H01L 21/66 — випробування або вимірювання в процесі виготовлення або обробки
Спосіб контролю якості gaas сонячних елементів
Номер патенту: 70850
Опубліковано: 15.10.2004
Автори: Будник Оксана Петрівна, Данильченко Борис Олександрович, Будник Андрій Петрович
МПК: H01L 21/66
Мітки: якості, сонячних, спосіб, елементів, контролю
Формула / Реферат:
1. Спосіб контролю якості GaAs сонячних елементів сонячних батарей, що включає вимірювання стаціонарних вольт-амперних характеристик зразка при освітленні, який відрізняється тим, що елементи попередньо опромінюють тестовим потоком електронів і контролюють зміну основних параметрів, отриманих з вольт-амперних характеристик. 2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що опромінення проводиться потоком електронів з енергією 1 МеВ,...
Пристрій безконтактного вимірювання температури поверхні нагрітих тіл
Номер патенту: 61515
Опубліковано: 17.11.2003
Автори: Стефаненко Віталій Віталійович, Стефаненко Віталій Кузьмович, Скубілін Міхаіл Дємьяновіч, Скубілін Ігорь Міхайловіч
МПК: H01L 21/66, G01J 5/58
Мітки: тіл, пристрій, поверхні, вимірювання, нагрітих, безконтактного, температури
Формула / Реферат:
Пристрій безконтактного вимірювання температури поверхні нагрітих тіл, що містить вхід із прозорого в робочому спектральному діапазоні матеріалу оптичного зв'язку і датчик випромінювання нагрітого тіла, розташований у фокальній площині і на осі входу, який відрізняється тим, що в нього введені другий датчик (приймач) випромінювання, розташований у фокальній площині і симетрично з першим датчиком на оптичній осі входу, перший і другий...
Тонкоплівковий перетворювач випромінювання прямої дії
Номер патенту: 61534
Опубліковано: 17.11.2003
Автори: Гордієнко Юрій Омелянович, Бородін Борис Григорович, Яковлєв Дмитро Рудольфович
МПК: H01L 21/66
Мітки: перетворювач, випромінювання, дії, прямої, тонкоплівковий
Формула / Реферат:
Тонкоплівковий перетворювач випромінювання прямої дії, який виконаний у вигляді розташованої між двома скляними пластинами тонкоплівкової структури, що містить джерело змінної напруги, приймач випромінювання та електролюмінесцентний випромінювач, який відрізняється тим, що в нього введені джерела постійної напруги та опорного сигналу, а структура виконана у вигляді матриці, в кожну комірку якої введено підсилювач сигналу від фотоприймача, що...
Спосіб вимірювання об’ємного часу життя та швидкості поверхневої рекомбінації носіїв заряду у напівпровідниках
Номер патенту: 57427
Опубліковано: 16.06.2003
Автори: Гордієнко Юрій Омелянович, Бабиченко Сергій Васильович, Бородін Борис Григорович
МПК: G01R 31/26, H01L 21/66
Мітки: заряду, вимірювання, рекомбінації, об`ємного, поверхневої, життя, спосіб, швидкості, часу, носіїв, напівпровідниках
Формула / Реферат:
Спосіб вимірювання об'ємного часу життя і швидкості поверхневої рекомбінації носіїв заряду у напівпровідниках, який заснований на розміщенні досліджуваного напівпровідникового зразка в НВЧ резонаторному вимірювальному перетворювачі, освітленні його гармонійно модульованим монохроматичним світлом, виділенні на виході вимірювального перетворювача сигналів фотопровідності, який відрізняється тим, що здійснюють вимірювання спектрального...
Спосіб пірометричного вимірювання
Номер патенту: 55788
Опубліковано: 15.04.2003
Автори: Аврамєнко Анатолій Васільєвіч, Пісьмєнов Алєксандр Владіміровіч, Скубілін Міхаіл Дємьяновіч
МПК: H01L 21/66, G01J 5/58, H01L 21/00 ...
