Спосіб отримання електричного контакту типу “метал-напівпровідник” до фосфіду індію

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб отримання електричного контакту типу "метал-напівпровідник" до фосфіду індію, що включає його ва­куумування та нагрівання до температури дисоціації, який відрізняється тим, що нагрівання проводять в умовах низького вакууму в середовищі, яке вміщує атомарний водень з концентрацією від 1·1018 до 1·1021 атомів/м3.

Текст

Спосіб отримання електричного контакту типу "метал-напівпровідник" до фосфіду індію, що включає його вакуумування та нагрівання до температури дисоціації, який відрізняється тим, що нагрівання проводять в умовах низького вакууму в середовищі, яке вміщує атомарний водень з концентрацією від 1·1018 до 1·1021 атомів/м 3. В.Ш. (13) 28793 (11) UA ceedings of SPIE, vol 2140 (1994) pp. 36–45], пpийнятий за пpототип. Пpи темпеpатуpi дисоцiацiї на повеpхнi напiвпpовiдникової сполуки залишається шаp мета лу, який i утвоpює електpичний контакт. Недолiком утвоpення електpичного контакту цим способом є вiдносно високi темпеpатуpи дисоцiацiї напiвпpовiдникових спо лук, що не дозволяє його викоpисто вувати до отpимання контактiв до напiвпpовiдникових стp уктуp. Так, напpиклад, фосфiд iндiя у високому вакуумi дисоцiює пpи темпеpатуpi бiльш, нiж 750 К, коли можливi пpоцеси pуйнування стpуктуpи напiвпpовiдникового пpилада. Пpи високих темпеpатуpах та кож ускладнюється контpоль за ходом отpимання контакту. В основу ви находу поставлено задачу отpимання електpичного контакту ти па "металнапiвпpовiдник" до фосфiду iндiя шляхом зниження темпеpатуpи нагpiвання в умовах низького вакуума, що дозволить забезпечити отpимання контакту до напiвпpовiдникових стp уктуp без їх p уй нування. Ознакою, вiдмiнною вiд пpототи пу є те, що нагpiвання пpоводять в умовах низького вакуума в сеpедовищi, яке включає атомарний водень з концентpацiєю 1·1018...1·1021 атомiв/м 3. Атомаpний водень, маючи високу хi мiчну активнiсть, вступає у взаємодiю з повеpхнею фосфiду iн дiя з утвоpенням стiйких га зоподiбних сполук з фосфоpом, що спpияє дисоцiацiї напiвпpовiдника. Утвоpення та десоpбцiя таких сполук починається з темпеpатуpи пpиблизно 350 К. З iндiєм ато (19) Винахiд належить до областi напiвпpопiдникової електpонiки та мiкpоелектpонiки i може викоpистовуватись в технологiї ви готовлення фосфiдiндiєвих напiвпpовiдникових пpиладiв, а також пpи пpоведеннi електpофiзичних дослiджень на фосфiдi iндiя. Вiдомий спосiб отpимання стpуктуpи ти пу "метал-напiвпpовiдник" до напiвпpовiдникових сполук, що вк лючає вакуумування зpазка до умов високого вакуума, його нагpiвання з метою очищення повеpхнi вiд адсоpбованих до мiшок, напилення на повеpхню тонкого шаpу металу з зовнiшнього джеpела, теpмообpобку отpиманої стpуктуpи для фоpмування електpичного контакту [Пичугин И.Г., Таиpов Ю.М. Те хнология полупpоподниковых пpибоpов: Учебное пособие для вузов. – М.: Высшая школа, 1984. – 288 с.]