Спосіб монтажу інтегральних схем
Номер патенту: 9158
Опубліковано: 30.09.1996
Автори: Молчанов Костянтин Вікторович, Букевич Юрій Дмитрович, Желєзняков Борис Григорович
Формула / Реферат
1. Способ монтажа интегральных схем, включающий формирование контактных .площадок кристалла и основания, нанесение на контактные площадки соединительного токопроводящего материала, взаимное их ориентирование и присоединение, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса монтажа, контактные площадки формируют из ферромагнитного металла, соединительным токопроводящим материалом является полимерная пленка с ферромагнитным наполнителем, а присоединение осуществляют в магнитном поле напряженностью 1700-2200Э одновременно с нагревом до температуры 70-200°С в течение 5-15 сек.
2. Способ монтажа интегральных схем по п.1, отличающийся тем, что нагрев пленки осуществляют в течение 5-15 сек в магнитном поле напряженностью 1700-2200Э, а в качестве ферромагнитного наполнителя используют никелевый порошок с размером зерна менее 2 мкм.
Текст
ЛЛЯ СЛУЖТЬИОГО ПОЛЬЗОВАНИЯ ЭКЗ № СОЮЗ СОВЕТСНИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИН (19) SU™, Я13852 3(51) 0001 Д2 И 01 L 2 ( / 6 0 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬГГИЙ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3213633/18-25 (22) 21.10.80 (72) Б.Г. Железняков, Ю.Д. Букевич и К.В. Молчанов (53) 621.382(088.8) (56) 1. Скарлетт Д. "Транзисторнотранзисторные логические интегральные схемы и их применение", М., "Мир", 1974, с. 23-24. 2 . Минаков В.И. и Коган М.З. Производство тонкопленочных микросхем. М., "Энергия", 1973, с. 76-78 (прототип) . (5*0(57) СПОСОБ М Н А А ИНТЕГРАЛЬНЫХ О ТЖ СХЕМ, включающий формирование контактных площадок кристалла и основания, нанесение на контактные площадки соединительного токопроводящего материала, взаимное их ориентиро вание и присоединение, о т л и ч а ю щ и й ся тем, что, с целью упрощения процесса монтажа, контактные площадки формируют из ферромагнитного металла, соединительным то* копроводящнм материалом являемся полимерная пленка с ферромагнитным наполнителем, а присоединение осуществляют в магнитном поле напряженностью 1700-2200 Э одновременно с нагревом до температуры 7О-2ОО°С в течение 5-J5 сек. 2. Способ монтажа интегральных схем по п. 1, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что нагрев пленки осуществляют в течение 5-15 сек в магнитном поле напряженностью 1700-2200 Э, а в качестве феррамагнитного наполнителя используют никелевый порошок с разме* ром зерна менее 2 мкм. СО 2 1 9 3852 ва в жидком состоянии, располагаясь Изобретение относится к области по линиям напряженности магнитного микроэлектроники и может быть испольполя, образует проводящие цепочки, зовано при сборке интегральных схем определяющие омический контакт между для соединения контактных площадок с соединяемыми контактными площадками. кристалла и основания. t В качестве компонентов пленки могут Известен способ монтажа интегральиспользоваться полимеры с ферромагных схем, включающей соединение криснитным наполнителем, например мелкоталла и основания с помощью алюминидисперсным никелем с размером зерна евых или золотых проволочек ультразвуковой или термокомпрессионной to менее 2 мкм. Полимер и количество наполнителя выбирают таким образом, сваркой СП. Присоединение контактчтобы обеспечить в тонком слое прозных площадок интегральных схем к трарачность композиции, достаточную версам основания приваркой проволочек для осуществления операции совмещения производится поочередно для каждого контактных площадок методом "перевервывода и является наиболее трудоемнутого кристалла". Предельная дозикой операцией сборки. ровка ферромагнитного наполнителя Наиболее близким к описываемому зависит от напряженности магнитного изобретению по технической сущности поля, степени неоднородности по его и достигаемому результату является сечению, требуемого числа микроконспособ монтажа интегральных схем, 20 тактов и необходимого их удельного включающий формирование контактных сопротивления. Например, дозировка площадок кристалла и основания, нанаполнителя * 2% позволяет получить несение на контактные площадки соеэлектрический контакт с удельным динительного токопроводящего матесопротивлением Р - 0 , 1 5 0м мм г /см, риала, взаимного их ориентирова25 а при 11% величина jO пленки в напния и присоединения [ 2 ] . равлении микроконтактов составляет Недостатком данного способа явля0,0043 см'Мм /см при сохранении ее ется необходимость формирования на изолирующих свойств в направлеконтактных площадках кристалла коннии, перпендикулярном к проводящим тактных выступов осаждением золота 30 цепочкам. на кристалл в вакууме с последующей Температура нагрева зависит от фотолитографией и травлением для притемпературы плавления, применяемого дания выступам формы усеченной пираполимера, но она не должна превышать миды или полусферы. 