Мітки: вимірювання, пірометричного, спосіб
Формула / Реферат:
Спосіб пірометричного вимірювання, який полягає в тому, що він передбачає прийом теплового випромінювання об'єкта і його спектральну фільтрацію, який відрізняється тим, що вимірювання інтенсивностей випромінювання здійснюють на двох фіксованих довжинах хвиль, а температуру поверхні об'єкта розраховують як частку від ділення відносної різниці інтенсивностей випромінювань на відрізних довжинах хвиль на різницю довжин цих хвиль.
Спосіб контролю складу складних напівпровідникових з’єднань
Номер патенту: 55342
Опубліковано: 17.03.2003
Автори: Яблонівській Євгеній Іванович, Малютенко Володимир Костянтинович, Болгов Сергій Семенович
МПК: H01L 21/66
Мітки: контролю, напівпровідникових, складних, спосіб, з'єднань, складу
Формула / Реферат:
Способ контроля состава сложных полупроводниковых соединений, включающий возбуждение люминесценции в полупроводниковой пластине, регистрацию люминесценции, измерение температуры пластины и определение состава, отличающийся тем, что, с целью повышения точности контроля для узкозонных соединений при упрощении способа, возбуждение полупроводниковой пластины производят путем помещения ее в скрещенные электрическое и магнитное поля, вектора...
Спосіб визначення рухливості неосновних носіїв заряду в твердих тілах і відношення питомих провідностей неосновних і основних носіїв заряду
Номер патенту: 53110
Опубліковано: 15.01.2003
Автор: Угрин Юрій Орестович
МПК: H01L 21/66
Мітки: носіїв, твердих, провідностей, спосіб, тілах, рухливості, визначення, основних, питомих, неосновних, відношення, заряду
Формула / Реферат:
Спосіб визначення рухливості неосновних носіїв заряду в твердих тілах і відношення питомих провідностей неосновних і основних носіїв заряду, що включає внесення зразка твердого тіла в магнітне поле перпендикулярно прикладеній напрузі, вимірювання питомого опору при виключеному магнітному полі, який відрізняється тим, що вимірюють точку перегину поперечного магнітоопору і величину магнітоопору в цій точці, а рухливість неосновних носіїв...
Спосіб контролю однорідності напівпровідників
Номер патенту: 43935
Опубліковано: 15.01.2002
Автори: Болгов Сергій Семенович, Малютенко Володимир Костянтинович, Мороженко Василій Олександрович, Омеляновській Еразм Михайлович, Морозов Володимир Олексійович, Глушков Євгеній Олександрович
МПК: H01L 21/66
Мітки: спосіб, контролю, напівпровідників, однорідності
Формула / Реферат:
Формула изобретения1. Способ контроля однородности полупроводников, включающий изготовление пластины полупроводника толщиной 1, определяемой соотношением a×1<<1, где a - коэффициент поглощения излучения на свободных носителях заряда, отличающийся тем, что, с целью повышения экспрессности при сохранении высокой точности, пластину нагревают до температуры выше фоновой, регистрируют тепловое изображение образца и по...
Тестова структура
Номер патенту: 42481
Опубліковано: 15.10.2001
Автори: Добровольський Юрій Георгійович, Біксей Михайло Петрович
МПК: H01L 21/66
Формула / Реферат:
Тестова структура, яка містить напівпровідникову підкладку та розташовану на її поверхні ізолюючу маску з відкритими в ній отворами, які закриваються ділянками металічних шин, які контактують через отвори з підкладкою і утворюють два резистивні ланцюжки, отвори в одному з яких мають форму прямокутників, а в другому - форму кругів, діаметр кожного з яких дорівнює меншій з сторін прямокутного отвору, яка відрізняється тим, що перший резистивний...