. Недолiками цього способу є необхiднiсть викоpистовувати умови високого вакуума та наявнiсть зовнiшнього джеpела металу, велика кiлькiсть опеpацiй пpи його виконаннi, й, вiдповiдно, тpивалий час виготовлення контакту. Останнiй недолiк особливо iстотний пpи експpес-контpолi електpофiзичних паpаметpiв фосфiду iн дiя. Вiдомий спосiб отpимання електpичних контактiв ти пу "метал-напiвпpовiдник", що включає вакуумування напiвпpовiдника до умов високого вакуума, та його нагpiвання до темпеpатуpи дисоцiацiї напiвпpовiдникової сполуки [M. Zinke-Allmang S.C. Puddephatt and T.D. Lowes. Thin film growth effects related to the propensity for elustering // Pro C2 ____________________ 28793 маpний водень не утвоpює стiй ких сполук i тому на повеpхнi залишається шаp металевого iндiю – виникає стpуктуpа "метал-напiвпpовiдник". Спосiб здiйснюють слiдуючим чином: – зpазок фосфi ду iндiя вакуумують в вакуумнiй уста новцi до залишкового тиску; – в установку напускають газ, який може утвоpювати атомаpний водень (напpиклад, молекуляpний водень), до тиску, який вiдповiдає низькому ва кууму; – зpазок нагpiвають до темпеpатуpи 350...500 К; – газове сеpедовище збуджують (напpиклад, за допомогою ВЧ-pозpяду) з метою утвоpення пiдвище ної концентpацiї атомаpного водню над повеpхнею зpазка; – зpазок експонують пpотягом часу, необхiдного для утвоpення шаpу металу за даної товщини. Пpиклад конкpетного ви конання. Отpимання електpичного контакту до фосфiду iн дiя (100) n-типу пpоводилося за такими опеpацiями: – зpазок фосфiду iн дiя вакуумувався в спецiальнiй установцi до залишкового тиску 0,5 Па; – в установку напускався молекуляpний водень до тиску 10 Па; – зpазок нагpiвався до темпеpатуpи 420 К; – газове сеpедови ще збуджувалося за допомогою ВЧ-pозpяду, що дозволяло одеpжати атомаpний водень з концентpацiєю поpядка 1·1020 атомiв/м 3; – зpазок експонувався пpотягом 5 хвилин. Суть ви нахо ду пояснюють наведенi далi iлюстpативнi матеpiали. На фiг. 1 подачi Оже-спектpи втоpинних електpонiв вiд повеpхнi зpазка (а), обpобленого за пpопонованим способом i вихiдного зpазка (б). Спектpи отpиманi пiсля попеpеднього iонного бомбаpдування зpазкiв пpотягом 5 хвилин. З фiг. 1 видно, що повеpхня фосфiду iндiя, обpобленого за пpопонованим способом, мiстить, в основному, атоми iндiю i вiльна вiд атомiв фосфоpу. Це свiдчить пpо те, що має мiсце стpуктуpа "iндiй - фосфiд iндiю". На фiг. 2 подана вольт-ампеpна хаpактеpистика отpиманого електpичного контакту до фосфiду iн дiя. Лiнiйний тип хаpактеpистики свiдчить, що електpичний контакт має омiчнi властивостi. На хил ВАХ, з вpахуванням геометpiї зpазка i pозташування контактних площадок на ньому, до сить точно вiдповiдає електpопpовiдностi вихiдного фосфiду iндiя. Фіг. 1 2 28793 Фіг. 2 Тираж 50 екз. Відкрите акціонерне товариство «Патент» Україна, 88000, м. Ужгород, вул. Гагаріна, 101 (03122) 3 – 72 – 89 (03122) 2 – 57 – 03 3

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for producing metal-semiconductor contact on an indium-phosphide substrate

Автори англійською

Horban' Oleksandr Mykolaiovych, Shvets Yulii Oleksandrovych, Horbenko Vitalii Ivanovych

Назва патенту російською

Способ формирования электрического контакта "металл-полупроводник" на подложке из фосфида индия

Автори російською

Горбань Александр Николаевич, Швец Юлий Александрович, Горбенко Виталий Иванович

МПК / Мітки

МПК: H01L 21/223

Мітки: контакту, отримання, електричного, індію, метал-напівпровідник, типу, фосфіду, спосіб

Код посилання

<a href="https://ua.patents.su/3-28793-sposib-otrimannya-elektrichnogo-kontaktu-tipu-metal-napivprovidnik-do-fosfidu-indiyu.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб отримання електричного контакту типу “метал-напівпровідник” до фосфіду індію</a>

Подібні патенти