Спосіб визначення структурної досконалості монокристалів
Номер патенту: 22455
Опубліковано: 25.04.2007
Автори: Низкова Ганна Іванівна, Шпак Анатолій Петрович, Молодкін Вадим Борисович, Білоцька Алла Олексіївна, Барабаш Роза Ісаківна, Когут Михайло Тихонович, Григор'єв Данило Олегович, Гинько Ігор Володимирович
Формула / Реферат
Спосіб визначення структурної досконалості монокристалів, що включає визначення товщини поверхневого порушеного шару у монокристалах після механічної обробки та полягає в тому, що на досліджуваний монокристал спрямовують пучок монохроматичного рентгенівського випромінювання, здійснюють асиметричну Брегг-дифракцію, попередньо визначають кути падіння рентгенівського випромінювання на поверхню зразка, яким відповідають спрямовуючі косинуси ,
, де
- кут Брегга,
- кут між відбиваючими площинами та поверхнею монокристала,
- азимутальний кут, при цьому визначають повні інтегральні відбивні здатності відбиттів Riексп
, значення інтегральної відбивної здатності ідеального монокристала Ri perf.cr. та інтегральної відбивної здатності ідеально-мозаїчного кристала Ri ksc визначають за формулами:
,
,
де - дійсна частина фур'є-компоненти поляризовності кристала, С - поляризаційний множник, а - стала ґратки, d - міжплощинна відстань,
- відбивна здатність на одиницю довжини шляху,
- довжина хвилі випромінювання,
- довжина екстинкції, k розраховують за формулою
, де
- нормальний коефіцієнт фотоелектричного поглинання, вимірюють інтенсивність дифрагованого випромінювання та визначають товщину порушеного шару, який відрізняється тим, що інтенсивність дифрагованого випромінювання вимірюють для рефлексів h1k1l1 та h2k2l2 від площин з однаковими значеннями модулів вектора дифракції, але нахиленими до поверхні зразка під різними кутами
, товщину шару, що підлягає видаленню tcд, визначають за формулою:
на досліджуваний монокристал додатково спрямовують пучок монохроматичного рентгенівського випромінювання з довжиною хвилі , та діагностику дефектів монокристала проводять з використанням величини відношення:
Текст
Корисна модель відноситься до рентгенівських ди фракційних способів визначення товщин порушених поверхневих шарів (ППШ) у монокристалах після механічної обробки (різання, шліфування і полірування поверхні), а також середнього радіуса R та концентрації с мікродефектів, хаотично розподілених в об'ємі монокристалів і може бути використана для діагностики в процесі виготовлення мікросхем для приладобудування. У процесі виготовлення інтегральних схем необхідно контролювати зміну дефектної структури монокристала, що характеризується середнім радіусом R та концентрацією с мікродефектів, хаотично розподілених в його об'ємі (ХРД), щоб судити про ступінь досконалості монокристала в цілому. видаляти з поверхні монокристала протяжні за глибиною на десятки мікронів пластично деформовані (зруйновані) ділянки ґратки - порушений поверхневий шар (ППШ). Крім ХРД після фінішної хіміко-механічної поліровки на поверхні монокристала залишаються протягнуті за глибиною на десяті долі мікрона пластично деформовані (зруйновані) участки ґратки - порушений поверхневий шар (ППШ). Неруйнуючий, точний контроль зміни дефектної структури, здійснюваний з метою підвищення якості мікросхем, повинен супроводжуватися контролем характеристик залишкового ППШ. Відомий спосіб не руйнуючого контролю, товщини tн [див. Даценко Л.І. Динамічне розсіювання недосконалими кристалами рентгенівських променів з частотами, близькими до К-краю поглинання /Вісн. АН УРСР - 1975. - №3. С.19-28] шляхом виміру інтегральних інтенсивностей Лауе-дифрагованих пучків IR для несиметричних hkl і hkl рефлексів на двох довжинах хвиль, симетрично розташованих поблизу К-краю поглинання атомів одного з елементів, що входять до складу досліджуваного матеріалу. Недоліком даного способу є те, що він практично не може бути застосованим для контроля слабо поглинаючих матеріалів (зокрема, кремнію), К-край поглинання яких знаходиться за межами області довжин хвиль рентгенівського спектра, крім того не дозволяє визначати характеристики ХРД. Відомий спосіб контролю товщин ППШ, що утворюються при різанні та шлі фуванні монокристалів [див. Е.Н. Кисловский, В.П. Кладько, А.В. Фомин, В.И. Хрупа - Заводская лаборатория, 1985, 51, N7, с.30-31], який полягає в тому, що монокристалічний зразок товщиною t опромінюють пучком монохроматичного рентгенівського випромінювання з довжиною хвилі l , вибраної з умови mt < 1 ( m - лінійний коефіцієнт поглинання, t - товщина зразка), на заданій системі відбиваючих площин здійснюють Лауе-дифракцію випромінювання, визначають інтегральну відбивну здатність досліджуваного зразка Ri(t, tH), визначають інтегральну відбивну здатність для досконалого монокристала без порушеного шару тієї ж товщини Rip(t), за величиною різниці Ri(t, tH) - Rip(t) визначають товщину ППШ tH. Недоліком відомого способу є те, що монокристалічні зразки без порушеного поверхневого шару і з порушеним поверхневим шаром можуть містити хаотично розподілені мікродефекти з різними характеристиками, що значно знижує точність контролю характеристик ППШ. Крім того у відомому способі випромінювання, дифраговане поверхневим шаром з товщиною, набагато меншою довжини екстинкції t
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюMethod for determining the structural order of a monocrystal
Автори англійськоюShpak Anatolii Petrovych, Molodkin Vadym Borysovych, Barabash Rosa Isakivna, Nyzkova Hanna Ivanivna, Kohut Mykhailo Tykhonovych, Bilotska Alla Oleksiivna, Hynko Ihor Volodymyrovych
Назва патенту російськоюСпособ определения структурной упорядоченности монокристалла
Автори російськоюШпак Анатолий Петрович, Молодкин Вадим Борисович, Барабаш Роза Исаковна, Низкова Анна Ивановна, Когут Михаил Тихонович, Билоцкая Алла Алексеевна, Гинько Игорь Владимирович
МПК / Мітки
МПК: G01N 23/20
Мітки: структурної, монокристалів, визначення, спосіб, досконалості
Код посилання
<a href="https://ua.patents.su/3-22455-sposib-viznachennya-strukturno-doskonalosti-monokristaliv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб визначення структурної досконалості монокристалів</a>
Попередній патент: Спосіб визначення внутрішніх напружень
Наступний патент: Пристрій для контролю перекосу опорних металоконструкцій козлового крана
Випадковий патент: Спосіб індукції апоптозу мононуклеарних клітин