Спосіб вимірювання об’ємного часу життя та швидкості поверхневої рекомбінації носіїв заряду у напівпровідниках
Номер патенту: 38308
Опубліковано: 15.05.2001
Автори: Бородін Борис Григорович, Гордієнко Юрій Омелянович
МПК: H01L 21/66, G01N 21/41
Мітки: носіїв, поверхневої, рекомбінації, часу, вимірювання, життя, напівпровідниках, швидкості, спосіб, об`ємного, заряду
Формула / Реферат:
Спосіб вимірювання об'ємного часу життя і швидкості поверхневої рекомбінації носіїв заряду у напівпровідниках, який заснований на розміщенні досліджуваного напівпровідникового зразка в НВЧ резонаторному вимірювальному перетворювачі, освітленні його по черзі світлом яке сильно і слабко поглинається у матеріалі напівпровідника, виділенні на виході резонаторного вимірювального перетворювача сигналів фотопровідності при сильному і...
Засіб контролю однорідності напівпровідникової пластини
Номер патенту: 29571
Опубліковано: 15.11.2000
Автори: Савченко Ганна Павлівна, Болгов Сергій Семенович, Малютенко Володимир Костянтинович
МПК: H01L 21/66
Мітки: контролю, засіб, однорідності, пластини, напівпровідникової
Текст:
...20 ра. На пути оптического пучка у с т а навливают коротковолновый фильтр и з лучения. Регулировка длинноволнового края поглощения достигается путем 25 его перемещения в направлении, перпендикулярном оптической оси линзовой системы. Фильтр имеет метки, п о казывающие ДЛИННОЕОЛНОВЬЕЙ край поглощения в данной точке фильтра. По этим меткам можно судить -о длине волны, 30 соответствующей границе фильтрации 7чгр на уровне оптической оси линзовой...
Спосіб визначення концентрації незаповнених глибоких центрів в польових транзисторах з бар’єром шоткі
Номер патенту: 27246
Опубліковано: 15.08.2000
Автори: Еппель Володимир Ілліч, Уколов Олексій Тихонович, Прохоров Євген Федорович, Макарова Тетяна Викторівна, Коджеспірова Іна Федорівна, Горев Микола Борисович
МПК: H01L 21/66
Мітки: центрів, незаповнених, визначення, бар'єром, глибоких, транзисторах, спосіб, концентрації, шоткі, польових
Текст:
...dy V2 = \Eydy; kT nm(0) _ A '\Eydy+\Eydy 'J nm(0) -С(у) N. NtsNot{y) 2Nls-t(y) я = \n m L In A D = B +C где ЛГС - эффективная плотность состояний в зоне проводимости полупроводника, для арсенида галлия =4,3-10 1 7 см 3 , /- длина затвора, h - толщина пленки, к - постоянная Больцмана, q - заряд электрона, є - диэлектрическая проницаемость арсенида галлия. ЕО - электрическая постоянная, п, - параметр Шокли-Рида,...
Спосіб визначення концентрації глибоких центрів у широкозонному напівпровіднику польового транзистора на прямій gaas – gaalas гетероструктурі з селективним легуванням
Номер патенту: 26626
Опубліковано: 11.10.1999
Автори: Горєв Микола Борисович, Макарова Тетяна Викторівна, Еппель Володимир Ілліч, Коджеспірова Іна Федорівна, Уколов Олексій Тихонович, Прохоров Євген Федорович
МПК: G01R 31/26, H01L 21/66
Мітки: напівпровіднику, спосіб, легуванням, широкозонному, концентрації, прямій, глибоких, транзистора, центрів, польового, gaalas, визначення, гетероструктурі, селективним
Формула / Реферат:
Способ определения концентрации глубоких центров в широкозонном полупроводнике полевого транзистора на прямой GaAs-GaAlAs гетероструктуре с селективным легированием, включающий приложение к барьеру Шотки обратного смещения V и импульса прямого смещения Vим, измерение тока и вычисление искомой величины, отличающийся тем, что к омическим контактам (истоковому и стоковому) прикладывают постоянное напряжение Uси, соответствующее линейному...
