Патенти з міткою «кремнії»
Спосіб отримання сонячних елементів на монокристалічному кремнії з використанням нанорозмірного поруватого кремнію
Номер патенту: 116768
Опубліковано: 12.06.2017
Автори: Хрипко Сергій Леонідович, Кідалов Валерій Віталійович, Дяденчук Альона Федорівна
МПК: C30B 29/06, H01L 21/00, H01L 31/00 ...
Мітки: нанорозмірного, кремнію, кремнії, сонячних, поруватого, отримання, спосіб, елементів, використанням, монокристалічному
Формула / Реферат:
1. Спосіб отримання сонячних елементів з використанням поруватого кремнію як антивідбиттєвого покриття, який відрізняється тим, що для отримання якісного покриття порувату поверхню кремнію отримують шляхом електрохімічної обробки монокристалічних кремнієвих зразків у гальваностатичному режимі в електроліті з різними співвідношеннями HF:H2О:C2H5ОH=2:1:1.2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що товщину шарів поруватого кремнію в...
Спосіб визначення концентрації преципітованого кисню в монокристалічному кремнії
Номер патенту: 97884
Опубліковано: 10.04.2015
Автори: Лісовський Ігор Петрович, Литовченко Володимир Григорович, Злобін Сергій Олександрович, Войтович Марія Володимирівна
МПК: H01L 21/66
Мітки: преципітованого, концентрації, кремнії, кисню, спосіб, монокристалічному, визначення
Формула / Реферат:
Спосіб визначення концентрації преципітованого кисню в монокристалічному кремнії, який включає хімічну обробку полірованої з обох сторін пластини кремнію в розчині HF, опромінення її ІЧ світлом і вимірювання смуги ІЧ пропускання в діапазоні 1000-1200 см-1 на валентних Si-Ο зв'язках, який відрізняється тим, що пластину кремнію при вимірюванні смуги ІЧ пропускання додатково охолоджують до температури рідкого азоту 77 К, із зареєстрованої...
Спосіб визначення вмісту бору в полікристалічному кремнії
Номер патенту: 53507
Опубліковано: 11.10.2010
Автори: Реков Юрій Васильович, Єгоров Сергій Геннадійович, Воляр Роман Миколайович, Червоний Іван Федорович
МПК: C30B 13/00
Мітки: спосіб, кремнії, бору, визначення, полікристалічному, вмісту
Формула / Реферат:
Спосіб визначення вмісту бору в полікристалічному кремнії, що включає вирізку і шліфування заготовки з початкового полікристалічного кремнієвого стрижня, хімічне травлення і відмивання її деіонізованою водою, сушіння заготовки, проведення безтигельної зонної плавки, вимірювання на плавленому стрижні питомого електричного опору, який відрізняється тим, що безтигельну зонну плавку проводять в дві стадії, після кожної вимірюють в контрольних...
Спосіб гетерування кисневмісних домішок у кремнії
Номер патенту: 48795
Опубліковано: 12.04.2010
Автори: Теселько Петро Олексійович, Михалюк Ольга В'ячеславівна, Новиков Микола Миколайович
МПК: H01L 21/02
Мітки: спосіб, кисневмісних, домішок, гетерування, кремнії
Формула / Реферат:
Спосіб гетерування кисневмісних домішок у кремнії, що включає відпал пластин у температурній області їх кисневого пересичення, який відрізняється тим, що пластини вводять в напружений стисканням стан, після чого здійснюють їх відпал при температурі 500-700 °С.
Спосіб гетерування рекомбінаційно-активних домішок в монокристалічному та полікристалічному кремнії
Номер патенту: 63399
Опубліковано: 15.01.2004
Автори: Костильов Віталій Петрович, Єфремов Олексій Олександрович, Литовченко Володимир Григорович, Попов Валентин Георгійович, Саріков Андрій Вікторович, Євтух Анатолій Антонович, Рассамакін Юрій Володимирович, Клюй Микола Іванович
МПК: H01L 21/265, H01L 21/322
Мітки: домішок, спосіб, полікристалічному, рекомбінаційно-активних, кремнії, гетерування, монокристалічному
Формула / Реферат:
Спосіб гетерування рекомбінаційно-активних домішок в монокристалічному та полікристалічному кремнії, що включає нанесення на пластину кремнію шару алюмінію та подальший термічний відпал в нейтральному середовищі, який відрізняється тим, що на тильній стороні пластини попередньо формують шар пористого кремнію товщиною 0,5-10 мкм, на який наносять шар алюмінію товщиною 0,3-1 мкм, а термічний відпал проводять в нейтральному середовищі при...
Спосіб гетерування рекомбінаційно-активних домішок в кремнії
Номер патенту: 37744
Опубліковано: 15.05.2001
Автори: Романюк Борис Миколайович, Горбулик Володимир Іванович, Литовченко Володимир Григорович, Клюй Микола Іванович, Мельник Віктор Павлович, Марченко Ростислав Іванович, Попов Валентин Георгійович
МПК: H01L 21/322, H01L 21/265
Мітки: домішок, рекомбінаційно-активних, спосіб, кремнії, гетерування
Текст:
...Ge товщиною 75-500 нм може застосовуватись термічне, електроннопроменеве або магнетронне напилення. Товщина плівки і енергія імплантації іонів інертного газу розраховуються виходячи з умови, щоб середній проекційний пробіг іонів складав ~0,8 товщини плівки германію, чим досягається необхідний ефект перемішування. Температура відпалу знаходиться в інтервалі 900-950°С, час відпалу - не менше 30 хв, що з умовлене необхідністю забезпечення...
Спосіб створення р-n переходів у кремнії
Номер патенту: 15690
Опубліковано: 30.06.1997
Автори: Антонова Валентина Антонівна, Філіпченко Ірина Миколаївна, Клембек Сергій Петрович, Герасімов Алєксєй Борісовіч, Старков Володимир Євгенович
МПК: H01L 21/268
Мітки: створення, переходів, кремнії, спосіб
Формула / Реферат:
(57) Способ создания р-n переходов в кремнии, включающий введение примеси с планарной стороны пластины и диффузионную разгонку примеси импульсным некогерентным излучением с длиной волны из области собственного поглощения кремния в течение времени, необходимого для получения р-n перехода заданной глубины залегания, отличающийся тем, что разгонку осуществляют облучением пластины с непланарной стороны излучением с плотностью мощности не менее 20...
Спосіб виготовлення надпровідної оксидної плівки на кремнії
Номер патенту: 18067
Опубліковано: 17.06.1997
Автори: Кузнецов Геннадій Васильович, Стріха Віталій Ілларіонович, Білоусов Ігор Володимирович, Ільченко Василь Васильович
МПК: H01L 39/24, H01L 39/12
Мітки: оксидної, кремнії, плівки, виготовлення, спосіб, надпровідної
Формула / Реферат:
Способ изготовления сверхпроводящей оксидной пленки на кремнии, предусматривающий предварительное формирование на поверхности кремниевой подложки буферного слоя с последующим нанесением на него сверхпроводящей пленки, отличающийся тем, что буферный слой формируют путем нанесения на поверхность кремниевой подложки слоя оксида бария с последующей выдержкой при температуре 730-750°С в течение 1,5-2 часов.