200°С, т . к . повышенная температура Целью изобретения является упроще35 отрицательно влияет на структуры ние процесса монтажа. кристалла. Таким образом, нагрев Поставленная цель достигается осуществляется до температуры 70тем, что в способе монтажа интеграль200°С в зависимости от применяемого ных схем, включающем формирование конполимера. Продолжительность нагрева тактных площадок кристалла и осноопределяет: вязкость полимера в вания, нанесение на контактные плорасплавленном состоянии и мощность щадки соединительного токопроводящего электромагнита. Нагрев прекращают материала, взаимное их ориентировапосле того как ферромагнитный наполние и присоединение, контактные плонитель сформируется под действием щадки формируют из ферромагнитного ,металла, соединительным' токопроводя 45 магнитного поля в цепочечные структуры между ферромагнитными площадками щим материалом является полимерная кристалла и основания. Время нагрепленка с ферромагнитным наполнителем, ва составляет 5-15 сек. При этом а присоединение осуществляют в магнитнапряженность магнитного поля, воздей ном поле напряженностью 1700-2200 Э одновременно с нагревом до темпера- 50 ствующего на ферромагнитный наполнитель, должна составлять 1700туры 70 - 200°С в течение 5-15 сек, 2200 Э. причем в качестве ферромагнитного наполнителя используют никелевый пороП р и м е р . На стеклянном основашок с размером зерна менее 2 мкм. нии методами вакуумного напыления ниВ процессе присоединения кристал- 55 келя толщиной 1,2-1,k мкм и фотолитографии формировались токопроводящие ла к основанию ферромаїнитный наникелевые дорожки с контактными полнитель, находящийся в поїймерной площадками. Аналогичным способом пленке, пребывающей во время нагре 913852 получали никелевые контактные площадки на кристалле. Пленку полиэтилена толщиной 0,1-0,05 мм, по р а з мерам на 0 , 1 - 0 , 5 мм большую чем присоединяемый кристалл (содержащую 2% никелевого порошка с размером зерен менее 2 мкм) накпадывали на контактные площадки основания, помещаемого на монтажный столик, обеспечивающий прогрев молимера до 190°С и его облучение магнитным полем напряженностью 2000 Э, создаваемым электромагнитом. Присоединение производилось путем совмещения контактных площадок по методу "перевернутого кристалла" и прижима его к основанию с усилием 200 г / с м 2 . Нагрев и облучение электромагнитным полем осуществляли одновременно, а совмещение - после расплавления полиэтилена. Под действием электромагнита никелевый порошок организовывался в цепочечные структуры, располагающиеся по линиям магнитного поля, образованным между соединяе'мыми никелевыми контактными площадками, являющимися концентраторами магнитного поля. * Кристапл, основание и расплавленный полиэтилен выдерживали в магнитном поле 5-15 сек для ориентирования и формирования омических контактов. 5 10 15 20 25 После охлаждения и затвердевания полиэтилена выключали электромагнит и направляли интегральные схемы на дальнейшую сборку. Предложенный способ монтажа интег-г ральных схем позволяет исключить использование для монтажа золота, идущего на формирование контактных выступов при монтаже методом "перевернутого кристалла", а также позволяет исключить образование интерметаллических соединений во время термокомпрессионной сварки и тем самым повысить надежность контакта, упростить процесс и автоматизировать сборку интегральных микросхем. Использование предложенного способа позволяет повысить производительность труда в 3-4 р а з а . Ориентировочный экономический эффект от внедрения способа монтажа составляет I00 тыс. рублей в год. Составитель В. Утехина РедакторТ\ Техред Т~,2убинчак Заказ 2760/ДГП Тираж 571 Подписное ВНИИЇЇИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская н а б . , д . 4/5 Филиал П П "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 П \
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюManner of installation for integral circuits
Автори англійськоюZhelezniakov Borys Hryhorovych, Bukevych Yurii Dmytrovych, Molchanov Kostiantyn Viktorovych
Назва патенту російськоюСпособ монтажа интегральных схем
Автори російськоюЖелезняков Борис Григорьевич, Вукевич Юрий Дмитриевич, Молчанов Константин Викторович
МПК / Мітки
МПК: H01L 21/60
Мітки: спосіб, інтегральних, схем, монтажу
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/4-9158-sposib-montazhu-integralnikh-skhem.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб монтажу інтегральних схем</a>
Попередній патент: Рециркуляційна сушарка
Наступний патент: Зчіплювальний пристрій для приєднання причепа до тягача
Випадковий патент: Відсаджувальна машина з рухомим решетом