Спосіб атестації діелектричної плівки
Номер патенту: 18962
Опубліковано: 25.12.1997
Автори: Гриценко Микола Іванович, Мошель Микола Васильович, Клименко Анатолій Семенович
МПК: H01L 21/66, G01N 21/88
Мітки: діелектричної, спосіб, плівки, атестації
Формула / Реферат:
1. Спосіб атестації діелектричної плівки, що полягає в розміщенні плівки на провідній підкладці, нанесенні на поверхню цієї плівки металевих електродів, формуванні на електродах шару нематичного рідкого кристалу (НРК), обмеженого зверху скляною пластиною з прозорим електропровідним шаром, подачі на провідну підкладку І прозорий електропровідний шар електричної напруги, який відрізняється тим, що електроди на діелектричну плівку наносять...
Спосіб контролю товщини діелектричних плівок
Номер патенту: 18961
Опубліковано: 25.12.1997
Автори: Гриценко Микола Іванович, Мошель Микола Васильович, Клименко Анатолій Семенович
МПК: H01L 21/66
Мітки: спосіб, діелектричних, контролю, товщини, плівок
Формула / Реферат:
Спосіб контролю товщини діелектричних плівок, згідно якого на контрольованій плівці послідовно розміщують шар нематичного рідкого кристалу (НРК) І покривне скло з оптично прозорою електропровідною плівкою, на електропровідну плівку подають електричну напругу, фіксують момент переорієнтації НРК і визначають товщину діелектричної плівки, який відрізняється тим, що момент переорієнтації НРК визначають, змінюючи частоту напруги при фіксованій...
Спосіб контролю якості польового транзистора
Номер патенту: 21228
Опубліковано: 04.11.1997
Автори: Власюк Віталій Анатолійович, Свєчніков Сергій Васильович, Демченко Ірина Миколаївна, Смертенко Петро Семенович, Цимбал Анатолій Йосипович, Починко Нестор Васильович
МПК: H01L 21/66, G01R 31/26
Мітки: спосіб, польового, контролю, транзистора, якості
Формула / Реферат:
Способ контроля качества полевого транзистора, включающий измерение вольт-амперной характеристики исток-сток, отличающийся тем. что измеряют величину дифференциального наклона вольт-амперной характеристики в двойном логарифмическом масштабе a =dlnl/dlnV при двух значениях напряжения: V1=Vp, соответствующего рабочему току Ір, и V2=Vр/n при n=2...5, и отбирают полевые транзисторы, сопоставляя параметры a1, a2, I1, I2 с эталонными, где a1 и a2,...
Спосіб контролю стабільності польового транзистора
Номер патенту: 21194
Опубліковано: 04.11.1997
Автори: Чех Михайло Борисович, Цимбал Анатолій Йосипович, Смертенко Петро Семенович, Свєчніков Сергій Васильович
МПК: H01L 21/66, G01R 31/26, H01L 29/72 ...
Мітки: польового, стабільності, спосіб, транзистора, контролю
Формула / Реферат:
Способ контроля стабильности полевого транзистора, включающий измерение напряжения затвор-исток, отличающийся тем, что измеряют напряжение между затвором и истоком Uз-и при определенном напряжении между стоком и истоком Uc-м, затем пропускают прямой ток Iс через стоковый переход в течение времени t при определенном Uз-и и снова измеряют U~з-и, а о стабильности полевого транзистора судят по величине DUз-и = U~з-и – Uз-и.
