Спосіб отримання наноструктурованого pbte на поліаміді
Номер патенту: 54834
Опубліковано: 25.11.2010
Автори: Фреїк Дмитро Михайлович, Бачук Василь Васильович, Никируй Ростислав Іванович, Дзундза Богдан Степанович
Формула / Реферат
Спосіб отримання наноструктурованого РbТе на поліаміді, що включає метод відкритого випаровування у вакуумі, у якому вихідну речовину випаровують із наперед синтезованої сполуки РbТе при температурі випаровування наважки Тв, осаджують на поліамідну підкладку при температурі Тп протягом певного часу t, який відрізняється тим, що температура випарника становить Тв = (700±10) °С, температура підкладки - Тп = (120-160) °С, час осадження t = (5-90) хв.
Текст
Спосіб отримання наноструктурованого РbТе на поліаміді, що включає метод відкритого випаровування у вакуумі, у якому вихідну речовину випаровують із наперед синтезованої сполуки РbТе при температурі випаровування наважки Тв, осаджують на поліамідну підкладку при температурі Тп протягом певного часу , який відрізняється тим, що температура випарника становить Тв = (700±10) °С, температура підкладки - Тп = (120160) °С, час осадження t = (5-90) хв. (19) (21) u201006328 (22) 25.05.2010 (24) 25.11.2010 (46) 25.11.2010, Бюл.№ 22, 2010 р. (72) ФРЕЇК ДМИТРО МИХАЙЛОВИЧ, ДЗУНДЗА БОГДАН СТЕПАНОВИЧ, НИКИРУЙ РОСТИСЛАВ ІВАНОВИЧ, БАЧУК ВАСИЛЬ ВАСИЛЬОВИЧ (73) ПРИКАРПАТСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ІМЕНІ ВАСИЛЯ СТЕФАНИКА 3 54834 ном. В якості наважки використовують синтезовану сполуку РbТе, яку випаровують при певній температурі Тв, а при температурі Тп осаджують на поліамідну підкладку протягом певного часу . Температура випаровування складає Tв = (700±10) °C, а температуру осадження (підкладки) варіюють у межах Тп = (120-160) °С, час осадження (час експозиції) становить (5-90) хв. Температури випарника, осадження, а також час експозиції Комп’ютерна верстка Д. Шеверун 4 визначають структуру та товщину осадженого наноматеріалу. Фіг. 1. Залежність термоелектричної потужності S2 від товщини d для свіжо вирощених плівок РbТе. Температура випаровування складає Тв = (700±10) °С, а температуру осадження (підкладки) Тп = 150 °С, час осадження становить (5-90) хв. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for obtaining nanostructured pbte on polyamide
Автори англійськоюFreik Dmytro Mykhailovych, Dzundza Bohdan Stepanovych, Nykyrui Rostyslav Ivanovych, Bachuk Vasyl Vasyliovych
Назва патенту російськоюСпособ получения наноструктурированного pbte на полиамиде
Автори російськоюФреик Дмитрий Михайлович, Дзундза Богдан Степанович, Никируй Ростислав Иванович, Бачук Василий Васильевич
МПК / Мітки
МПК: B82B 3/00
Мітки: наноструктурованого, отримання, поліаміді, спосіб
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-54834-sposib-otrimannya-nanostrukturovanogo-pbte-na-poliamidi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання наноструктурованого pbte на поліаміді</a>
Попередній патент: Спосіб покращення термоелектричних характеристик наноструктур телуриду свинцю
Наступний патент: Спосіб одержання полігідроксохлориду алюмінію
Випадковий патент: Спосіб нарізання зубчастих рейок