Пристрій для вирощування монокристалів з контрольованим відхиленням від стехіометрії

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Пристрій для вирощування монокристалів з контрольованим відхиленням від стехіометрії, що включає двозонну ростову піч опору з розміщеною в ній запаяною скляною ампулою росту з наважками компонентів, який відрізняється тим, що пристрій містить герметичний автоклав з можливістю регулювання тиску газу, в якому розміщено піч, в нижній частині якої знаходиться п'єдестал з розміщеною на ньому ампулою росту та компенсаційний ковпак, нижньою частиною якого накрита ампула росту, а верхня частина якого прикріплена до індуктивно-ємнісного датчика переміщення, з'єднаного з ампулою скляним штоком, розміщеним всередині компенсаційного ковпака.

2. Пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що ампула росту, компенсаційний ковпак та шток виконані з однакового скла.

Текст

1. Пристрій для вирощування монокристалів з контрольованим відхиленням від стехіометрії, що включає двозонну ростову піч опору з розміщеною в ній запаяною скляною ампулою росту з наваж 3 ньої частини ковпака 5 кріпиться датчик переміщення 6, щоб врахувати і компенсувати термічне розширення скла. Датчик переміщення 6 з'єднаний з ампулою скляним штоком 7 і комп'ютером кабелем 8. Вся конструкція знаходиться в автоклаві 9, що розрахований на роботу у вакуумі або під тиском декілька десятків атмосфер. Автоклав вакуумується і заповнюється інертним газом через штуцер 10. Даний пристрій дозволяє вимірювати безпосередній тиск в ампулі і базується на можливості створити різницю зовнішнього і внутрішнього тисків в ампулі, компенсувати вплив термічного розширення скла і виміряти зміну аксіального розміру ампули з достатньою точністю. Приклад конкретного виконання. Описана методика була використана для контролю тиску пари Кадмію при вирощуванні монокристалів CdTe методом Бріджмена при 1110 °C. Синтезований CdTe і 5-10г Cd поміщали у кварцову ампулу, відкачували, запаювали її і приварюва Комп’ютерна верстка Н. Лисенко 65585 4 ли кварцовий шток. Ампулу ставили на п'єдесталі в печі в область високотемпературного плато під компенсаційним ковпаком з кварцового скла. До верхньої частини ковпака фіксували датчик переміщення, що з'єднувався також з ампулою кварцовим штоком. Вся конструкція знаходилася у автоклаві, який вакуумували і заповнювали інертним газом під контрольованим тиском. Після етапу нагрівання і деякої витримки при цій температурі, визначали тиск Cd в ампулі за описаним алгоритмом. Якщо тиск відповідав необхідному, то починали процес вирощування. В іншому разі, змінюючи температуру зони Cd, встановлювали необхідне значення тиску. Джерела інформації: [1] Mochizuki К, Masumoto Т, Miyazaki Т. Patent JP 59035086 (A)/ 1987. [2] Koyama A., Hirano R. Patent US 6,299,680. 2000. [3] Vada M, Suzuki J., Yamazaki T. Patent JP 62021787 (A). 1987. Підписне Тираж 23 прим. Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Device for growth of monocrystals with control deflection from stoichiometry

Автори англійською

Fesh Roman Mykolaiovych, Fochuk Petro Mykhailovych, Heshl Pavel, Kopach Oleh Vadymovych

Назва патенту російською

Устройство для выращивания монокристаллов с контрольным отклонением от стехиометрии

Автори російською

Феш Роман Николаевич, Фочук Петр Михайлович, Гешл Павел, Копач Олег Вадимович

МПК / Мітки

МПК: H01L 21/18, C30B 13/14

Мітки: монокристалів, пристрій, стехіометрії, вирощування, контрольованим, відхиленням

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/2-65585-pristrijj-dlya-viroshhuvannya-monokristaliv-z-kontrolovanim-vidkhilennyam-vid-stekhiometri.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для вирощування монокристалів з контрольованим відхиленням від стехіометрії</a>

Подібні патенти