Спосіб контролю придатності елементів дискретної дії галенка
Номер патенту: 12412
Опубліковано: 28.02.1997
Автор: Галенко Віктор Павлович
МПК: G01R 31/26, H01L 21/66
Мітки: дії, придатності, елементів, галенка, контролю, спосіб, дискретної
Формула / Реферат:
1. Способ контроля годности элементов дискретного действия, состоящий в том, что измеряют значения электрических параметров элемента и определяют их соответствие ожидаемым значениям, отличающийся тем, что в качестве упомянутых электрических параметров измеряют амплитудный и временной пороги при переключении элемента из 0 в 1 и/или при переключении элемента из 1 в 0.2. Способ контроля годности элементов дискретного действия по п.1,...
Спосіб контролю електрофізичних параметрів напівпровідників
Номер патенту: 11658
Опубліковано: 25.12.1996
Автори: Любченко Олексій Вікторович, Ергаков Валерій Костянтинович, Карачевцева Людмила Анатольєвна, Сальков Євген Андрійович, Рябіков Віктор Михайлович, Лукинський Юрій Леонідович
МПК: H01L 21/66
Мітки: параметрів, напівпровідників, контролю, спосіб, електрофізичних
Формула / Реферат:
Способ контроля электрофизических параметров полупроводников, основанный на измерении электропроводимости, коэффициента Холла в слабом магнитном поле и зависимости коэффициента Холла от величины магнитного поля, отличающийся тем, что, с целью повышения точности раздельного определения концентрации и подвижности электронов и дырок в CdxHg1-xTe и InSb р-типа проводимости, дополнительно производят измерение коэффициента Холла при значении...
Тестова структура для контролю технологічних параметрів інтегральних схем
Номер патенту: 4059
Опубліковано: 27.12.1994
Автори: Остапчук Анатолій Іванович, Молчанов Костянтин Вікторович, Чекмезов Олександр Миколайович, Ілюк Ігор Євгенович, Пенцак Іван Борисович
МПК: H01L 21/66
Мітки: тестова, технологічних, параметрів, схем, інтегральних, структура, контролю
Формула / Реферат:
Тестовая структура для контроля технологических параметров интегральных схем, содержащая полупроводниковую подложку со сформированными на ней квадратным и полосчатым резисторами, а также соединенные с ними проводящие дорожки, имеющие контактные площадки на концах, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит второй квадратный резистор, а на поверхность структуры нанесен маскирующий слой с окнами, расположенными над полосчатым и одним из...
Спосіб визначення малих доз іонного легування
Номер патенту: 3213
Опубліковано: 26.12.1994
Автори: Новосядлий Степан Петрович, Карплюк Олександр Іванович
МПК: H01L 21/66
Мітки: доз, спосіб, малих, іонного, визначення, легування
Формула / Реферат:
Способ определения малых доз ионного легирования, включающий измерения неравновесных импульсных вольтфарадных характеристик предварительно легированной тестовой МДП-структуры, отличающийся тем, что предварительное легирование тестовой структуры осуществляют ионной имплантацией примеси, создающей тип проводимости, противоположный типу проводимости подложки, до концентрации, равной или большей концентрации примеси в подложке, вольтфарадные...
Засіб визначення концентрації незаповнених глибоких центрів у структурі низькоомна плівка-високоомна підложка
Номер патенту: 1621
Опубліковано: 25.10.1994
Автори: Прохоров Євген Федорович, Макарова Тетяна Вікторовна, Горев Микола Борисович, Уколов Олексій Тихонович
МПК: H01L 21/66
Мітки: структури, низькоомна, плівка-високоомна, незаповнених, концентрації, підложка, засіб, визначення, глибоких, центрів
Формула / Реферат:
Способ определения концентрации незаполненных глубоких центров в структурах низкоомная пленка—высокоомная подложка, включающий создание контактов к пленке, измерение зависимости тока от напряжения между контактами и вычисление искомой величины, отличающийся тем, что, с целью упрощения и повышения информативности способа по крайней мере один из контактов выполняют в виде прижимного зонда, создающего барьер Шоттки, прикладывают к нему...