Спосіб отримання наноструктурованого станум телуриду
Номер патенту: 62087
Опубліковано: 10.08.2011
Автори: Дзундза Богдан Степанович, Харун Лідія Тарасівна, Фреїк Дмитро Михайлович, Чав'як Іван Ігорович, Юрчишин Ігор Костянтинович
Формула / Реферат
1. Спосіб отримання наноструктурованого станум телуриду, що включає відкрите випаровування у вакуумі, при якому вихідну речовину випаровують із наперед синтезованої сполуки SnTe при температурі випаровування наважки Тв, осаджують на підкладку (0001) слюди при температурі Тп протягом певного часу t, який відрізняється тим, що температура випарника складає Тв= (970±10) К, температура підкладки - Тп= (420-520) К.
2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що товщина отриманих наноструктур складає (90-100) нм.
Текст
1. Спосіб отримання наноструктурованого станум телуриду, що включає відкрите випаровування у вакуумі, при якому вихідну речовину випа 3 62087 яка відбувається при товщинах d(90-100)нм і призводить до різкого зростання термоелектричної 2 потужності (S ) (фіг.1). Спосіб конкретного виконання Спосіб отримання наноструктурованих напівпровідникових сполук здійснюють таким чином. В якості наважки використовують синтезовану сполуку SnTe, яку випаровують у відкритому вакуумі при температурі Тв, а при температурі Тп осаджують пару t на підкладки із свіжих сколів по площині (0001) слюди-мусковіт. Комп’ютерна верстка М. Ломалова 4 Температура випаровування сполуки SnTe складає Тв=(970±10) К, температура підкладки Тп=(420-520) К, а товщина осадженого наноматеріалу р-SnTe - (90-100) нм. Перелік фігур креслення На фіг.1 зображено: Залежність термоелект2 ричної потужності S від товщини d для свіжовирощених плівок SnTe. Температура випаровування Тв=(970±10) К, температура осадження (підкла(підкладки) Тп=420-520 К. Підписне Тираж 23 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod of producing nanostructured telluride stannum
Автори англійськоюFreik Dmytro Mykhailovych, Dzundza Bohdan Stepanovych, Yurchyshyn Ihor Kostiantynvych, Chaviak Ivan Ihorovych, Harun Lidiia Tarasivna
Назва патенту російськоюСпособ получения наноструктурированного станум теллурида
Автори російськоюФреик Дмитрий Михайлович, Дзундза Богдан Степанович, Юрчишин Игорь Константинович, Чавьяк Иван Игоревич, Харун Лидия Тарасовна
МПК / Мітки
МПК: B82B 3/00
Мітки: наноструктурованого, спосіб, телуриду, отримання, станум
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/2-62087-sposib-otrimannya-nanostrukturovanogo-stanum-teluridu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання наноструктурованого станум телуриду</a>
Попередній патент: Спосіб отримання багатошарових напівпровідникових наноструктур
Наступний патент: Спосіб формування кисневої надструктури в імплантованих магнітних плівках
Випадковий патент: Спосіб управління вентиляційною установкою