монокристалів із заданим У пропонованому способі вирощування діапазоном концентрацій домішки кисню і монокристалів кремнію з розплаву із заданою ефективну переробку оборотів кремнію, що у свою концентрацією домішки кисню при підготовці чергу збільшує вихід придатного продукту і шихти відбираються частини монокристалів з покращує те хніко-економічні показники процесу концентрацією кисню, рівною 0,15...0,5 заданій вирощування монокристалів. концентрації кисню в монокристалі, який вирощуватиметься з підготовленої шихти. При використанні частин монокристалів кремнію з концентрацією кисню, більше 0,5 заданої концентрації кисню у вирощеному монокристалі, неможливо виростити монокристал кремнію із заданою концентрацією кисню із-за насичення розплаву кремнію киснем з кварцу тигля. При використанні частин монокристалів кремнію з концентрацією кисню, менше 0,15 заданої концентрації кисню у вирощеному монокристалі, необхідно використовувати початкову сировину високого ступеня чистоти і проводити додаткове легування монокристала киснем. Ця операція приводить до подорожчання процесу і собівартість такого вирощеного монокристала дуже велика, що економічно не вигідно. Спосіб, що заявляється, було випробувано таким чином. Методом Чохральського в установках типу «Редмет-30» вирощувалися бездіслокаційнІ монокристали кремнію з кристалографічною орієнтацією , діаметром 150мм і середньою концентрацією легуючої домішки бору, рівної 1×1016см -3 і концентрацією кисню, рівною 7×1017...9×1017см -3. В якості шихти для вирощування використовували частини монокристалів кремнію з концентрацією кисню в діапазоні від 3,5×1017см -3 до 4,5×1017см -3 (0,5 заданого діапазону концентрацій кисню у вирощеному монокристалі). Результати вимірювання концентрації домішки кисню, усереднені за 25 процесів вирощування складало від 9,4×1017см-3 у верхній частині монокристала до 7,2×1017см -3 в нижній частині монокристала. Вихід придатного продукту склав в цьому випадку 72%. Методом Чохральського в установках типу «Редмет-30» вирощувалися бездіслокаційні монокристали кремнію з кристалографічною орієнтацією , діаметром 150мм і середньою концентрацією легуючої домішки бору, рівною 1×1016см -3 і концентрацією кисню, рівною

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Process for growing of silicon monocrystals from fusion with predetermined impurity concentration of oxygen

Автори англійською

Pozhuev Volodymyr Ivanovych, Hasyk Mykhailo Ivanovych, Voliar Roman Mykolaiovych, Tutyk Valerii Anatoliiovych, Yehorov Serhii Hennadiiovych, Chervonyi Ivan Fedorovych

Назва патенту російською

Способ выращивания монокристаллов кремния из расплава с заданной концентрацией примеси кислорода

Автори російською

Пожуев Владимир Иванович, Гасик Михаил Иванович, Воляр Роман Николаевич, Тутик Валерий Анатольевич, Егоров Сергий Геннадиевич, Червоный Иван Федорович

МПК / Мітки

МПК: C30B 15/00

Мітки: вирощування, концентрацією, домішки, спосіб, заданою, кисню, кремнію, розплаву, монокристалів

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-30445-sposib-viroshhuvannya-monokristaliv-kremniyu-z-rozplavu-iz-zadanoyu-koncentraciehyu-domishki-kisnyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб вирощування монокристалів кремнію з розплаву із заданою концентрацією домішки кисню</a>

Подібні патенти