Засіб виготовлення поглинача нвч-енергії

Изобретение относит с я к облает. Изобретение относится к обпасти электровакуумных приборов СВЧ, в частности к способу изготовления пленочных поглотителей СВЧ-энергии. Целью изобретения является повышение выхода годных и термостабильпости поглотителя. ha диэлектрические опоры или пакеты спираль - опоры наносят пленку, содержащую 25~40 мас.% тигана, 3242 мае.% рения, остальное вольфрам. Пленку наносят с учетом изменения сопротивления при стабилизирующем отvnre. При этом к =к ^ R^? , где R , ~ сопротивление нанесенной пленки в і-й точке поглотителя до стабилизиРУЮЇДІ. ^о отжига; 1Ц ; - заданное значение "©противления в і-й точке поглотителя; к, ~ поправочные коэффициент, учитывающий изменение сопротивления в і-й течке поглотителя при стабилизирующем отжиге, k^ определяется экспериментально, k^ изменяется от (1-Ь)-1(Г на концах поглотителя 41-89 электроники и может быть использовано, в частности, при изготовлении пленочного поглотителя СВЧ-энергии. Цель изобретения - повышение вывода годных и повышение термостабильиости поглотителя - достигается гем,, что • материал пленки, нанесенной їм подложку, содержит тит ли а 2:>~40 мас.% f рения 32-^2 мас,% и остальное вольфрам. Стабилизирующий от^иі проводят при температуре 950-112O D C в зчмосфере водорода с точкой росы 213233 К. ро 0^5-2 в средней части поглотителя Иоспе занесения поглотитель подвергают стабилизирующему отжигу в среде сетевого водорода при температуре 9 5 0 - 20°С. 1° Для уменьшения отражения СВЧ-зпергчи о г поглотителя закон расіфедепения поверхностного сопротивления поглотит р ля выбирают таким, чтобы сопротивление плавно изменялось здолъ поглотитеця от максимального значения на краю поглотителя, обычно 500.. .30 K O M / D , Д О М И Н И М А Л Ь Н О Г О зна чения в его средней части, оьычно десятки-сотни Ом/0. В ОТЛИЧИе ОТ ИЗВС"" стного поглотителя пленка, нанесенная согласно изобретению, дополнительно содержит 25, . .40 мас.% тит.іна, что значительно повьииает ее Удельное сопротивление, а сооіветсі~ венпо и толщину пленки при заданном значении поверхностного сопротивления. З 15211 61 4' 4 Экспериментально определено, что ний не выше Ь-10- Па с помощью электдополнительное введение в WRe титана ронно-лучевого испарителя с прыгаю25-40 мас.% обеспечивает увеличение щим лучом. удельного сопротивления материала Исходные навески Wile изготовляли поглотителя, необходимое для получе- 5 методом порошковой металлургии с пония сплоиной пленки на его согласуюследующей переплавкой электронным щих участках. Уменьшение содержания лучом. Исходные навески титана изготитана менее 25 мас.% приводит к снитовляли из титана вакуумной плавкой жению удельного сопротивления и соотили из иодидного титана. При одновреветственно толщины пленки поглотите- 'О менном испарении титана и вольфрамля, что в итоге снижает выход годных рения мощность испарителя составляпоглотителей из-за увеличения отражела 6-8 кВА. Время нахождения луча в ний при высокотемпературных нагревах,. тигле с титаном составляло 0,02 — Увеличение содержания титана свыше 0,2 с, а в тигле с WRe - 0,1 - 0,8 с. 40 мас.% не оказывает существенного ' * При последовательном испарении мощвлияния на согласование поглотителя, ность испарителя составляла 2-2,3 кВА но cmr^der предельно допустимую темпри испарении титана и 6-8 кВЛ при пературу нагрева поглотителя и повтоиспарении WRe. Изготовленные пленки ряемость результатов. содержали 25~40 мас.% титана, остальное WRe. В чроцессе стабилизирующего отзни- 20 га в среде водород,? нанесенная плен™ Пленочный поглотитель наносили на -цд претерпевает изменения. При стабидиэлектрические опоры из А-995, ВеО лизирующем отжні'е сопротивление плени ВИ с чистотой поверхности 0,63 при ки WUe уменьшается из-за отжига детемпературе 923150 К в вакууме не фектов. Титан, дополнительно введен- 25 хуже 5 -1С"4 На. ный в состав материала поглотителя, Нанесение поглотителя осуществляли окисляется кислородом, содержащимся как послойным, так и одновременным исв камере водородной печи, так как парением титана и вольфрам-рения с позначение точки росы составляет 213-233К. мощью электронно-лучевого испарения. При нагреве поглотителя в среде ' 30 Мощность испарителя составляла 58 кВЛ. Заданное процентное соотношеводорода до температуры ниже 950 С • ние материалов получали заданием скопроцесс отжита дефектов пленки и прорости напыления, при этом время нахожцесс окисления титана проходят не дения прыгающего луча в тигле с титаполностью, что приводит к снижению . стабильности сопротивления поглоти25 ном составляло 0,1 с, а в тигле с WRe - 0,5 с. Заданное распределение теля. Увеличение температуры стабилисопротивления по длине поглотителя зирующего отжига выше 1120°С вплоть получали с помощью устройства для предо 1527°С не охазь'впет существенного цизионного нанесения поглотителя с влияния па параметры поглотителя „ио требует больших энергетических затрат. 40 подвижными частями трафарета и автоматическим управлением скоростью переТаким образом, предлагаемый спомещения. соб изготовления поглотителей улуч-" діает стабильность коэффициента стоящей волны пий температурных воздействиях, уиг.'шчппает выход годных с 45 30 до 100/І, повышает стабильность параметров и допустимый уровень рассеиваемоі'і в поглотителе мощности СБЧсигнала. Іірикер реализации способа. г« Mjтериал для пленочного поглотителя СВЧ-энергин иолулалн путем одновременного испарения титана и вольфрам-рения, л также путем послойного испарения титана и фоль) 5 фррм-рения. В обоих случаях испарение исходных навесок указанных М Р - ' таллоя осуществляли в установке вакуумного напыления УВИ-83П-1 при давле Ипепку наносили с учетом поправочного коэффициента к-,, при этом U. ; = «к } -К 1 ; kj изменяли от 2 -10~эири H3i. = -2Ь0 к0м/а до 2 при К Э { ~ 5 0 Ом/п. После нанесения поглотителя осуществляли его стабилизирующий отжиг в среде водорода-с точкой росы 223 К при температуре/ 1356 К и выдержке при этой температуре 5 мин. Ф о р м у л а и з о б р е т е н и я , Способ изготовления пленочного поглотителя СВЧ-энергии, содержащего 37-5 мас.% ренин и вольфрам, включающий нанесение пленки на подложку и стабилизирующий отжиг, о т л и ч а ю 1521161 6 тана, а стабилизирующий отжиг провощ и й с я тем, что, с целью повыше* дят при температура 950-И20 С в ат** ния выхода годных и термостабильносмосфере водорода с точкой росы 213ти поглотителя і материал пленки со233 К. держит дополнительно 25-40 мас.% ти Редактор Т.Юрчикова Составитель Ь.Логутко Техред А.Кравчук Корректор М.Шароши Заказ 21Ы/ДСП Тираж 332 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент"» г.Ужгород, ул. Гагарина,101